法人番号:1010401164466
テクセンドフォトマスク株式会社
情報更新日:2024年11月11日
テクセンドフォトマスク株式会社とは
テクセンドフォトマスク株式会社（テクセンドフォトマスク）は、法人番号:1010401164466で東京都港区東新橋1丁目5番2号に所在する法人として東京法務局港出張所で法人登録され、2021年12月16日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役二ノ宮照雄。設立日は2021年12月13日。従業員数は480人。登録情報として、届出情報が1件、特許情報が6件、職場情報が1件が登録されています。なお、2024年11月01日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2024年11月11日です。
インボイス番号:T1010401164466については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。三田労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
テクセンドフォトマスク株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | テクセンドフォトマスク株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | テクセンドフォトマスク |
| 法人番号 | 1010401164466 |
| 会社法人等番号 | 0104-01-164466 |
| 登記所 | 東京法務局港出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T1010401164466 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒105-0021 ※地方自治体コードは 13103 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,322,587件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 港区 ※港区の法人数は 155,719件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 東新橋1丁目5番2号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都港区東新橋1丁目5番2号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトミナトクヒガシシンバシ1チョウメ |
| 代表者 | 代表取締役 二ノ宮 照雄 |
| 設立日 | 2021年12月13日 |
| 従業員数 | 480人 |
| 更新年月日更新日 | 2024年11月11日 |
| 変更年月日変更日 | 2024年11月01日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2021年12月16日 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 三田労働基準監督署 〒108-0014 東京都港区芝5-35-2安全衛生総合会館3階 |
テクセンドフォトマスク株式会社の場所
テクセンドフォトマスク株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2024年11月01日 | 【名称変更】 名称が「テクセンドフォトマスク株式会社」に変更されました。 |
| 2023年07月24日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都港区東新橋1丁目5番2号」に変更されました。 |
| 2021年12月16日 | 【新規登録】 名称が「株式会社トッパンフォトマスク」で、「東京都港区芝浦3丁目19番26号」に新規登録されました。 |
テクセンドフォトマスク株式会社の法人活動情報
テクセンドフォトマスク株式会社の届出情報(1件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
- | 代表者:代表取締役 二ノ宮 照雄 全省庁統一資格 / - |
テクセンドフォトマスク株式会社の特許情報(6件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年08月07日 特許庁 / 特許 | フォトマスク及びその検査方法 FI分類-G03F 1/36, FI分類-G03F 1/44, FI分類-G03F 1/84 |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54 |
2020年01月08日 特許庁 / 特許 | タングステンブランクス及びタングステン加工品の製造方法 FI分類-C23F 1/12, FI分類-C23F 4/00 A, FI分類-C23F 1/00 102 |
2019年12月18日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、反射型マスクの製造方法、及び反射型マスクの修正方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-H01L 21/302 201 B |
2019年11月14日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | パターン形成体の製造方法 FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
テクセンドフォトマスク株式会社の職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | フォトマスク（半導体の原版）の製造 |
企業規模 | 480人 男性 378人 / 女性 38人 |
女性労働者の割合 範囲 正社員 | 33.9% |
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