レーザーテック株式会社

レーザーテック株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

レーザーテック株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	レーザーテック株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	レーザーテック
法人番号	1020001022180
会社法人等番号	0200-01-022180
登記所	横浜地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T1020001022180 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒222-0033 ※地方自治体コードは 14109
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 365,029件
国内所在地（市区町村）市区町村	横浜市港北区 ※横浜市港北区の法人数は 15,981件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	新横浜2丁目10番地1
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県横浜市港北区新横浜2丁目10番地1
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンヨコハマシコウホククシンヨコハマ2チョウメ
英語表記	Lasertec Corporation
国内所在地（英語表示）英語表示	2-10-1 Shinyokohama, Kohoku-ku, Yokohama, Kanagawa
代表者	代表取締役 仙洞田 哲也
設立日	1962年08月13日
資本金	9億3,100万円 (2023年10月02日現在)
従業員数	425人 (2023年10月02日現在)
電話番号TEL	045-478-7111
FAX番号FAX	045-476-1061
ホームページHP	https://www.lasertec.co.jp/
更新年月日更新日	2020年04月30日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	横浜北労働基準監督署 〒222-0033 神奈川県神奈川県横浜市港北区新横浜2-4-1日本生命新横浜ビル3・4階

レーザーテック株式会社の場所

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レーザーテック株式会社の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	レーザーテックカブシキガイシャ
企業名 英語	Lasertec corporation
上場・非上場	上場
資本金	9億3,100万円
業種	電気機器
証券コード	69200

レーザーテック株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「レーザーテック株式会社」で、「神奈川県横浜市港北区新横浜2丁目10番地1」に新規登録されました。

レーザーテック株式会社の法人活動情報

レーザーテック株式会社の補助金情報(1件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2017年08月01日 経済産業省	平成29年度中小企業知的財産活動支援事業費補助金(中小企業等外国出願支援事業)(横浜市) 中小企業知的財産活動支援事業費補助金 -

レーザーテック株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 仙洞田 哲也 全省庁統一資格 / -

レーザーテック株式会社の特許情報(68件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年10月06日 特許庁 / 特許	ビームスプリッタ及び光学装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-G02B 5/08 D, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 503
2022年06月28日 特許庁 / 特許	光源装置、検査装置、および調整方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-G02F 1/01 B
2022年04月14日 特許庁 / 特許	光源装置及び検査装置 FI分類-G02F 1/37, FI分類-G01N 21/956 A
2021年09月03日 特許庁 / 特許	画像処理装置および画像処理方法 FI分類-G01N 21/84 Z
2021年01月08日 特許庁 / 特許	EUVマスク検査装置、EUVマスク検査方法、EUVマスク検査プログラム及びEUVマスク検査システム FI分類-G01N 21/956 A
2020年12月07日 特許庁 / 特許	マスク検査方法及びマスク検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2020年05月26日 特許庁 / 特許	光学装置、及び光学装置の汚染防止方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2020年05月07日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01N 21/956 A
2020年03月19日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01N 21/88 Z, FI分類-H01L 21/66 J
2020年03月10日 特許庁 / 特許	検査装置、及び参照画像の生成方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2020年02月28日 特許庁 / 特許	測定装置及び測定方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G01B 11/00 B, FI分類-G01B 11/24 Z
2020年02月21日 特許庁 / 特許	輝度補正装置、検査装置、輝度補正方法、及び輝度補正プログラム FI分類-G01M 11/02 Z, FI分類-G01N 21/956 A
2020年01月29日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/956 A
2019年10月03日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2019年07月19日 特許庁 / 特許	撮像装置、及びフォーカス調整方法 FI分類-G03B 3/00, FI分類-G03B 13/36, FI分類-G03B 15/02, FI分類-H04N 5/232, FI分類-G02B 7/28 M, FI分類-G01B 11/00 Z, FI分類-G03B 15/00 T
2019年07月11日 特許庁 / 特許	光源、検査装置、EUV光の生成方法及び検査方法 FI分類-G02B 6/26, FI分類-G02F 1/37, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 6/04 A, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 503
2019年06月21日 特許庁 / 特許	照明方法及び照明装置の製造方法 FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2019年05月07日 特許庁 / 特許	照明装置及び検査装置 FI分類-F21V 14/06, FI分類-F21V 29/56, FI分類-F21V 29/60, FI分類-F21V 29/503, FI分類-F21Y 103:10, FI分類-F21Y 113:13, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-F21V 5/00 510, FI分類-F21V 5/04 600, FI分類-F21Y 101:00 300
2019年05月07日 特許庁 / 特許	検査装置、検査方法、学習方法、及びプログラム FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-G01N 21/956 A
2019年04月16日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 A
2019年02月04日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びフォーカス調整方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2019年01月21日 特許庁 / 特許	検査装置、照明装置、及びシェーディング抑制方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-F21S 2/00 100, FI分類-F21V 5/04 100, FI分類-F21V 23/00 113
2018年12月25日 特許庁 / 特許	共焦点顕微鏡、及びその撮像方法 FI分類-G02B 21/00
2018年12月11日 特許庁 / 特許	マスク検査装置、切り替え方法及びマスク検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2018年11月30日 特許庁 / 特許	マスク検査方法及びマスク検査装置 FI分類-G01B 11/24 K
2018年10月16日 特許庁 / 特許	測定方法及び測定装置 FI分類-G02B 7/32, FI分類-G02B 7/40, FI分類-G02B 21/00, FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/24, FI分類-G02B 7/28 H, FI分類-G01B 11/24 Z
2018年09月18日 特許庁 / 特許	異物除去方法、検査方法、露光方法、異物除去装置、検査装置及び露光装置 FI分類-B08B 1/04, FI分類-B08B 7/00, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/82, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/304 644 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G
2018年09月18日 特許庁 / 特許	波長変換装置、及び波長変換方法 FI分類-G02F 1/37
2018年08月02日 特許庁 / 特許	測定装置、及び測定方法 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G01B 11/24 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2018年07月10日 特許庁 / 特許	照明方法、撮像方法、照明装置及び撮像装置 FI分類-G03B 15/05, FI分類-F21Y 103:10, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-G03B 15/02 G, FI分類-G03B 15/02 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-F21S 2/00 419, FI分類-F21V 5/00 510, FI分類-F21V 5/04 600, FI分類-F21V 23/00 110, FI分類-H04N 5/225 400, FI分類-H04N 5/225 600, FI分類-H04N 5/235 400
2018年03月08日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2018年01月17日 特許庁 / 特許	光源装置、検査装置、及び光源装置の制御方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 5/14, FI分類-H01S 5/065, FI分類-H01S 3/00 F, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H01S 5/0683, FI分類-G01N 21/84 E
2017年12月28日 特許庁 / 特許	検出方法、検査方法、検出装置及び検査装置 FI分類-G01N 21/88 J
2017年12月26日 特許庁 / 特許	段差測定方法及び段差測定装置 FI分類-G01B 11/06 Z
2017年09月08日 特許庁 / 特許	膜厚測定方法及び膜厚測定装置 FI分類-G01B 11/06 Z, FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-H01L 21/66 P
2017年07月31日 特許庁 / 特許	検査方法及び検査装置 FI分類-G01B 11/27 Z, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A
2017年05月30日 特許庁 / 特許	膜厚測定装置及び膜厚測定方法 FI分類-G01B 11/06 H, FI分類-H01L 21/66 P
2017年05月25日 特許庁 / 特許	欠陥検査装置及び欠陥検査方法 FI分類-H01L 21/66 N
2017年04月04日 特許庁 / 特許	測定装置及び測定方法 FI分類-G01B 11/06 H, FI分類-H01L 21/66 J
2017年03月27日 特許庁 / 特許	補正方法、補正装置及び検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/88 J
2017年02月20日 特許庁 / 特許	アライメント方法及びアライメント装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/68 M
2017年01月05日 特許庁 / 特許	光学装置、及び除振方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年06月13日 特許庁 / 特許	測定装置、測定方法及び補正方法 FI分類-G01B 11/00 D
2016年06月02日 特許庁 / 特許	共焦点顕微鏡 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/10, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G01N 21/17 620
2016年04月27日 特許庁 / 特許	光源装置、検査装置及び光源装置の制御方法 FI分類-G02F 1/37
2016年04月26日 特許庁 / 特許	膜厚測定装置及び膜厚測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01B 11/06 H, FI分類-G01N 21/27 B, FI分類-G01N 21/45 A
2016年03月02日 特許庁 / 特許	検査装置、及びそのフォーカス調整方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/62, FI分類-G03F 1/84
2016年02月25日 特許庁 / 特許	光源装置、検査装置、及び光源装置の制御方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/131, FI分類-H01S 3/00 F, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G01M 11/00 T
2016年02月12日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 17/06, FI分類-G01N 21/956 A
2016年02月12日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2016年01月29日 特許庁 / 特許	検査装置、検査方法、汚染防止構造及び露光装置 FI分類-G03F 1/84
2016年01月12日 特許庁 / 特許	厚さ測定装置及び厚さ分布測定装置 FI分類-G01B 11/06 G
2015年08月24日 特許庁 / 特許	検査装置、検査方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-H01L 21/304 621 D, FI分類-H01L 21/304 622 P
2015年06月25日 特許庁 / 特許	突起検査装置及びバンプ検査装置 FI分類-G01B 11/00 A, FI分類-H01L 21/92 604 T
2015年04月06日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01N 21/00 B, FI分類-G01N 21/64 E, FI分類-G01N 21/88 K, FI分類-H01L 21/66 N, FI分類-G01N 21/956 A
2015年04月03日 特許庁 / 特許	検査装置、検査方法、及びプログラム FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 5/00 700, FI分類-G06T 5/00 725, FI分類-G06T 1/00 305 D
2014年11月26日 特許庁 / 特許	照明装置及びレーザ顕微鏡 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/16, FI分類-G01N 21/84 E
2014年11月25日 特許庁 / 特許	マスクステージ及びステージ装置 FI分類-G01B 11/00 G, FI分類-H01L 21/30 503 A
2014年10月22日 特許庁 / 特許	バンプ検査装置 FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2014年09月19日 特許庁 / 特許	検査装置、及び波面収差補正方法 FI分類-G02B 21/16, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/27 A
2014年07月18日 特許庁 / 特許	検査装置及びオートフォーカス方法 FI分類-G02B 7/32, FI分類-G02B 21/00, FI分類-G02B 7/28 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2014年06月26日 特許庁 / 特許	撮像素子、検査装置、及び検査方法 FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H01L 27/14 Z, FI分類-H04N 5/335 690
2014年06月12日 特許庁 / 特許	レーザ顕微鏡及びスキャナー FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/36
2014年05月12日 特許庁 / 特許	リチウムイオン電池の観察方法並びに試験用のリチウムイオン電池及びその製造方法 FI分類-H01M 10/48 A
2014年04月17日 特許庁 / 特許	照明装置、及び検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 19/00, FI分類-G02B 5/00 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-H01L 21/30 515 D, FI分類-H01L 21/30 531 Z
2014年04月11日 特許庁 / 特許	ペリクル検査装置 FI分類-G03F 1/66, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 G, FI分類-H01L 21/30 531 Z
2014年02月24日 特許庁 / 特許	レーザ光源装置、及び検査装置 FI分類-G02F 1/37, FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01S 3/098, FI分類-H01S 3/00 F, FI分類-H01S 3/06 B
2014年01月22日 特許庁 / 特許	干渉計及び位相シフト量測定装置 FI分類-G01J 9/02, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-G01N 21/45 A, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 P

レーザーテック株式会社の商標情報(17件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年07月14日 特許庁 / 商標	雷▲たい▼光▲電▼ 07類, 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	Lasertec 07類, 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	MATRICS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	Lasertec 07類, 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	OPTELICS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	ECCS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	EPMRS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	GALOIS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	LBIS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	MAGICS 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	MPM 09類
2022年03月09日 特許庁 / 商標	SICA 09類
2021年04月09日 特許庁 / 商標	CIEL 09類
2020年06月26日 特許庁 / 商標	AMRS 09類
2020年03月25日 特許庁 / 商標	PELMIS 09類
2017年03月27日 特許庁 / 商標	ABICS 09類
2016年12月15日 特許庁 / 商標	ACTIS 09類

レーザーテック株式会社の職場情報

項目	データ
企業規模	425人
管理職全体人数	91人 男性 88人 / 女性 3人

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