法人番号:1290001054214
日本イットリウム株式会社
情報更新日:2025年04月30日
日本イットリウム株式会社とは
日本イットリウム株式会社（ニッポンイットリウム）は、法人番号:1290001054214で福岡県大牟田市大字唐船2081番地398に所在する法人として福岡法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役小林大作。設立日は1966年04月23日。登録情報として、届出情報が2件、特許情報が19件が登録されています。なお、2025年04月23日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2025年04月30日です。
インボイス番号:T1290001054214については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は福岡労働局。大牟田労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
日本イットリウム株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 日本イットリウム株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ニッポンイットリウム |
| 法人番号 | 1290001054214 |
| 会社法人等番号 | 2900-01-054214 |
| 登記所 | 福岡法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T1290001054214 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒836-0003 ※地方自治体コードは 40202 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 福岡県 ※福岡県の法人数は 211,952件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 大牟田市 ※大牟田市の法人数は 3,492件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 大字唐船2081番地398 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 福岡県大牟田市大字唐船2081番地398 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | フクオカケンオオムタシトウセン（オオアザ） |
| 代表者 | 代表取締役 小林 大作 |
| 設立日 | 1966年04月23日 |
| 更新年月日更新日 | 2025年04月30日 |
| 変更年月日変更日 | 2025年04月23日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 福岡労働局 〒812-0013 福岡県福岡市博多区博多駅東2丁目11番1号福岡合同庁舎新館4F(基準・均等) 5F(総務) 6F(安定) |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 大牟田労働基準監督署 〒836-8502 福岡県大牟田市小浜町24-13 |
日本イットリウム株式会社の場所
日本イットリウム株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2025年04月23日 | 【登記閉鎖】 令和7年4月1日東京都品川区大崎一丁目11番1号三井金属鉱業株式会社(7010701011370)に合併し解散 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「日本イットリウム株式会社」で、「福岡県大牟田市大字唐船2081番地398」に新規登録されました。 |
日本イットリウム株式会社の登記記録の閉鎖等状況
| 登記記録の閉鎖等状況 | |
|---|---|
| 合併による解散等 | 設立登記法人について、合併による解散等により登記記録が閉鎖された。 |
日本イットリウム株式会社の法人活動情報
日本イットリウム株式会社の届出情報(2件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:日本イットリウム株式会社 本社・工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
- | 代表者:代表取締役 小林 大作 全省庁統一資格 / - |
日本イットリウム株式会社の特許情報(19件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年05月15日 特許庁 / 特許 | 希土類酸化物粉末 FI分類-C01F 17/206, FI分類-C01F 17/218, FI分類-C01F 17/224 |
2022年07月26日 特許庁 / 特許 | 焼結体用材料及び焼結体 FI分類-C04B 35/50, FI分類-C01F 17/259, FI分類-C04B 35/553 |
2021年12月08日 特許庁 / 特許 | 焼結体 FI分類-C04B 35/44, FI分類-C04B 35/505, FI分類-H01L 21/302 101 Z |
2021年04月05日 特許庁 / 特許 | 放射性元素の含有量が低減したガドリニウム化合物を製造する方法、及びガドリニウム化合物 FI分類-C22B 3/06, FI分類-C22B 3/22, FI分類-C22B 3/38, FI分類-C01F 17/17, FI分類-C22B 59/00, FI分類-C01F 17/282, FI分類-G21F 9/06 G, FI分類-G21F 9/10 B, FI分類-C22B 3/44 101 A |
2021年03月18日 特許庁 / 特許 | 成膜用又は焼結用粉末 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C01F 17/34, FI分類-C04B 35/44, FI分類-C23C 24/00, FI分類-C23C 26/00 C |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 光吸収体 FI分類-C09D 5/32, FI分類-C09D 7/63, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09B 57/10, FI分類-C09D 201/00 |
2019年10月18日 特許庁 / 特許 | コールドスプレー用材料 FI分類-C23C 24/04, FI分類-C01F 17/218, FI分類-C01F 17/253, FI分類-C01F 17/259 |
2019年07月24日 特許庁 / 特許 | 成膜用又は焼結用粉末 FI分類-C23C 4/10, FI分類-C04B 35/505, FI分類-C01F 17/00 Z |
2019年07月24日 特許庁 / 特許 | 成膜用又は焼結用粉末 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C04B 35/44, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/24 E |
2017年08月07日 特許庁 / 特許 | 成膜用材料及び皮膜 FI分類-C04B 35/505, FI分類-C01F 17/00 D, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-C23C 14/24 E, FI分類-C23C 14/32 Z, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2016年12月15日 特許庁 / 特許 | 成膜用材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 24/04, FI分類-C23C 14/24 E |
2016年12月15日 特許庁 / 特許 | 成膜用材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 24/04, FI分類-C23C 14/24 E |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | 焼結用材料及び焼結用材料を製造するための粉末 FI分類-C04B 35/50, FI分類-C01F 17/00 D, FI分類-C04B 35/00 108 |
2016年02月02日 特許庁 / 特許 | 成膜用粉末及び成膜用材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 24/04, FI分類-C01F 17/00 D, FI分類-C23C 14/24 E, FI分類-C23C 14/34 A |
2015年01月27日 特許庁 / 特許 | 溶射用粉末及び溶射材料 FI分類-C23C 4/10, FI分類-C01F 17/00 A |
2015年01月27日 特許庁 / 特許 | プラズマ溶射膜 FI分類-C23C 4/10, FI分類-C01F 17/00 A, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2014年11月21日 特許庁 / 特許 | 焼結体 FI分類-C04B 35/00 U, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2014年08月08日 特許庁 / 特許 | 溶射材料 FI分類-C23C 4/04 |
2014年05月13日 特許庁 / 特許 | プラズマ溶射用スラリー FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 4/10, FI分類-C01F 17/00 D |
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