株式会社CUSICとは

株式会社CUSIC(キューズィック)は、法人番号:1370001025074で宮城県仙台市青葉区中央2丁目2番10号に所在する法人として仙台法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、補助金情報が1件特許情報が10件商標情報が4件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2020年03月17日です。
インボイス番号:T1370001025074については、2024年08月31日現在、適格請求書発行事業者の登録は確認できません。
この地域の労働局は宮城労働局。仙台労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

株式会社CUSICの基本情報

項目 内容
商号又は名称 株式会社CUSIC
商号又は名称(読み仮名)フリガナ キューズィック
法人番号 1370001025074
会社法人等番号 3700-01-025074
登記所 仙台法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T1370001025074
※2024年08月31日現在、適格請求書発行事業者の登録は確認できません。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒980-0021
※地方自治体コードは 04101
国内所在地(都道府県)都道府県 宮城県
※宮城県の法人数は 81,601件
国内所在地(市区町村)市区町村 仙台市青葉区
※仙台市青葉区の法人数は 18,447件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 中央2丁目2番10号
国内所在地(1行表示)1行表示 宮城県仙台市青葉区中央2丁目2番10号
国内所在地(読み仮名)読み仮名 ミヤギケンセンダイシアオバクチュウオウ2チョウメ
更新年月日更新日 2020年03月17日
変更年月日変更日 2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 宮城労働局
〒983-8585 宮城県仙台市宮城野区鉄砲町1番地 仙台第4合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 仙台労働基準監督署
〒983-8507 宮城県仙台市宮城野区鉄砲町1番地仙台第四合同庁舎

株式会社CUSICの場所

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株式会社CUSICの登録履歴

日付 内容
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「株式会社CUSIC」で、「宮城県仙台市青葉区中央2丁目2番10号」に新規登録されました。

株式会社CUSICの法人活動情報

株式会社CUSICの補助金情報(1件)

期間
公表組織
活動名称 / 活動対象 / 金額
2022年07月13日
令和4年度中小企業等海外出願・侵害対策支援事業費補助金(中小企業等外国出願支援事業)[宮城県]
-

株式会社CUSICの特許情報(10件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2020年05月15日
特許庁 / 特許
SiC積層体およびその製造方法ならびに半導体装置
FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/36 A, FI分類-H01L 27/092 B, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 29/06 301 M, FI分類-H01L 29/06 301 V, FI分類-H01L 29/78 652 K, FI分類-H01L 29/78 652 T, FI分類-H01L 29/78 657 D, FI分類-H01L 29/78 658 E, FI分類-H01L 29/86 301 D, FI分類-H01L 29/86 301 F
2019年05月20日
特許庁 / 特許
炭化珪素の製造方法
FI分類-C30B 23/06, FI分類-C30B 29/36 A
2018年03月01日
特許庁 / 特許
炭化珪素基板の製造方法及び炭化珪素基板
FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/36 A
2018年02月15日
特許庁 / 特許
化合物半導体積層基板及びその製造方法、並びに半導体素子
FI分類-H01L 21/02 B
2017年04月27日
特許庁 / 特許
エピタキシャル成長装置及びエピタキシャル成長方法
FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/36 A, FI分類-H01L 21/302 105 B
2015年09月15日
特許庁 / 特許
SiC複合基板の製造方法
FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 21/265 Z
2015年09月15日
特許庁 / 特許
SiC複合基板の製造方法
FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/32, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 33/06, FI分類-C30B 29/36 A
2015年09月14日
特許庁 / 特許
SiC複合基板の製造方法
FI分類-C23C 16/42, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 21/265 Z
2015年09月14日
特許庁 / 特許
SiC複合基板
FI分類-C23C 16/32, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 21/265 Z
2015年09月11日
特許庁 / 特許
SiC複合基板の製造方法及び半導体基板の製造方法
FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 21/265 Z

株式会社CUSICの商標情報(4件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2022年08月01日
特許庁 / 商標
CHESS-FET
09類
2022年08月01日
特許庁 / 商標
Step-Alignment
40類
2022年01月11日
特許庁 / 商標
CHESS-MOS
09類
2019年09月18日
特許庁 / 商標
DeChloClean
40類

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