岩井ファルマテック株式会社

岩井ファルマテック株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

岩井ファルマテック株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	岩井ファルマテック株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	イワイファルマテック
法人番号	2010701007002
会社法人等番号	0107-01-007002
登記所	東京法務局品川出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T2010701007002 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒144-0033 ※地方自治体コードは 13111
国内所在地（都道府県）都道府県	東京都 ※東京都の法人数は 1,316,849件
国内所在地（市区町村）市区町村	大田区 ※大田区の法人数は 43,099件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	東糀谷3丁目17番10号
国内所在地（1行表示）1行表示	東京都大田区東糀谷3丁目17番10号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	トウキョウトオオタクヒガシコウジヤ3チョウメ
更新年月日更新日	2019年01月08日
変更年月日変更日	2018年02月19日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	大田労働基準監督署 〒144-8606 東京都大田区蒲田5-40-3TT蒲田駅前ビル8・9階

岩井ファルマテック株式会社の場所

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岩井ファルマテック株式会社の登録履歴

日付	内容
2018年02月19日	【住所変更】 国内所在地が「東京都大田区東糀谷3丁目17番10号」に変更されました。
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「岩井ファルマテック株式会社」で、「東京都大田区南蒲田2丁目16番1号」に新規登録されました。

岩井ファルマテック株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	岩井ファルマテック株式会社
情報名 読み	イワイファルマテック
住所	東京都大田区東糀谷3丁目17-10
電話番号	03-5737-7171

岩井ファルマテック株式会社の法人活動情報

岩井ファルマテック株式会社の特許情報(31件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年11月08日 特許庁 / 特許	製造工程の管理システム及び製造工程の管理方法 FI分類-G06Q 50/04, FI分類-G05B 19/418 Z
2023年09月27日 特許庁 / 特許	脱気システム FI分類-B01D 19/00 G, FI分類-B01D 19/00 101
2023年09月19日 特許庁 / 特許	監査証跡の管理システム FI分類-G06Q 50/04, FI分類-G05B 19/05 D, FI分類-G05B 23/02 T
2023年05月16日 特許庁 / 特許	送液システム FI分類-B01J 4/00 103, FI分類-A61J 1/20 314 Z
2022年06月24日 特許庁 / 特許	送液システム FI分類-F17D 1/12, FI分類-B67D 7/02 Z
2022年06月21日 特許庁 / 特許	充填針モジュール及び充填装置 FI分類-B67C 3/02 Z
2022年05月19日 特許庁 / 特許	無菌脱圧送液装置及び充填システム FI分類-B67C 3/02
2021年12月24日 特許庁 / 特許	管理システム FI分類-G05B 23/02 R, FI分類-G05B 19/418 Z
2021年10月22日 特許庁 / 特許	充填装置 FI分類-B67C 3/28
2021年08月27日 特許庁 / 特許	精製水供給システム FI分類-C02F 9/02, FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 9/06, FI分類-B01D 61/46, FI分類-B01D 61/54, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/469, FI分類-C02F 1/42 A, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-B01D 61/44 520
2021年08月20日 特許庁 / 特許	精製水供給システム FI分類-C02F 1/00 A
2021年04月19日 特許庁 / 特許	膜ろ過システム FI分類-B01D 65/10
2021年01月18日 特許庁 / 特許	無菌排水システム FI分類-C02F 1/00 J
2020年07月07日 特許庁 / 特許	膜監視機能付き処理システム FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/22
2020年05月18日 特許庁 / 特許	陽圧監視システム FI分類-B65B 55/02 E
2020年05月08日 特許庁 / 特許	調合システム及び調合方法 FI分類-B01F 7/16 E, FI分類-B01F 15/02 A
2020年02月18日 特許庁 / 特許	被処理液の処理システム FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/22, FI分類-B01D 61/58
2019年05月29日 特許庁 / 特許	監査証跡の管理システム FI分類-G06Q 50/04, FI分類-G05B 19/418 Z
2019年05月28日 特許庁 / 特許	制御プログラムの作成支援システム及び作成支援プログラム FI分類-G05B 19/05 A
2019年02月19日 特許庁 / 特許	ペプチド製造システム FI分類-C07K 1/04
2018年08月31日 特許庁 / 特許	監査証跡の管理システム FI分類-G06Q 50/04, FI分類-G05B 23/02 Z
2018年08月21日 特許庁 / 特許	医薬品又は飲料食品の製造プラントの制御システム FI分類-G05B 19/05 F
2018年06月13日 特許庁 / 特許	微粒子の処理システム FI分類-B03B 7/00, FI分類-B01D 61/04, FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/16, FI分類-B01D 61/22, FI分類-B01D 65/02, FI分類-B01D 61/02 500, FI分類-B01D 61/14 500
2017年06月15日 特許庁 / 特許	プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム FI分類-B01D 27/00
2017年01月31日 特許庁 / 特許	プロセス液の処理システム FI分類-B67D 7/72, FI分類-B67D 7/76, FI分類-F17D 1/14, FI分類-B67D 7/76 D, FI分類-B01D 29/36 Z, FI分類-B01D 29/10 510 C, FI分類-B01D 29/10 520 Z, FI分類-B01D 29/10 530 A, FI分類-B01D 29/42 501 C
2016年11月18日 特許庁 / 特許	プロセス液の初期廃棄量の削減方法及びプロセス液の処理システム FI分類-F17D 5/02, FI分類-B01D 65/10, FI分類-G01M 3/26 M, FI分類-B01D 29/00 D, FI分類-B01D 29/00 E, FI分類-B01D 35/02 A, FI分類-B01D 29/10 510 C, FI分類-B01D 29/10 520 Z, FI分類-B01D 29/10 530 A
2016年10月31日 特許庁 / 特許	送液システム FI分類-F17D 1/12, FI分類-B01J 4/00 103
2015年11月12日 特許庁 / 特許	温水回収システム FI分類-B01D 61/02, FI分類-B01D 61/14, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-C02F 1/44 K
2015年11月06日 特許庁 / 特許	液体製品の原料供給装置 FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-B01J 4/00 103, FI分類-B08B 9/032 325, FI分類-B08B 9/032 327
2015年02月18日 特許庁 / 特許	送液方法及び送液装置 FI分類-B67D 7/72, FI分類-B67D 7/76 A, FI分類-B67D 7/78 Z
2015年02月18日 特許庁 / 特許	送液方法及び送液装置 FI分類-B67D 7/72, FI分類-B67D 7/76 A, FI分類-B67D 7/78 Z

岩井ファルマテック株式会社の意匠情報(5件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年01月28日 特許庁 / 意匠	工業用精製水製造装置管理用画像 意匠新分類-N311 W
2022年01月27日 特許庁 / 意匠	工業用濾過装置管理用画像 意匠新分類-N311 W
2022年01月27日 特許庁 / 意匠	工業用濾過装置管理用画像 意匠新分類-N311 W
2021年12月17日 特許庁 / 意匠	設備管理用画像 意匠新分類-N311 W
2021年12月17日 特許庁 / 意匠	設備管理用画像 意匠新分類-N311 W

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