株式会社日立ハイテクアナリシス

株式会社日立ハイテクアナリシスとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社日立ハイテクアナリシスの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社日立ハイテクアナリシス
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ヒタチハイテクアナリシス
法人番号	2040001000893
会社法人等番号	0400-01-000893
登記所	千葉地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T2040001000893 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒105-0001 ※地方自治体コードは 13103
国内所在地（都道府県）都道府県	東京都 ※東京都の法人数は 1,319,160件
国内所在地（市区町村）市区町村	港区 ※港区の法人数は 155,223件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	虎ノ門1丁目17番1号
国内所在地（1行表示）1行表示	東京都港区虎ノ門1丁目17番1号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	トウキョウトミナトクトラノモン1チョウメ
代表者	代表取締役 今野 充
設立日	2000年03月01日
従業員数	668人
ホームページHP	http://www.hitachi-hightech.com/hhs/
更新年月日更新日	2025年05月07日
変更年月日変更日	2025年04月04日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	三田労働基準監督署 〒108-0014 東京都港区芝5-35-2安全衛生総合会館3階

株式会社日立ハイテクアナリシスの場所

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株式会社日立ハイテクアナリシスの登録履歴

日付	内容
2025年04月04日	【名称変更】 名称が「株式会社日立ハイテクアナリシス」に変更されました。
2020年02月12日	【住所変更】 国内所在地が「東京都港区虎ノ門1丁目17番1号」に変更されました。
2017年04月06日	【吸収合併】 平成29年4月1日東京都中央区新富二丁目15番5号株式会社エポリードサービス(1040001009085)を合併
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社日立ハイテクサイエンス」で、「東京都港区西新橋1丁目24番14号」に新規登録されました。

株式会社日立ハイテクアナリシスの法人活動情報

株式会社日立ハイテクアナリシスの調達情報(4件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2021年07月27日 原子力規制委員会	令和3年度飛行時間型質量分析装置の購入 87,989,000円
2018年07月30日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	NEDO先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラムZEV用電池製造のための革新的異物検出技術の研究開発 24,656,400円
2016年04月01日 防衛省	磁化特性測定装置年間保守1式 4,298,400円
2015年04月01日 防衛省	磁化特性測定装置年間保守1式 4,298,400円

株式会社日立ハイテクアナリシスの表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社日立ハイテクアナリシスの届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 今野 充 全省庁統一資格 / -

株式会社日立ハイテクアナリシスの特許情報(188件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年10月21日 特許庁 / 特許	試料片移設装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/28 U, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01L 21/66 N
2021年03月15日 特許庁 / 特許	膜電極接合体の検査方法および検査装置 FI分類-H01M 8/1004, FI分類-G01B 15/02 H, FI分類-H01M 8/10 101
2020年10月28日 特許庁 / 特許	プローブ顕微鏡およびプローブ顕微鏡の光軸調整方法 FI分類-G01Q 20/02, FI分類-G01B 11/00 C, FI分類-G12B 1/00 601 D
2020年09月25日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/317 D
2020年03月24日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 25/20 F
2020年03月23日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム加工装置 FI分類-H01J 37/317 D
2020年03月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 A
2020年03月18日 特許庁 / 特許	粒子ビーム装置及び複合ビーム装置 FI分類-H01J 37/09, FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/147 Z, FI分類-H01J 37/317 Z
2020年03月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2020年03月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2020年03月18日 特許庁 / 特許	走査型プローブ顕微鏡及び設定方法 FI分類-G01Q 10/06, FI分類-G01Q 20/02
2020年03月12日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 25/00 N, FI分類-G01N 25/20 A
2020年03月04日 特許庁 / 特許	熱分析装置の制御部、及び熱分析装置 FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-G01N 25/20 F
2020年02月28日 特許庁 / 特許	液体クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/02 Z, FI分類-G01N 30/26 A, FI分類-G01N 30/26 E, FI分類-G01N 30/86 L, FI分類-G01N 30/86 Q
2020年02月26日 特許庁 / 特許	膜電極接合体の検査方法および検査装置 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/18, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101
2019年11月20日 特許庁 / 特許	X線検査装置及びX線検査方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/16, FI分類-G01N 23/18
2019年10月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、複合荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム装置の制御方法 FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/147 E, FI分類-H01J 37/317 D
2019年10月18日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置、及び集束イオンビーム装置の制御方法 FI分類-H01J 37/04 B, FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/153 Z, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 D
2019年10月10日 特許庁 / 特許	分析装置 FI分類-G01N 30/04 P, FI分類-G01N 30/86 Z
2019年10月04日 特許庁 / 特許	オートサンプラの制御装置及びそれを含む自動測定システム FI分類-G01N 30/24 Z, FI分類-G01N 35/00 A
2019年09月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/09 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2019年09月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/18, FI分類-H01J 37/20 A
2019年09月25日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/317 D
2019年09月25日 特許庁 / 特許	アミノ酸の検出方法 FI分類-B01J 20/283, FI分類-B01J 20/284, FI分類-G01N 30/88 F, FI分類-B01J 20/281 G, FI分類-B01J 20/281 X
2019年09月24日 特許庁 / 特許	液体金属イオン源及び集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/26, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 D
2019年09月24日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム照射装置、及び制御方法 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年09月24日 特許庁 / 特許	粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 E, FI分類-H01J 37/22 502 F
2019年09月02日 特許庁 / 特許	量子効率分布の取得方法、量子効率分布の表示方法、量子効率分布の取得プログラム、量子効率分布の表示プログラム、分光蛍光光度計及び表示装置 FI分類-G01J 3/443, FI分類-G01N 21/64 Z
2019年07月10日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/02 Z, FI分類-G01N 30/86 Q
2019年03月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、及び制御方法 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年03月25日 特許庁 / 特許	遠心分離カラム及び分析対象物質の分析方法 FI分類-G01N 1/10 C, FI分類-G01N 1/10 H, FI分類-G01N 30/14 Z
2019年03月25日 特許庁 / 特許	マスク欠陥修正装置、及びマスク欠陥修正方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/74, FI分類-H01J 37/305 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2019年03月20日 特許庁 / 特許	三次元形状測定方法および三次元形状測定装置 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 7/00 A, FI分類-G01B 11/24 D
2019年03月20日 特許庁 / 特許	クロマトグラフのデータ処理装置、データ処理方法、およびクロマトグラフ FI分類-G01N 30/86 E, FI分類-G01N 30/86 Q
2019年03月20日 特許庁 / 特許	クロマトグラフのデータ処理装置、データ処理方法、およびクロマトグラフ FI分類-G01N 30/86 E, FI分類-G01N 30/86 Q
2019年03月12日 特許庁 / 特許	蛍光光度計および観測方法 FI分類-G01N 21/64 Z
2019年03月11日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-G01N 25/20 G
2019年03月04日 特許庁 / 特許	X線検査装置及びX線検査方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/18, FI分類-G01T 1/20 E, FI分類-G01T 1/20 F, FI分類-G01T 1/20 G
2019年02月27日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/04 P, FI分類-G01N 30/86 P, FI分類-G01N 30/86 V
2019年02月15日 特許庁 / 特許	複合荷電粒子ビーム装置、及び制御方法 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01J 37/317 D
2019年02月14日 特許庁 / 特許	薄膜試料片作成方法および荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/317 D
2019年01月09日 特許庁 / 特許	サイズ分布計測装置、サイズ分布計測方法 FI分類-G01N 15/02 A
2018年11月14日 特許庁 / 特許	クロマトグラフデータ処理装置及び液体クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/86 D, FI分類-G01N 30/86 G
2018年11月14日 特許庁 / 特許	クロマトグラフデータ処理装置及び液体クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/02 Z, FI分類-G01N 30/86 Z
2018年10月29日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 27/16, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/317 D
2018年10月18日 特許庁 / 特許	試料加工観察方法 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 C, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2018年10月18日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置及び集束イオンビーム装置の制御方法 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/305 A
2018年09月28日 特許庁 / 特許	液体クロマトグラフ分析方法及び液体クロマトグラフ分析装置 FI分類-G01N 30/26 A, FI分類-G01N 30/86 J, FI分類-G01N 30/86 V, FI分類-G01N 30/88 C, FI分類-G01N 33/50 Z
2018年09月28日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ FI分類-G01N 30/24 M, FI分類-G01N 30/26 A, FI分類-G01N 30/86 P, FI分類-G01N 30/86 Q, FI分類-G01N 30/86 V, FI分類-G01N 30/88 F
2018年09月28日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ、およびクロマトグラフの分析方法決定装置 FI分類-G01N 30/86 G, FI分類-G01N 30/86 Q, FI分類-G01N 30/88 F
2018年09月26日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ及びクロマトグラフィの定量方法 FI分類-G01N 30/04 P, FI分類-G01N 30/86 J, FI分類-G01N 30/86 P, FI分類-G01N 30/86 Q
2018年09月03日 特許庁 / 特許	クマリンの測定方法及びクマリンの自動測定装置 FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-G01N 21/78 C, FI分類-G01N 33/22 C
2018年07月19日 特許庁 / 特許	質量分析装置及び質量分析方法 FI分類-H01J 49/26, FI分類-G01N 27/62 D, FI分類-G01N 30/86 D
2018年04月11日 特許庁 / 特許	管理タグ及び管理タグ付き容器 FI分類-B65D 25/20 P, FI分類-G01N 35/02 C
2018年03月30日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/20 B, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2018年03月29日 特許庁 / 特許	原子吸光光度計における極微量分析診断方法 FI分類-G01N 21/31 610 A
2018年03月29日 特許庁 / 特許	クロマトグラフのデータ処理装置、データ処理方法、およびクロマトグラフ FI分類-G01N 30/86 B, FI分類-G01N 30/86 H, FI分類-G01N 30/86 J
2018年03月26日 特許庁 / 特許	走査型プローブ顕微鏡及びその走査方法 FI分類-G01Q 10/04, FI分類-G01Q 20/02, FI分類-G01Q 60/36, FI分類-G01Q 10/04 101
2018年03月07日 特許庁 / 特許	断面加工観察装置、断面加工観察方法及びプログラム FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/28 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年02月28日 特許庁 / 特許	試料製造装置および試料片の製造方法 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/32 B
2018年02月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、試料加工観察方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/30 Z, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/66 N, FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/317 D
2018年02月16日 特許庁 / 特許	プラスチック標準物質の製造方法 FI分類-G01N 27/62 C, FI分類-G01N 30/06 G, FI分類-G01N 30/72 A, FI分類-G01N 30/88 P
2018年01月26日 特許庁 / 特許	走査プローブ顕微鏡 FI分類-G01Q 30/04, FI分類-G01Q 60/10, FI分類-G01Q 60/24
2018年01月11日 特許庁 / 特許	質量分析装置及び質量分析方法 FI分類-H01J 49/26, FI分類-G01N 27/62 V
2017年11月30日 特許庁 / 特許	単原子終端構造を有するティップおよび単原子終端構造を有するティップの製造方法 FI分類-H01J 1/304, FI分類-H01J 27/26, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/26, FI分類-H01T 23/00, FI分類-H01J 37/073, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/28 C, FI分類-H01J 37/252 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2017年11月28日 特許庁 / 特許	断面加工観察方法、荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01L 21/66 N, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 A
2017年11月17日 特許庁 / 特許	試料分析システム、表示方法及び試料分析方法 FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-G01N 27/62 X, FI分類-G01N 27/62 Y, FI分類-G01N 30/72 G
2017年11月17日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/30 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 Z
2017年09月21日 特許庁 / 特許	クロマトグラフのデータ処理装置 FI分類-G01N 30/04 P, FI分類-G01N 30/86 D, FI分類-G01N 30/86 H, FI分類-G01N 30/86 L, FI分類-G01N 30/86 M, FI分類-G01N 30/86 P
2017年09月06日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置及び蛍光X線分析方法 FI分類-G01N 23/223
2017年08月25日 特許庁 / 特許	恒温装置、及びそれを備えた分析装置 FI分類-G01N 1/28 K, FI分類-F25B 21/02 A, FI分類-G01N 30/24 Z
2017年08月22日 特許庁 / 特許	分析装置及び分析方法 FI分類-G01N 25/20 A
2017年07月25日 特許庁 / 特許	放射線分析装置 FI分類-G01N 23/225 312
2017年07月21日 特許庁 / 特許	分光蛍光光度計 FI分類-G01J 3/443, FI分類-G01N 21/01 B, FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-G01N 21/64 Z
2017年07月21日 特許庁 / 特許	光分析装置用の表示装置 FI分類-G01N 21/64 Z
2017年07月21日 特許庁 / 特許	発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 FI分類-G01N 25/00 M, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 V, FI分類-G01N 1/00 101 R, FI分類-G01N 1/00 101 T
2017年07月21日 特許庁 / 特許	質量分析装置及び質量分析方法 FI分類-G01N 27/62 D, FI分類-G01N 27/62 V
2017年07月21日 特許庁 / 特許	質量分析装置及び質量分析方法 FI分類-G01N 5/04 D, FI分類-G01N 27/62 V
2017年06月07日 特許庁 / 特許	液体クロマトグラフおよび液体クロマトグラフの検出器出力値変動補正手段 FI分類-G01N 30/86 L
2017年05月10日 特許庁 / 特許	放射線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 7/00 A, FI分類-G01N 23/225 312
2017年04月19日 特許庁 / 特許	イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08
2017年03月31日 特許庁 / 特許	液体クロマトグラフ装置 FI分類-G01N 30/02 Z, FI分類-G01N 30/26 M, FI分類-G01N 30/34 A, FI分類-G01N 30/46 E, FI分類-G01N 30/86 V, FI分類-G01N 30/88 C, FI分類-G01N 30/88 F, FI分類-G01N 30/88 N
2017年03月31日 特許庁 / 特許	走査型白色干渉顕微鏡を用いた三次元形状計測方法 FI分類-G01B 11/24 D
2017年03月31日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A
2017年03月31日 特許庁 / 特許	めっき液の判定方法およびデータ処理装置 FI分類-G01N 30/02 Z, FI分類-G01N 30/86 J, FI分類-G01N 30/86 Q, FI分類-G01N 30/88 H
2017年03月28日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 D
2017年03月28日 特許庁 / 特許	携帯型情報端末、ビーム照射システム、及びプログラム FI分類-G06F 3/0482, FI分類-G06F 3/0488, FI分類-G09G 5/38 Z, FI分類-G09G 5/00 510 C, FI分類-G09G 5/00 510 H, FI分類-G09G 5/00 510 Q, FI分類-G09G 5/00 550 C, FI分類-G09G 5/00 555 D, FI分類-H01J 37/22 502 A
2017年03月28日 特許庁 / 特許	試料トレンチ埋込方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-G01N 23/22 310, FI分類-G01N 23/225 310
2017年03月28日 特許庁 / 特許	走査型プローブ顕微鏡、及びその走査方法 FI分類-G01Q 10/04, FI分類-G01B 5/28 102
2017年03月28日 特許庁 / 特許	走査型プローブ顕微鏡 FI分類-G01Q 60/34
2017年03月27日 特許庁 / 特許	断面観察装置、及び制御方法 FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2017年03月27日 特許庁 / 特許	自動加工装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/28 H, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-G01N 23/22 310
2017年03月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/26, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/09 Z, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2017年03月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/28 B
2017年03月27日 特許庁 / 特許	試料保持具、部材装着用器具、および荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 Z
2017年03月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/317 D
2017年03月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2017年03月24日 特許庁 / 特許	プラスチック標準物質の製造方法 FI分類-G01N 30/04 P, FI分類-G01N 1/00 102 B
2017年03月24日 特許庁 / 特許	分光蛍光光度計 FI分類-G01N 21/64 Z
2017年03月21日 特許庁 / 特許	ICP発光分光分析装置 FI分類-G01J 3/18, FI分類-G01J 3/443, FI分類-G01N 21/73
2017年03月17日 特許庁 / 特許	断面加工観察方法、断面加工観察装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H, FI分類-H01J 37/22 502 L
2017年02月20日 特許庁 / 特許	油脂組成物の判定方法及び油脂組成物の製造方法 FI分類-A23D 9/02, FI分類-C11C 3/00, FI分類-G01N 33/03, FI分類-G01N 21/64 Z
2017年02月15日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/26, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/285, FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2017年01月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 F, FI分類-G01N 1/00 101 A
2017年01月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-G01N 1/00 101 B, FI分類-H01J 37/22 502 F
2016年09月13日 特許庁 / 特許	複合ビーム装置 FI分類-H01J 37/10, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/30 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2016年09月06日 特許庁 / 特許	発生ガス分析方法及び発生ガス分析装置 FI分類-G01N 1/22 T, FI分類-G01N 27/62 V
2016年09月06日 特許庁 / 特許	発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 FI分類-G01N 25/00 M
2016年09月06日 特許庁 / 特許	発生ガス分析装置及び発生ガス分析方法 FI分類-G01N 1/22 R, FI分類-G01N 27/62 V, FI分類-G01N 1/00 101 R, FI分類-G01N 1/00 101 T
2016年09月06日 特許庁 / 特許	走査型白色干渉顕微鏡を用いた三次元形状計測方法 FI分類-G01B 11/24 D, FI分類-G01B 11/255 G
2016年09月06日 特許庁 / 特許	未知試料判定方法、未知試料判定装置及び未知試料判定プログラム FI分類-G01N 21/64 Z
2016年08月24日 特許庁 / 特許	X線透過検査装置 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/18
2016年08月03日 特許庁 / 特許	ガスバリア試験方法及び試験用治具 FI分類-G01M 3/20 Z
2016年07月05日 特許庁 / 特許	イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/26, FI分類-H01J 37/08
2016年07月05日 特許庁 / 特許	イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/26
2016年04月08日 特許庁 / 特許	熱分析装置、及び試料分析システム FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-G01N 25/00 K, FI分類-G01N 25/20 G
2016年03月29日 特許庁 / 特許	走査型プローブ顕微鏡及びそのプローブ接触検出方法 FI分類-G01Q 60/36
2016年03月28日 特許庁 / 特許	試料ホルダー、集束イオンビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01L 21/66 N, FI分類-H01J 37/317 D
2016年03月25日 特許庁 / 特許	試料容器及び熱分析装置 FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-G01N 25/20 G
2016年03月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置及びプラズマ点火方法 FI分類-H05H 1/26, FI分類-H01J 27/16, FI分類-H01J 37/08, FI分類-C23C 16/507, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01L 21/302 201 B
2016年03月25日 特許庁 / 特許	制御装置、荷電粒子ビーム装置、プログラム及び加工品を生産する方法 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/317 D
2016年03月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/304, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01J 37/317 D
2016年03月25日 特許庁 / 特許	2次元液体クロマトグラフ分析装置および分析法 FI分類-G01N 30/26 A, FI分類-G01N 30/46 A, FI分類-G01N 30/54 E, FI分類-G01N 30/88 101 L, FI分類-G01N 30/88 201 X
2016年03月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/304, FI分類-H01J 37/20 B, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2016年03月24日 特許庁 / 特許	放射線分析装置、及び放射線分析方法 FI分類-G01N 23/225 312
2016年03月23日 特許庁 / 特許	走査プローブ顕微鏡、走査プローブ顕微鏡の測定レンジ調整方法及び測定レンジ調整プログラム FI分類-G01Q 30/06, FI分類-G01Q 60/10, FI分類-G01Q 60/24
2016年03月18日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 B, FI分類-H01J 37/317 D
2016年02月17日 特許庁 / 特許	試料加工評価装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 E, FI分類-H01J 37/20 F, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2015年12月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/317 D
2015年11月20日 特許庁 / 特許	発生ガス分析装置の校正方法及び発生ガス分析装置 FI分類-G01N 27/62 C
2015年10月05日 特許庁 / 特許	X線検査装置及びX線検査方法 FI分類-G01T 7/00 B, FI分類-G01N 23/20 370
2015年09月30日 特許庁 / 特許	画像取得方法およびイオンビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/28 Z, FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/22 502 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2015年09月30日 特許庁 / 特許	試料位置合わせ方法および荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/24, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/21 B, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/22 502 A, FI分類-H01J 37/22 502 L
2015年09月10日 特許庁 / 特許	X線検査方法及びX線検査装置 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/10, FI分類-G01N 23/18
2015年09月08日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-H01J 27/26, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 D
2015年09月01日 特許庁 / 特許	走査プローブ顕微鏡および走査プローブ顕微鏡の光軸調整方法 FI分類-G01Q 20/02, FI分類-G01Q 30/02, FI分類-G01Q 40/00
2015年09月01日 特許庁 / 特許	試料ホルダ及び試料ホルダ群 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/28 B
2015年08月31日 特許庁 / 特許	搬送装置、真空装置および荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 B, FI分類-H01L 21/68 A
2015年08月26日 特許庁 / 特許	X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 7/00 A, FI分類-G01N 23/225 312, FI分類-G01N 23/225 322
2015年08月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2015年07月29日 特許庁 / 特許	X線透過検査装置及びX線透過検査方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/18, FI分類-G01N 23/083
2015年06月29日 特許庁 / 特許	自動試料作製装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-G01N 1/00 101 B
2015年06月29日 特許庁 / 特許	自動試料作製装置および自動試料作製方法 FI分類-G01N 1/06 Z, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-G01N 1/00 101 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2015年06月29日 特許庁 / 特許	試料作製装置 FI分類-G01N 1/06 Z, FI分類-G01N 1/00 101 B
2015年06月16日 特許庁 / 特許	微小試料台、その製造方法および微小試料の取付方法 FI分類-H01J 37/20 A
2015年06月02日 特許庁 / 特許	走査プローブ顕微鏡 FI分類-G01Q 30/12, FI分類-G01Q 30/16, FI分類-G01Q 30/20
2015年03月31日 特許庁 / 特許	シーケンシャル型ICP発光分光分析装置および測定波長補正方法 FI分類-G01N 21/73
2015年03月30日 特許庁 / 特許	広がり抵抗測定方法及び広がり抵抗顕微鏡 FI分類-G01Q 10/06, FI分類-G01Q 60/40, FI分類-G01R 27/02 R, FI分類-H01L 21/66 N
2015年03月25日 特許庁 / 特許	走査プローブ顕微鏡 FI分類-G01Q 20/02, FI分類-G01Q 30/02
2015年03月10日 特許庁 / 特許	誘導結合プラズマ発生装置及び誘導結合プラズマ分析装置 FI分類-H05H 1/30, FI分類-G01N 21/73, FI分類-G01N 27/62 G
2015年03月02日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-B01J 37/00 Z, FI分類-G01N 25/00 N, FI分類-G01N 25/20 G
2015年02月23日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 3/08, FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-H01J 37/20 A
2015年02月05日 特許庁 / 特許	X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 7/00 B, FI分類-H01J 37/244, FI分類-G01N 23/225 312
2015年02月03日 特許庁 / 特許	イオン源、イオンビーム装置および試料の加工方法 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 27/16, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/317 D
2015年02月03日 特許庁 / 特許	イオンビーム装置および試料の3次元構造解析方法 FI分類-H01J 37/317 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2015年01月30日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置および欠陥検査システム FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2015年01月23日 特許庁 / 特許	熱分析データの処理方法および熱分析装置 FI分類-G01N 5/04 D, FI分類-G01N 25/20 G
2015年01月20日 特許庁 / 特許	放射線分析装置 FI分類-G01T 1/26, FI分類-G01T 1/36 D
2015年01月20日 特許庁 / 特許	放射線分析装置 FI分類-G01T 1/12, FI分類-G01T 1/26, FI分類-G01N 23/00, FI分類-G01T 1/17 C, FI分類-G01T 1/17 H, FI分類-G01T 1/36 A
2015年01月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置および試料観察方法 FI分類-H01J 37/26, FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2014年12月12日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 25/00 K
2014年12月04日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2014年10月27日 特許庁 / 特許	X線発生源及び蛍光X線分析装置 FI分類-H01J 35/16, FI分類-G01N 23/223, FI分類-H05G 1/02 H, FI分類-H01J 35/08 E
2014年10月10日 特許庁 / 特許	断面加工方法、断面加工装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2014年09月30日 特許庁 / 特許	複合荷電粒子ビーム装置 FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/317 D
2014年09月30日 特許庁 / 特許	複合荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/317 D
2014年09月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/30 Z, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01J 37/317 D
2014年09月09日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置及びその測定位置調整方法 FI分類-G01N 23/223
2014年09月02日 特許庁 / 特許	分光蛍光光度計及びそれを用いた三次元蛍光スペクトルの取得方法 FI分類-G01N 21/64 Z
2014年08月29日 特許庁 / 特許	自動試料片作製装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/22 502 H
2014年08月29日 特許庁 / 特許	自動試料片作製装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/20 A
2014年08月28日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置及びその試料表示方法 FI分類-G01N 23/223
2014年07月09日 特許庁 / 特許	3次元微動測定装置 FI分類-G01Q 10/04
2014年06月13日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2014年03月31日 特許庁 / 特許	カンチレバーの振動特性測定方法及び振動特性測定プログラム FI分類-G01Q 60/32
2014年03月31日 特許庁 / 特許	ICP発光分光分析装置 FI分類-G01N 21/73
2014年03月26日 特許庁 / 特許	ICP発光分光分析装置 FI分類-G01N 21/73
2014年03月24日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B
2014年03月24日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置 FI分類-G01N 1/28 F, FI分類-G01N 1/28 G, FI分類-H01J 37/30 Z, FI分類-H01J 37/317 D
2014年03月20日 特許庁 / 特許	エネルギー分散型X線分析装置及びエネルギー分散型X線分析方法 FI分類-G01N 23/225
2014年03月20日 特許庁 / 特許	X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2014年03月20日 特許庁 / 特許	断面加工方法 FI分類-G01N 23/225
2014年03月17日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置及びその制御方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-H05G 1/02 P, FI分類-H01J 35/00 A
2014年03月13日 特許庁 / 特許	熱分析装置用撮像装置、及びそれを備えた熱分析装置 FI分類-G01N 25/04, FI分類-G01N 5/04 Z, FI分類-G01N 25/00 N, FI分類-G01N 25/20 G
2014年03月12日 特許庁 / 特許	集束イオンビーム装置、それを用いた試料の加工方法、及び集束イオンビーム加工用コンピュータプログラム FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01J 37/317 D
2014年02月12日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 C
2014年02月12日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/317 D
2014年01月23日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置、荷電粒子ビーム装置の制御方法及び断面加工観察装置 FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/317 D

株式会社日立ハイテクアナリシスの商標情報(1件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2019年02月04日 特許庁 / 商標	AminoARTS 09類

株式会社日立ハイテクアナリシスの意匠情報(1件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年10月23日 特許庁 / 意匠	示差走査熱量計 意匠新分類-J1500

株式会社日立ハイテクアナリシスの職場情報

項目	データ
事業概要	分析、計測、観察装置の開発、製造、販売
企業規模	668人 男性 499人 / 女性 169人

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