浜松ホトニクス株式会社

浜松ホトニクス株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

浜松ホトニクス株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	浜松ホトニクス株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ハママツホトニクス
法人番号	2080401004193
会社法人等番号	0804-01-004193
登記所	静岡地方法務局浜松支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T2080401004193 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒435-0051 ※地方自治体コードは 22132
国内所在地（都道府県）都道府県	静岡県 ※静岡県の法人数は 126,600件
国内所在地（市区町村）市区町村	浜松市中央区 ※浜松市中央区の法人数は 21,500件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	市野町1126番地の1
国内所在地（1行表示）1行表示	静岡県浜松市中央区市野町1126番地の1
国内所在地（読み仮名）読み仮名	シズオカケンハママツシチュウオウクイチノチョウ
英語表記	HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
国内所在地（英語表示）英語表示	1126-1, Ichino-cho, Higashi-ku, Hamamatsu City, Shizuoka
代表者	代表取締役 丸野 正
設立日	1953年09月29日
資本金	350億9,500万円 (2023年12月26日現在)
従業員数	4,071人 (2023年12月26日現在)
ホームページHP	http://www.hamamatsu.com/
更新年月日更新日	2024年01月12日
変更年月日変更日	2024年01月11日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	静岡労働局 〒420-8639 静岡県静岡市葵区追手町9番50号 静岡地方合同庁舎 3階、5階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	浜松労働基準監督署 〒430-8639 静岡県浜松市中区中央1-12-4浜松合同庁舎8階

浜松ホトニクス株式会社の場所

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浜松ホトニクス株式会社の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	ハママツホトニクスカブシキガイシャ
企業名 英語	HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
上場・非上場	上場
資本金	349億6,400万円
業種	電気機器
証券コード	69650

浜松ホトニクス株式会社の登録履歴

日付	内容
2024年01月11日	【住所変更】 国内所在地が「静岡県浜松市中央区市野町1126番地の1」に変更されました。
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「浜松ホトニクス株式会社」で、「静岡県浜松市東区市野町1126番地の1」に新規登録されました。

浜松ホトニクス株式会社の法人活動情報

浜松ホトニクス株式会社の調達情報(14件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2023年06月27日 総務省	量子カスケードレーザーに基づいた連続波テラヘルツ半導体光源の研究開発 6,500,000円
2023年05月15日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	経済安全保障重要技術育成プログラム/高感度小型多波長赤外線センサ技術の開発高感度小型多波長赤外線センサ開発およびフィールド実証 899,999,100円
2023年04月03日 総務省	高速テラヘルツ波検出技術による1～3THz帯リアルタイム小型分光センシングシステムの研究開発 28,665,000円
2023年04月03日 総務省	グローバル量子暗号通信網構築のための研究開発 85,040,110円
2022年09月08日 防衛省	EMCCD検出器 7,840,800円
2022年06月09日 総務省	高速テラヘルツ波検出技術による1～3THz帯リアルタイム小型分光センシングシステムの研究開発 6,370,000円
2022年04月01日 総務省	グローバル量子暗号通信網構築のための研究開発 75,018,600円
2021年06月24日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	NEDO先導研究プログラムエネルギー・環境新技術先導研究プログラム絶縁基板上大面積高品質グラフェン成膜技術の開発と光デバイス応用 2,989,800円
2021年04月01日 総務省	小型・高性能1THz帯量子カスケード半導体光源の研究開発 39,000,000円
2021年04月01日 総務省	グローバル量子暗号通信網構築のための研究開発 80,264,303円
2020年12月18日 防衛省	マルチチャンネル分光器 2,717,000円
2020年07月28日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	IoT社会実現のための革新的センシング技術開発革新的センシング技術開発波長掃引中赤外レーザによる次世代火山ガス防災技術の研究開発 90,999,700円
2019年01月29日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	高輝度・高効率次世代レーザー技術開発次々世代加工に向けた新規光源・要素技術開発分子振動を利用する高効率加工プロセス用中赤外高出力レーザー光源開発 87,496,200円
2016年09月29日 防衛省	マルチチャンネル分光器 5,846,148円

浜松ホトニクス株式会社の補助金情報(3件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2022年04月01日 経済産業省	令和3年度産業技術実用化開発事業費補助金(サプライチェーン上不可欠性の高い半導体の生産設備の脱炭素化・刷新事業費補助金)一次公募(浜松ホトニクス) 56,885,833円
2014年06月27日 経済産業省	平成25年度先端技術実用化非連続加速プログラム補助金の交付決定について 産業技術実用化開発事業費補助金 211,599,999円
2014年06月25日 経済産業省	平成25年度先端技術実用化非連続加速プログラム補助金の交付決定について 産業技術実用化開発事業費補助金 32,234,597円

浜松ホトニクス株式会社の表彰情報(4件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表
2012年01月01日 経済産業省	関東地区省エネルギー月間表彰
2010年01月01日 経済産業省	関東地区省エネルギー月間表彰

浜松ホトニクス株式会社の届出情報(3件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:浜松ホトニクス株式会社 本社工場 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣)
2012年05月01日 経済産業省	アルコール事業 - 許可使用者
- デジタル庁	代表者:代表取締役 丸野 正 全省庁統一資格 / -

浜松ホトニクス株式会社の特許情報(104件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年09月07日 特許庁 / 特許	モデル生成方法、モデル生成システム、モデル生成プログラム、異物検出方法、異物検出システム、異物検出プログラム及び推論モデル FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01N 23/18, FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06T 7/00 610 B
2023年06月07日 特許庁 / 特許	試料支持体及び試料支持体の製造方法 FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/04 090, FI分類-H01J 49/04 500, FI分類-H01J 49/16 500, FI分類-H01J 49/42 150
2023年04月27日 特許庁 / 特許	発光封体 FI分類-H01J 65/04 Z
2023年02月22日 特許庁 / 特許	MCP検出器及び分析装置 FI分類-H01J 43/24, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 49/00 040, FI分類-H01J 49/02 500
2022年11月04日 特許庁 / 特許	リンパ系検査装置及びリンパ系検査方法 FI分類-A61B 10/00 E, FI分類-G01N 21/64 F
2021年10月29日 特許庁 / 特許	発光素子の製造方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 21/78 B
2020年12月25日 特許庁 / 特許	光検出器 FI分類-H01L 31/08, FI分類-H01L 31/10 H
2020年12月23日 特許庁 / 特許	放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法 FI分類-G01T 1/20 B, FI分類-G01T 1/20 E
2020年12月23日 特許庁 / 特許	放射線検出器、放射線検出器の製造方法、及びシンチレータパネルユニット FI分類-G01T 1/20 B, FI分類-G01T 1/20 E, FI分類-G01T 1/20 L
2020年12月23日 特許庁 / 特許	空間光変調器および発光装置 FI分類-G02F 1/29, FI分類-H01S 5/11, FI分類-G02F 1/01 D, FI分類-H01S 5/0239
2020年12月21日 特許庁 / 特許	光パルス生成装置及び光パルス生成方法 FI分類-H01S 3/106, FI分類-G02F 1/01 B
2020年12月14日 特許庁 / 特許	試料支持体、イオン化法及び質量分析方法 FI分類-H01J 49/40, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/00 040, FI分類-H01J 49/04 180, FI分類-H01J 49/16 400, FI分類-H01J 49/16 500
2020年10月30日 特許庁 / 特許	エネルギー線管 FI分類-H01J 35/16, FI分類-H01J 35/18, FI分類-H01J 35/08 F
2020年10月19日 特許庁 / 特許	光変調器及び光変調器アレイ FI分類-G02F 1/061
2020年10月19日 特許庁 / 特許	光学特性評価装置および光学特性評価方法 FI分類-G01N 21/21 Z
2020年10月06日 特許庁 / 特許	光検出装置 FI分類-G01J 3/26, FI分類-G02B 26/00, FI分類-G01J 3/02 C
2020年10月02日 特許庁 / 特許	光導波構造及び光源装置 FI分類-H01S 5/12, FI分類-H01S 5/18
2020年10月02日 特許庁 / 特許	半導体レーザ素子 FI分類-H01S 5/12, FI分類-H01S 5/18
2020年10月02日 特許庁 / 特許	分散測定装置および分散測定方法 FI分類-G01J 11/00, FI分類-G01N 21/35, FI分類-G01N 21/41 Z
2020年09月18日 特許庁 / 特許	TOF-PET装置および断層画像取得方法 FI分類-G01T 1/22, FI分類-G01T 1/172, FI分類-G01T 1/161 A, FI分類-G01T 1/164 D, FI分類-A61B 6/03 377, FI分類-A61B 6/03 360 J
2020年09月15日 特許庁 / 特許	外部共振型レーザモジュール FI分類-H01S 5/14, FI分類-H01S 5/022, FI分類-H01S 5/024
2020年09月04日 特許庁 / 特許	放射線検出器及び穴明け装置 FI分類-G02B 6/06, FI分類-G01T 1/20 C, FI分類-G01T 1/20 E, FI分類-G01T 1/20 G, FI分類-G01T 1/20 L
2020年08月31日 特許庁 / 特許	ファイバオプティックプレート、シンチレータパネル、放射線検出器、電子顕微鏡、X線遮蔽方法、及び、電子線遮蔽方法 FI分類-G02B 6/08, FI分類-C03C 13/04, FI分類-H01J 37/26, FI分類-G01T 1/20 B, FI分類-G01T 1/20 C, FI分類-G01T 1/20 L, FI分類-H01J 37/244
2020年08月21日 特許庁 / 特許	光電面電子源 FI分類-H01J 1/34, FI分類-H01J 40/06, FI分類-H01J 40/16, FI分類-H01J 37/073
2020年08月20日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置 FI分類-B23K 26/03, FI分類-B23K 26/04, FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/046, FI分類-B23K 26/067, FI分類-H01L 21/78 B
2020年08月19日 特許庁 / 特許	試料支持体 FI分類-B82Y 30/00, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/04 180
2020年08月19日 特許庁 / 特許	身体状態推定システム及び身体状態推定方法 FI分類-G16H 50/20, FI分類-A61B 5/00 G, FI分類-G06N 20/00 130
2020年07月15日 特許庁 / 特許	蛍光素子 FI分類-C09K 11/62, FI分類-C09K 11/64, FI分類-H01J 37/244, FI分類-C30B 25/02 Z, FI分類-C30B 29/38 D
2020年07月15日 特許庁 / 特許	チャネル型電子増倍体およびイオン検出器 FI分類-H01J 43/24, FI分類-H01J 49/02 500
2020年07月15日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/046, FI分類-B23K 26/067, FI分類-H01L 21/78 B
2020年07月15日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/046, FI分類-B23K 26/067, FI分類-H01L 21/78 B
2020年07月15日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/046, FI分類-B23K 26/067
2020年07月14日 特許庁 / 特許	光整形装置及び光整形方法 FI分類-G02B 5/18, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G02F 1/01 B, FI分類-G02F 1/01 D
2020年07月01日 特許庁 / 特許	高速検査用の傾斜型光干渉断層撮影イメージング FI分類-G01N 21/17 620
2020年06月23日 特許庁 / 特許	エキシマランプ FI分類-H01J 5/50 H, FI分類-H01J 61/36 Z, FI分類-H01J 65/04 A, FI分類-H01J 61/067 N
2020年06月17日 特許庁 / 特許	画像出力装置 FI分類-G02F 1/01 D, FI分類-G02F 1/13 505
2020年06月17日 特許庁 / 特許	活性エネルギ照射ユニット及び活性エネルギ照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-B41J 2/01 129
2020年06月04日 特許庁 / 特許	発光装置、発光方法及び有機発光素子 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 A, FI分類-H05B 33/22 C
2020年05月12日 特許庁 / 特許	光電陰極、電子管、及び、電子管の製造方法 FI分類-H01J 1/34, FI分類-H01J 40/06, FI分類-H01J 43/24, FI分類-H01J 9/12 A
2020年04月28日 特許庁 / 特許	レーザ加工ヘッド及びレーザ加工装置 FI分類-B23K 26/042, FI分類-B23K 26/00 M, FI分類-B23K 26/00 N
2020年04月28日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/78 B
2020年04月28日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/00 P
2020年04月15日 特許庁 / 特許	半導体チップの製造方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-H01L 21/78 F, FI分類-H01L 21/78 Q, FI分類-H01L 21/78 V, FI分類-H01L 21/78 X, FI分類-H01L 21/78 Y, FI分類-H01L 21/304 611 Z
2020年04月13日 特許庁 / 特許	電子線発生源、電子線照射装置、及びX線照射装置 FI分類-H01J 1/18, FI分類-H01J 1/22, FI分類-H01J 19/12, FI分類-H01J 19/16, FI分類-G21K 5/00 R, FI分類-G21K 5/02 X, FI分類-G21K 5/04 E, FI分類-G21K 5/04 F, FI分類-H05G 1/00 D, FI分類-H01J 35/00 Z, FI分類-H01J 35/06 D
2020年04月13日 特許庁 / 特許	エネルギー線照射装置 FI分類-H01J 35/18, FI分類-G21K 5/00 R, FI分類-G21K 5/02 X, FI分類-G21K 5/04 E, FI分類-G21K 5/04 F, FI分類-H05G 1/00 D, FI分類-H01J 35/00 Z, FI分類-H01J 35/06 C, FI分類-H01J 35/08 F
2020年04月13日 特許庁 / 特許	光学素子の製造方法、及び、光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 3/00 Z
2020年04月13日 特許庁 / 特許	光学素子の製造方法、及び、光学素子 FI分類-G02B 3/00 Z
2020年04月08日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/067, FI分類-G02F 1/01 D, FI分類-B23K 26/00 N, FI分類-B23K 26/00 P, FI分類-G02F 1/13 505
2020年04月06日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/78 B
2020年04月02日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及び検査方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/066, FI分類-B23K 26/073, FI分類-B23K 26/00 Q, FI分類-H01L 21/78 B
2020年04月02日 特許庁 / 特許	量子カスケードレーザ素子及び量子カスケードレーザ装置 FI分類-H01S 5/34, FI分類-H01S 5/227, FI分類-H01S 5/343
2020年03月30日 特許庁 / 特許	量子カスケードレーザ FI分類-H01S 5/34
2020年03月26日 特許庁 / 特許	共焦点顕微鏡ユニット及び共焦点顕微鏡 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G02B 21/06, FI分類-G01N 21/64 E
2020年03月18日 特許庁 / 特許	半導体レーザ装置 FI分類-H01S 5/022
2020年03月10日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/03, FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/00 P, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-H01L 21/78 R, FI分類-B23K 26/064 A
2020年03月10日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/00 P, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-B23K 26/064 A
2020年03月02日 特許庁 / 特許	静電チャック装置用電源、静電チャック装置、及びデチャック制御方法 FI分類-B23Q 3/15 D, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/78 N, FI分類-H02N 13/00 D, FI分類-H01L 21/304 622 H
2020年02月26日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-H01S 5/06, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-B23K 26/0622
2020年02月21日 特許庁 / 特許	プリズムロッドホルダ、レーザモジュール、レーザ加工装置及び保持構造 FI分類-H01S 5/022, FI分類-B23K 26/064 N
2020年02月20日 特許庁 / 特許	検出システムおよび学習方法 FI分類-G01T 1/22, FI分類-G06N 3/08, FI分類-G01T 1/16 A, FI分類-G01T 1/161 A, FI分類-G01T 1/164 A
2020年01月31日 特許庁 / 特許	レーザ加工方法、半導体部材製造方法、及び、レーザ加工装置 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-H01L 21/304 611 Z
2020年01月31日 特許庁 / 特許	質量分析装置、及び質量分析方法 FI分類-H01J 31/50, FI分類-H01J 49/14, FI分類-H01J 49/16, FI分類-H01J 49/40, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-G01N 27/64 B
2020年01月31日 特許庁 / 特許	撮像ユニット、質量分析装置、及び質量分析方法 FI分類-G01T 1/203, FI分類-H01J 31/50, FI分類-H01J 49/26, FI分類-H01J 49/40, FI分類-G01T 1/20 C, FI分類-G01N 27/62 G
2020年01月28日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/08 D, FI分類-H01L 21/304 611 Z
2020年01月28日 特許庁 / 特許	ミラーユニット FI分類-B81B 3/00, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 26/10 104 Z
2020年01月27日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置、及び、レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/067, FI分類-H01L 21/78 B
2020年01月23日 特許庁 / 特許	ウェハ搬送ユニット及びウェハ搬送方法 FI分類-H01L 21/66 B, FI分類-H01L 21/68 A
2020年01月20日 特許庁 / 特許	光源モジュール及び光変調モジュール FI分類-G02B 5/18, FI分類-G02B 5/30, FI分類-H01S 5/42, FI分類-H01S 5/22 610, FI分類-H01S 5/026 616
2020年01月17日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-H01L 21/66 X
2019年12月27日 特許庁 / 特許	増倍型イメージセンサ FI分類-H04N 5/369, FI分類-H01L 31/10 B, FI分類-H01L 27/146 A
2019年12月27日 特許庁 / 特許	光伝送媒体測定方法、光伝送媒体測定装置、光伝送媒体測定プログラム、及び記録媒体 FI分類-G01M 11/00 Q, FI分類-G01M 11/02 K
2019年12月20日 特許庁 / 特許	テラヘルツ波用レンズ及びテラヘルツ波用レンズの製造方法 FI分類-G02B 3/08, FI分類-G02B 5/18, FI分類-G02B 3/00 B
2019年12月20日 特許庁 / 特許	テラヘルツ波用光学素子及びテラヘルツ波用光学素子の製造方法 FI分類-G02B 3/08, FI分類-G02B 1/118
2019年11月26日 特許庁 / 特許	ハードコート層付モールド樹脂およびその製造方法 FI分類-B29C 39/10, FI分類-B29C 39/24, FI分類-H01L 21/56 R
2019年10月31日 特許庁 / 特許	発光素子駆動回路 FI分類-H03K 17/78 E, FI分類-H01S 5/042 630
2019年10月30日 特許庁 / 特許	レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/78 B
2019年10月30日 特許庁 / 特許	ダマシン配線構造、アクチュエータ装置、及びダマシン配線構造の製造方法 FI分類-H01F 7/06 N, FI分類-H01F 7/20 Z, FI分類-H01L 21/88 B, FI分類-H01L 27/04 L
2019年10月23日 特許庁 / 特許	ミラーデバイスの製造方法 FI分類-B81C 1/00, FI分類-G02B 26/08 E
2019年10月23日 特許庁 / 特許	ミラーデバイスの製造方法 FI分類-B81C 1/00, FI分類-G02B 26/08 E
2019年09月30日 特許庁 / 特許	光学デバイス FI分類-B81B 3/00, FI分類-G02B 26/08 E
2019年09月26日 特許庁 / 特許	光検出装置 FI分類-G01J 1/42 H, FI分類-G01J 1/44 D, FI分類-G01J 1/44 E, FI分類-H01L 31/10 B, FI分類-H01L 31/10 G
2019年09月11日 特許庁 / 特許	光走査システム及び光走査装置 FI分類-B81B 3/00, FI分類-B81B 7/02, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 26/10 A, FI分類-H02K 33/18 B
2019年09月11日 特許庁 / 特許	光走査システムの製造方法、光走査装置の製造方法及びデータ取得方法 FI分類-H02K 15/00, FI分類-G02B 26/10 104 Z
2019年08月09日 特許庁 / 特許	光学素子 FI分類-G02B 1/11
2019年08月09日 特許庁 / 特許	アクチュエータ装置、及びアクチュエータ装置の製造方法 FI分類-B81B 3/00, FI分類-B81C 1/00, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 26/10 104 Z
2019年07月24日 特許庁 / 特許	X線管、及びX線発生装置 FI分類-H01J 35/16, FI分類-H01J 35/06 E
2019年06月14日 特許庁 / 特許	光検出装置 FI分類-H01L 31/02 B, FI分類-H01L 31/10 B, FI分類-H01L 31/10 H, FI分類-H01L 27/146 A, FI分類-H01L 27/146 D
2019年06月14日 特許庁 / 特許	光検出装置 FI分類-H01L 31/02 B, FI分類-H01L 31/10 H, FI分類-H01L 27/146 A, FI分類-H01L 27/146 D
2019年02月27日 特許庁 / 特許	撮像ユニット FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01T 1/16 A, FI分類-G01T 1/20 C, FI分類-G01T 1/20 D, FI分類-G01T 1/20 E, FI分類-G01T 1/20 G, FI分類-G01T 1/20 L, FI分類-G01T 1/167 E
2019年02月21日 特許庁 / 特許	放射線検出器、及び放射線検出器の製造方法 FI分類-G01T 1/24
2019年01月24日 特許庁 / 特許	光検出装置 FI分類-G01J 11/00, FI分類-G01J 1/42 H, FI分類-H01L 31/10 B, FI分類-H01L 31/10 G, FI分類-H01L 27/146 F
2018年10月18日 特許庁 / 特許	放射線撮像装置 FI分類-H04N 23/30, FI分類-G01T 7/00 A, FI分類-H01L 27/144 K, FI分類-H01L 27/146 D
2018年10月04日 特許庁 / 特許	レーザ加工方法及び半導体デバイス製造方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-H01L 21/78 Q, FI分類-H01L 21/304 631
2018年08月27日 特許庁 / 特許	アルツハイマー病指標表示装置及び方法 FI分類-C12Q 1/26, FI分類-C12Q 1/28, FI分類-C12M 1/34 E
2018年08月06日 特許庁 / 特許	試料支持体、試料のイオン化方法、及び質量分析方法 FI分類-H01J 49/40, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/00 040, FI分類-H01J 49/00 360, FI分類-H01J 49/04 180, FI分類-H01J 49/16 400
2018年08月03日 特許庁 / 特許	ミラー装置 FI分類-B81B 3/00, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 26/10 104 Z
2018年08月02日 特許庁 / 特許	光学デバイス FI分類-B81B 3/00, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 26/10 104 Z
2018年08月02日 特許庁 / 特許	固浸レンズユニット、半導体検査装置 FI分類-G02B 7/02, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G02B 7/02 Z, FI分類-H01L 21/66 J
2018年06月18日 特許庁 / 特許	フォトンカウンティング装置、フォトンカウンティング方法及びプログラム FI分類-H04N 25/76, FI分類-H04N 25/78, FI分類-H04N 25/671, FI分類-H01L 31/10 A, FI分類-H01L 31/10 G
2018年04月16日 特許庁 / 特許	裏面入射型半導体光検出素子 FI分類-H01L 31/10 A
2017年11月24日 特許庁 / 特許	運搬方法 FI分類-G02B 5/28, FI分類-G02B 26/00, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 V
2017年09月27日 特許庁 / 特許	放射線検出器 FI分類-G01T 1/202, FI分類-G01T 1/20 E, FI分類-G01T 1/20 L, FI分類-G21K 4/00 A
2017年03月08日 特許庁 / 特許	半導体光検出素子 FI分類-H01L 31/02 A
2016年10月13日 特許庁 / 特許	放射線画像読取装置 FI分類-G02B 5/20, FI分類-G01T 1/00 B, FI分類-G21K 4/00 L

浜松ホトニクス株式会社の商標情報(4件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年09月07日 特許庁 / 商標	§Nano Zoomer 09類, 10類
2023年09月05日 特許庁 / 商標	MOXIEPLEX 09類, 10類, 42類
2023年08月29日 特許庁 / 商標	Stealth Dicing eye 07類, 09類
2023年08月23日 特許庁 / 商標	Solid Cold 09類

浜松ホトニクス株式会社の意匠情報(17件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010
2023年09月28日 特許庁 / 意匠	エックス線発生器 意匠新分類-H010

浜松ホトニクス株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	各種光センサおよび光源、光源応用装置、画像処理装置の研究開発、製造、販売。
企業規模	4,389人 男性 3,622人 / 女性 767人
平均勤続年数 範囲 正社員	男性 15.9年 / 女性 14.6年
女性労働者の割合 範囲 正社員	19.3%
管理職全体人数	698人 男性 675人 / 女性 23人
役員全体人数	14人 男性 12人 / 女性 2人

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