日本化学工業株式会社とは

日本化学工業株式会社(ニホンカガクコウギョウ)は、法人番号:3010601005559で東京都江東区亀戸9丁目11番1号に所在する法人として東京法務局墨田出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役社長棚橋洋太。資本金は57億5,700万円。従業員数は652人。登録情報として、表彰情報が1件届出情報が5件特許情報が144件商標情報が23件職場情報が1件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2019年04月02日です。
インボイス番号:T3010601005559については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。亀戸労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

日本化学工業株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 日本化学工業株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ ニホンカガクコウギョウ
法人番号 3010601005559
会社法人等番号 0106-01-005559
登記所 東京法務局墨田出張所
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T3010601005559
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒136-0071
※地方自治体コードは 13108
国内所在地(都道府県)都道府県 東京都
※東京都の法人数は 1,319,020件
国内所在地(市区町村)市区町村 江東区
※江東区の法人数は 34,952件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 亀戸9丁目11番1号
国内所在地(1行表示)1行表示 東京都江東区亀戸9丁目11番1号
国内所在地(読み仮名)読み仮名 トウキョウトコウトウクカメイド9チョウメ
代表者 代表取締役社長 棚橋 洋太
資本金 57億5,700万円 (2024年06月27日現在)
従業員数 652人 (2024年06月27日現在)
ホームページHP https://www.nippon-chem.co.jp/
更新年月日更新日 2019年04月02日
変更年月日変更日 2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 東京労働局
〒102-8305~〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階~14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 亀戸労働基準監督署
〒136-8513 東京都江東区亀戸2-19-1 カメリアプラザ8階

日本化学工業株式会社の場所

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日本化学工業株式会社の補足情報

項目 内容
企業名 読み仮名 ニホンカガクコウギョウカブシキガイシャ
企業名 英語 Nippon Chemical Industrial Co.,Ltd.
上場・非上場 上場
資本金 57億5,700万円
業種 化学
証券コード 40920

日本化学工業株式会社の登録履歴

日付 内容
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「日本化学工業株式会社」で、「東京都江東区亀戸9丁目11番1号」に新規登録されました。

日本化学工業株式会社と同じ名称の法人

件数 リンク
5件 ※「日本化学工業株式会社」と同じ名称の法人を探す

日本化学工業株式会社の法人活動情報

日本化学工業株式会社の表彰情報(1件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年12月04日
女性の活躍推進企業

日本化学工業株式会社の届出情報(5件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年11月29日
支店:日本化学工業株式会社 徳山工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2017年11月29日
支店:日本化学工業株式会社 愛知工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2017年11月29日
支店:日本化学工業株式会社 福島第二工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2017年11月29日
支店:日本化学工業株式会社 福島第一工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2001年04月01日
アルコール事業 - 許可使用者

日本化学工業株式会社の特許情報(144件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2023年05月18日
特許庁 / 特許
リチウムコバルト系複合酸化物粒子及びその製造方法、リチウムコバルト系複合酸化物粒子組成物及びそれらの製造方法
FI分類-H01M 4/525, FI分類-C01G 51/00 A
2022年10月06日
特許庁 / 特許
負熱膨張材、その製造方法及び複合材料
FI分類-C01G 31/02, FI分類-C04B 35/45, FI分類-C04B 35/447, FI分類-C04B 35/495, FI分類-C01B 25/45 M
2022年10月06日
特許庁 / 特許
負熱膨張材、その製造方法及び複合材料
FI分類-C01G 31/02, FI分類-C04B 35/495
2022年05月16日
特許庁 / 特許
負熱膨張材及び複合材料
FI分類-C01G 31/00, FI分類-C01B 25/45 M
2022年03月30日
特許庁 / 特許
乾燥装置及び乾燥方法
FI分類-F26B 3/28
2022年01月14日
特許庁 / 特許
印刷装置
FI分類-B41M 3/06 D
2021年10月29日
特許庁 / 特許
改質リチウムニッケルマンガンコバルト複合酸化物粒子の製造方法
FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 C
2021年05月12日
特許庁 / 特許
導電性粒子、それを用いた導電性材料及び接続構造体
FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/00 G, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-H01L 21/60 311 S
2021年05月12日
特許庁 / 特許
導電性粒子、それを用いた導電性材料及び接続構造体
FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/00 G, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-H01L 21/60 311 S
2021年01月19日
特許庁 / 特許
導電性粒子の製造方法、及び導電性粒子
FI分類-B22F 1/00 C, FI分類-B22F 1/00 K, FI分類-B22F 1/00 M, FI分類-B22F 1/02 A, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 13/00 501 Z
2020年11月19日
特許庁 / 特許
シュウ酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
FI分類-C04B 35/468, FI分類-C01G 23/00 C
2020年11月19日
特許庁 / 特許
シュウ酸バリウムチタニルの製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
FI分類-C04B 35/468, FI分類-C01G 23/00 C
2020年08月31日
特許庁 / 特許
被覆粒子及びその製造方法
FI分類-C09C 1/62, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-C23C 28/00 A, FI分類-H01B 13/00 501 Z
2020年07月02日
特許庁 / 特許
Me元素置換有機酸バリウムチタニル、その製造方法及びチタン系ペロブスカイト型セラミック原料粉末の製造方法
FI分類-C07F 3/04, FI分類-C07F 19/00, FI分類-C07F 3/00 F, FI分類-C07F 7/28 B, FI分類-C01G 23/00 C, FI分類-C07C 55/07 CSP
2020年06月12日
特許庁 / 特許
シュウ酸バリウムチタニル、その製造方法及びチタン酸バリウムの製造方法
FI分類-C07C 51/41, FI分類-C07C 55/06, FI分類-C07F 3/00 F, FI分類-C07F 7/28 F, FI分類-C01G 23/00 C
2020年06月09日
特許庁 / 特許
改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/45 H, FI分類-C08L 63/00 C
2020年06月02日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-C01G 51/00 A
2020年05月28日
特許庁 / 特許
リン酸ゲルマニウムリチウムの製造方法
FI分類-C01B 25/37 Z, FI分類-H01B 13/00 Z, FI分類-H01M 10/0562
2020年04月03日
特許庁 / 特許
導電性粒子、その製造方法及びそれを含む導電性材料
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-C23C 18/20 Z, FI分類-C23C 18/31 A, FI分類-H01R 43/00 H, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 A, FI分類-H01R 11/01 501 E
2020年04月03日
特許庁 / 特許
導電性粒子、その製造方法及びそれを含む導電性材料
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-C23C 18/20 Z, FI分類-C23C 18/31 A, FI分類-H01R 43/00 H, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 A, FI分類-H01R 11/01 501 E
2020年03月04日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質の製造方法
FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-C01G 51/00 A
2020年03月04日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質及びリチウム二次電池
FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-C01G 51/00 A
2020年02月17日
特許庁 / 特許
被覆粒子、その製造方法及びそれを含む導電性材料
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/00 G, FI分類-H01B 1/00 M, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-H01B 13/00 501 Z
2020年01月10日
特許庁 / 特許
二酸化バナジウムの製造方法
FI分類-C09K 5/02, FI分類-C01G 31/02
2020年01月07日
特許庁 / 特許
導電性接着剤、それを用いた接着構造体及び電子部品
FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 9/02, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 167/00, FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H01B 1/20 D
2019年12月20日
特許庁 / 特許
燻蒸用ホスフィン及びその製造方法、並びに燻蒸方法
FI分類-A01P 7/04, FI分類-C07F 9/06, FI分類-A01N 59/26, FI分類-A01M 17/00 B, FI分類-A01M 17/00 Q
2019年12月18日
特許庁 / 特許
改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/37 Z
2019年11月05日
特許庁 / 特許
メタ珪酸リチウムの製造方法及び炭酸ガス吸収材料の製造方法
FI分類-H01M 4/58, FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/32, FI分類-B01J 20/10 ZABA
2019年11月01日
特許庁 / 特許
改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/45 H, FI分類-C09K 3/00 111 A
2019年10月30日
特許庁 / 特許
被覆粒子及びそれを含む導電性材料、並びに被覆粒子の製造方法
FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/00 G, FI分類-H01B 1/00 M, FI分類-H01B 1/22 B, FI分類-H01B 1/22 D, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-C23C 28/00 A, FI分類-H01B 13/00 501 Z
2019年10月25日
特許庁 / 特許
導電性接着剤、それを用いた接着構造体及び電子部品
FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 9/02, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-H01B 1/00 D, FI分類-H01B 1/22 D, FI分類-H01B 5/00 C
2019年10月17日
特許庁 / 特許
被覆粒子及びそれを含む導電性材料、並びに被覆粒子の製造方法
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 1/00 M, FI分類-H01B 1/22 D, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 D
2019年10月16日
特許庁 / 特許
熱膨張抑制フィラー、その製造方法及びそれを含む複合材料
FI分類-C01G 31/00, FI分類-C01B 25/45 H, FI分類-C01B 33/18 C, FI分類-C01B 33/18 Z
2019年10月16日
特許庁 / 特許
バナジウム化合物の製造方法
FI分類-C01G 31/00
2019年09月11日
特許庁 / 特許
改質リチウムコバルト系複合酸化物粒子の製造方法
FI分類-H01M 4/525, FI分類-C01G 51/00 A
2019年09月10日
特許庁 / 特許
ハイパーブランチポリマー及びその製造方法
FI分類-C08G 61/10
2019年07月24日
特許庁 / 特許
ピロリン酸コバルトリチウムの製造方法及びピロリン酸コバルトリチウム炭素複合体の製造方法
FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-C01B 25/45 Z
2019年07月18日
特許庁 / 特許
ビスホスフィンオキシド希土類錯体及び光学機能性材料
FI分類-C07C 49/92, FI分類-C07F 5/00 D, FI分類-C07F 9/6509 Z, FI分類-C07F 19/00 CSP
2019年07月17日
特許庁 / 特許
二酸化バナジウムの製造方法
FI分類-C01G 31/02, FI分類-C09K 9/00 E
2019年07月02日
特許庁 / 特許
リン酸チタンリチウムの製造方法
FI分類-H01M 10/052, FI分類-C01B 25/45 H, FI分類-H01M 10/0562
2019年06月27日
特許庁 / 特許
リン酸コバルトリチウムの製造方法及びリン酸コバルトリチウム炭素複合体の製造方法
FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-C01B 25/45 Z
2019年06月26日
特許庁 / 特許
被覆粒子
FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 G, FI分類-H01B 5/00 M
2019年06月24日
特許庁 / 特許
光学活性ビスホスフィノメタン及びその製造方法、並びに遷移金属錯体及び不斉触媒
FI分類-C07F 9/50, FI分類-C07C 69/34, FI分類-C07C 231/12, FI分類-C07C 233/05, FI分類-C07C 233/47, FI分類-C07C 67/303, FI分類-B01J 31/24 Z, FI分類-C07F 15/00 B, FI分類-C07C 69/734 Z, FI分類-C07B 61/00 300
2019年06月24日
特許庁 / 特許
ピロリン酸チタンの製造方法、リン酸チタンの製造方法及びプロトン伝導体の製造方法
FI分類-H01M 8/10, FI分類-C01B 25/42, FI分類-C04B 35/447, FI分類-C04B 35/462, FI分類-C01B 25/37 J, FI分類-C01B 25/45 H, FI分類-H01B 13/00 Z
2019年06月20日
特許庁 / 特許
ヨウ化物イオン吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/02 C, FI分類-G21F 9/12 501 F, FI分類-G21F 9/12 501 G
2019年04月16日
特許庁 / 特許
カルボン酸インジウムの製造方法
FI分類-C07C 51/41, FI分類-C07C 53/126, FI分類-C07F 5/00 J
2019年04月10日
特許庁 / 特許
被覆粒子
FI分類-C08K 5/03, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 101/02, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M
2019年04月05日
特許庁 / 特許
ビアリールホスフィンの製造方法
FI分類-C07F 9/50, FI分類-C07C 41/22, FI分類-C07C 43/225 D
2019年03月20日
特許庁 / 特許
InP量子ドットの製造方法
FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/70, FI分類-C09K 11/88, FI分類-C01B 25/08 A, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 G
2019年03月20日
特許庁 / 特許
シリルホスフィン化合物、シリルホスフィン化合物の製造方法及びInP量子ドットの製造方法
FI分類-C07F 9/06, FI分類-C07F 7/08 Z, FI分類-C01B 25/08 A, FI分類-C07F 19/00 CSP
2019年03月01日
特許庁 / 特許
2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び不斉触媒並びに有機ホウ素化合物の製造方法
FI分類-C07C 231/12, FI分類-C07C 233/05, FI分類-C07C 233/18, FI分類-C07C 233/31, FI分類-C07C 233/47, FI分類-C07F 1/08 Z, FI分類-C07F 5/02 C, FI分類-C07F 7/08 S, FI分類-B01J 31/24 Z, FI分類-C07F 15/00 B, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 9/6509 CSPZ
2019年01月18日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 B
2018年12月04日
特許庁 / 特許
ホスフィノベンゼンボラン誘導体の製造方法、1,2-ビス(ジアルキルホスフィノ)ベンゼン誘導体の製造方法及び遷移金属錯体
FI分類-C07F 9/50, FI分類-C07F 5/02 F, FI分類-C07F 19/00 CSP
2018年12月04日
特許庁 / 特許
ホスフィノベンゼンボラン誘導体の製造方法、1,2-ビス(ジアルキルホスフィノ)ベンゼン誘導体の製造方法及び遷移金属錯体
FI分類-C07F 9/50 CSP
2018年11月16日
特許庁 / 特許
被覆粒子の製造方法
FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-C23C 28/00 A, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 D
2018年11月15日
特許庁 / 特許
改質ペロブスカイト型複合酸化物の製造方法
FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01G 23/00 C, FI分類-C01G 33/00 A
2018年11月05日
特許庁 / 特許
負熱膨張材、その製造方法及び複合材料
FI分類-C08K 3/32, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/45 H
2018年10月15日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 B, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-C01G 51/00 A
2018年10月15日
特許庁 / 特許
リチウム二次電池用正極活物質、その製造方法及びリチウム二次電池
FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/36 B, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/62 Z, FI分類-C01G 51/00 A
2018年10月10日
特許庁 / 特許
改質リン酸タングステン酸ジルコニウム、負熱膨張フィラー及び高分子組成物
FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/45 Z
2018年10月03日
特許庁 / 特許
ホスフィン遷移金属錯体、その製造方法及び抗がん剤
FI分類-C07F 1/12, FI分類-A61K 33/24, FI分類-A61P 35/00, FI分類-C07F 9/50 CSP
2018年09月28日
特許庁 / 特許
光学活性な2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体、その製造方法、遷移金属錯体及び有機ホウ素化合物の製造方法
FI分類-C07F 5/02 C, FI分類-B01J 31/24 Z, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 9/6509 CSPZ
2018年08月27日
特許庁 / 特許
被覆粒子
FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M
2018年07月31日
特許庁 / 特許
二酸化バナジウムの製造方法
FI分類-C01G 31/02, FI分類-C09K 9/00 E
2018年06月15日
特許庁 / 特許
光学活性な2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及び光学活性なホスフィン遷移金属錯体の製造方法
FI分類-C07F 1/12, FI分類-C07F 9/6509 Z
2018年06月11日
特許庁 / 特許
リン酸バナジウムリチウムの製造方法
FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 25/45 M
2018年05月24日
特許庁 / 特許
乾燥水電解水素ガスの製造方法及び吸収液
FI分類-C01B 3/52, FI分類-C01B 3/56, FI分類-C25B 1/04, FI分類-B01D 53/28, FI分類-C01B 3/04 R, FI分類-B01D 53/26 300
2018年05月16日
特許庁 / 特許
光焼結型組成物及びそれを用いた導電膜の形成方法
FI分類-B22F 3/10 G, FI分類-B22F 9/00 B, FI分類-H01B 1/02 A, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 13/00 503 C
2018年04月25日
特許庁 / 特許
被覆粒子及びその製造方法
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-H01R 43/00 H, FI分類-H01B 13/00 501 P, FI分類-H01R 11/01 501 A, FI分類-H01R 11/01 501 D, FI分類-H01R 11/01 501 E
2018年04月25日
特許庁 / 特許
被覆粒子及びその製造方法
FI分類-H01B 5/16, FI分類-H01B 5/00 C, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-H01B 13/00 501 P, FI分類-H01R 11/01 501 E
2017年12月07日
特許庁 / 特許
ペロブスカイト型チタン酸バリウム粉末の製造方法
FI分類-C01G 23/00 C
2017年11月17日
特許庁 / 特許
シリコチタネート成形体の製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/32, FI分類-B01J 20/10 A, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D
2017年11月02日
特許庁 / 特許
光焼結型組成物及びそれを用いた導電膜の形成方法
FI分類-C01G 3/02, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H05K 1/09 A, FI分類-H01B 13/00 503 C
2017年11月02日
特許庁 / 特許
亜酸化銅粒子の製造方法
FI分類-C01G 3/02, FI分類-C08K 3/22, FI分類-H01B 1/08, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-C01G 19/00 A, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01B 13/00 503 Z
2017年09月19日
特許庁 / 特許
シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
FI分類-C07F 9/50
2017年09月19日
特許庁 / 特許
シリルホスフィン化合物の製造方法及びシリルホスフィン化合物
FI分類-C07F 9/06, FI分類-C07F 7/08 W, FI分類-C01B 25/08 G, FI分類-C01B 25/08 Z, FI分類-C07F 19/00 CSP
2017年08月08日
特許庁 / 特許
2,3-ビスホスフィノピラジン誘導体の製造方法及びホスフィン遷移金属錯体の製造方法
FI分類-C07F 1/12, FI分類-C07F 9/50
2017年07月05日
特許庁 / 特許
シリコチタネート成形体及びその製造方法、シリコチタネート成形体を含むセシウム又はストロンチウムの吸着剤、及び当該吸着剤を用いる放射性廃液の除染方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-B28B 3/20 K, FI分類-C04B 35/462, FI分類-C04B 35/499, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/12 501 J
2017年06月22日
特許庁 / 特許
放射性廃棄物固化体の製造方法
FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/30 511 B, FI分類-G21F 9/30 519 C
2017年06月22日
特許庁 / 特許
放射性廃棄物固化体の製造方法
FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/30 519 A, FI分類-G21F 9/30 519 C
2017年06月16日
特許庁 / 特許
ニオブ酸アルカリ化合物の製造方法
FI分類-H01L 41/187, FI分類-C01G 33/00 A
2017年06月16日
特許庁 / 特許
圧電体材料用フィラー、複合圧電体材料及び複合圧電体素子
FI分類-H01L 41/18, FI分類-H01L 41/37, FI分類-C04B 35/495, FI分類-H01L 41/187, FI分類-C01G 33/00 A
2017年06月16日
特許庁 / 特許
複合圧電体材料、複合圧電体素子及び複合圧電体材料用フィラー
FI分類-H01L 41/18, FI分類-H01L 41/37, FI分類-H01L 41/187
2017年03月29日
特許庁 / 特許
金属イオン吸着剤
FI分類-C01B 33/36, FI分類-C02F 1/28 E, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D
2017年02月15日
特許庁 / 特許
セシウム又は/及びストロンチウム吸着剤
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 A, FI分類-G21F 9/12 501 D
2017年01月25日
特許庁 / 特許
重金属イオン吸着剤
FI分類-C01B 33/20, FI分類-C02F 1/28 B, FI分類-C02F 1/28 C, FI分類-C02F 1/28 E, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z
2016年12月28日
特許庁 / 特許
リン酸バナジウムリチウムの製造方法
FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 25/45 Z
2016年12月19日
特許庁 / 特許
結晶性シリコチタネートを含む吸着剤の製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-C02F 1/28 A, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2016年12月06日
特許庁 / 特許
放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法
FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/12 501 J
2016年12月01日
特許庁 / 特許
非晶質の水酸化鉄(III)を含有する吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/06 A, FI分類-B01J 20/06 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-C01G 49/02 A, FI分類-G21F 9/12 501 B
2016年11月28日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材
FI分類-C08L 5/16, FI分類-B01J 20/30, FI分類-C08G 77/24, FI分類-C08L 71/08, FI分類-C08L 83/08, FI分類-B01J 20/26 J, FI分類-B01D 17/022 501, FI分類-B01D 17/00 503 D
2016年11月28日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C08L 75/04, FI分類-C08L 83/08, FI分類-B01J 20/26 J, FI分類-B01D 17/022 503, FI分類-B01D 17/04 501 A, FI分類-B01D 17/04 504 G
2016年11月17日
特許庁 / 特許
ビスマス鉄酸化物の製造方法
FI分類-C01G 49/00 A
2016年11月17日
特許庁 / 特許
ビスマス鉄酸化物の製造方法
FI分類-C01G 49/00 A
2016年11月14日
特許庁 / 特許
複合チタン酸化物の製造方法
FI分類-C01G 29/00, FI分類-H01L 41/37, FI分類-H01L 41/43, FI分類-C04B 35/475
2016年11月08日
特許庁 / 特許
電気化学発光セル、電気化学発光セルの発光層形成用組成物、及び電気化学発光セルの発光層用イオン性化合物
FI分類-C07C 53/10, FI分類-C07C 309/30, FI分類-C07C 309/31, FI分類-H05B 33/14 B, FI分類-H05B 33/14 Z, FI分類-C07F 9/54 CSP, FI分類-C09K 11/06 680, FI分類-C09K 11/06 690
2016年10月26日
特許庁 / 特許
結晶性シリコチタネートの製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2016年09月30日
特許庁 / 特許
負熱膨張材及びそれを含む複合材料
FI分類-C08K 3/32, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 25/45 H
2016年09月30日
特許庁 / 特許
リン酸タングステン酸ジルコニウムの製造方法
FI分類-C04B 35/447, FI分類-C04B 35/622, FI分類-C01B 25/45 Z, FI分類-C01G 41/00 A
2016年09月06日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法、それを用いた油水分離材、及びそれを用いた有機化合物吸着剤
FI分類-C08J 3/14, FI分類-C08L 5/16, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C02F 1/28 N, FI分類-C02F 1/40 E, FI分類-B01J 20/26 J
2016年07月20日
特許庁 / 特許
電気化学発光セルの発光層用添加剤、電気化学発光セルの発光層形成用組成物及び電気化学発光セル
FI分類-H05B 33/14 B, FI分類-C09K 11/06 690
2016年05月18日
特許庁 / 特許
硫化リチウムの製造方法及び無機固体電解質の製造方法
FI分類-C01B 17/24, FI分類-H01B 13/00 Z
2016年04月04日
特許庁 / 特許
セシウム及び/又はストロンチウム吸着剤の製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/32, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2016年03月09日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
FI分類-C08G 77/24, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 75/08, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C08G 18/08 038, FI分類-C08G 18/48 033, FI分類-B01D 17/022 501
2016年03月09日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子およびその製造方法
FI分類-C08K 3/34, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/14, FI分類-B01D 17/022 502 G
2016年03月09日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
FI分類-C08L 1/26, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/14, FI分類-B01D 17/04 501 B, FI分類-B01D 17/04 504 G
2016年03月08日
特許庁 / 特許
熱電変換材料、熱電変換素子及び熱電変換モジュール
FI分類-H01L 35/22, FI分類-H01L 35/34, FI分類-C04B 35/00 J, FI分類-H02N 11/00 A
2016年03月03日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法、ゲル化剤及び油水分離材
FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C02F 1/00 E, FI分類-C08J 3/12 CFHZ, FI分類-C09K 3/00 103 L
2016年03月03日
特許庁 / 特許
コンポジット粒子、その製造方法及び油水分離材
FI分類-C08K 3/34, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 25/06, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C08J 3/12 CETZ, FI分類-B01D 17/04 501 J, FI分類-B01D 17/04 504 G
2016年03月03日
特許庁 / 特許
油水分離材および油水分離方法
FI分類-C08K 3/36, FI分類-B01D 39/04, FI分類-C08L 27/18, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-B01D 39/16 A, FI分類-B01D 17/022 501, FI分類-B01D 17/04 504 G, FI分類-B01D 17/04 504 H
2016年03月01日
特許庁 / 特許
誘電体セラミック材料、その製造方法及び複合誘電体材料
FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H01B 3/00 A, FI分類-H01B 3/30 K, FI分類-C01G 23/00 C, FI分類-H01B 3/12 303
2016年01月30日
特許庁 / 特許
二酸化バナジウムの製造方法
FI分類-C01G 31/02, FI分類-C09K 5/14 E
2015年12月24日
特許庁 / 特許
放射性アンチモン、放射性ヨウ素及び放射性ルテニウムの吸着剤、当該吸着剤を用いた放射性廃液の処理方法
FI分類-B01J 20/06 A, FI分類-B01J 20/06 B, FI分類-G21F 9/12 501 B, FI分類-G21F 9/12 501 J
2015年12月10日
特許庁 / 特許
放射性セシウム及び放射性ストロンチウムを含む放射性廃液の処理方法
FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/12 501 J
2015年11月25日
特許庁 / 特許
非水電池
FI分類-H01M 4/58, FI分類-C08G 61/12, FI分類-C08G 75/02, FI分類-H01M 10/0566
2015年10月09日
特許庁 / 特許
チタン酸バリウム粉末の製造方法
FI分類-C01G 23/00 C
2015年10月09日
特許庁 / 特許
チタン酸バリウム粉末の製造方法
FI分類-C01G 23/00 C
2015年10月06日
特許庁 / 特許
吸着材
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 39/00, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 D
2015年09月28日
特許庁 / 特許
ポリエステル樹脂組成物
FI分類-C08F 2/32, FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 291/06, FI分類-C08J 7/04 CFDZ
2015年09月23日
特許庁 / 特許
キラルγ-第二級アミンアルコールの製造方法
FI分類-C07C 213/00, FI分類-C07C 215/30, FI分類-C07C 217/72, FI分類-C07D 307/14, FI分類-C07D 317/58, FI分類-C07D 333/20, FI分類-C07B 53/00 B, FI分類-C07B 61/00 300
2015年09月03日
特許庁 / 特許
放射性物質吸着シート
FI分類-B01J 20/06 A, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-C01B 33/12 B, FI分類-G21F 9/12 501 D, FI分類-G21F 9/12 501 K
2015年08月18日
特許庁 / 特許
ストロンチウム吸着シート
FI分類-B01J 20/10 A, FI分類-G21F 9/12 501 B, FI分類-G21F 9/12 501 K
2015年07月30日
特許庁 / 特許
吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/24, FI分類-B01J 20/10 A, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 B
2015年07月30日
特許庁 / 特許
吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/24, FI分類-B01J 20/10 A, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-G21F 9/12 501 B
2015年05月22日
特許庁 / 特許
硫化リチウムの製造方法及び無機固体電解質の製造方法
FI分類-C01B 17/24, FI分類-H01B 13/00 Z
2015年04月16日
特許庁 / 特許
フッ化クロム(III)水和物及びその製造方法
FI分類-C01G 37/04
2015年03月18日
特許庁 / 特許
熱電変換材料の製造方法
FI分類-H01L 35/22, FI分類-H01L 35/34, FI分類-C01G 51/00 A, FI分類-C04B 35/00 J, FI分類-H02N 11/00 A
2015年03月03日
特許庁 / 特許
二酸化バナジウムの製造方法
FI分類-C09K 5/02, FI分類-C01G 31/00
2015年02月18日
特許庁 / 特許
アルカリ金属の9チタン酸塩の製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/06 B, FI分類-C01G 23/00 B, FI分類-G21F 9/12 501 D
2015年01月26日
特許庁 / 特許
吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/06 C, FI分類-B01J 20/18 E, FI分類-G21F 9/12 501 B
2014年10月02日
特許庁 / 特許
結晶性シリコチタネートの製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2014年10月02日
特許庁 / 特許
結晶性シリコチタネートの製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/20, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2014年09月05日
特許庁 / 特許
ヨウ素酸イオン吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 7/14 Z, FI分類-B01J 20/06 A, FI分類-C01F 17/00 A, FI分類-G21F 9/12 501 B
2014年09月05日
特許庁 / 特許
ヨウ素酸イオン吸着剤及びその製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/06 A, FI分類-G21F 9/12 501 B
2014年07月25日
特許庁 / 特許
α-アルミン酸リチウムの製造方法
FI分類-C01F 7/04 Z, FI分類-H01M 8/02 T
2014年05月30日
特許庁 / 特許
バリウム化合物を含む粉末状組成物
FI分類-C01F 11/44, FI分類-C01B 33/12 Z
2014年04月09日
特許庁 / 特許
亜クロム酸ナトリウムの製造方法
FI分類-C01G 37/14, FI分類-H01M 4/485, FI分類-H01M 10/054
2014年03月27日
特許庁 / 特許
吸着材
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/36, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2014年03月27日
特許庁 / 特許
結晶性シリコチタネートの製造方法
FI分類-B01J 20/30, FI分類-C01B 33/32, FI分類-B01J 20/10 C, FI分類-G21F 9/12 501 D
2014年02月26日
特許庁 / 特許
カチオン重合性樹脂組成物、その製造方法及び接着構造体
FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 9/02, FI分類-C09J 9/02, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 163/00
2014年01月28日
特許庁 / 特許
α-アルミン酸リチウムの製造方法
FI分類-C01F 7/04 Z, FI分類-H01M 8/02 T
2014年01月15日
特許庁 / 特許
被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
FI分類-C09C 3/06, FI分類-C09J 9/02, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01B 1/00 C, FI分類-H01B 1/00 D, FI分類-H01B 1/22 D, FI分類-B32B 15/08 D, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 D
2014年01月15日
特許庁 / 特許
被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
FI分類-C09J 9/02, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01B 1/00 D, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H01B 1/20 D, FI分類-H01B 5/00 D, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 E
2014年01月15日
特許庁 / 特許
被覆導電性粉体、被覆導電性粉体の製造方法、被覆導電性粉体を含む導電性接着剤及び接着構造体
FI分類-C09J 7/00, FI分類-C09J 9/02, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01B 1/00 M, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 1/22 D, FI分類-H01B 5/00 M, FI分類-B32B 27/00 D, FI分類-B32B 27/18 J, FI分類-H01B 13/00 501 Z, FI分類-H01R 11/01 501 E

日本化学工業株式会社の商標情報(23件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2021年09月29日
特許庁 / 商標
CELLCERAM
01類
2021年09月29日
特許庁 / 商標
セルセラム
01類
2021年06月08日
特許庁 / 商標
HISHICOLIN
01類
2020年06月25日
特許庁 / 商標
キュアライト
09類
2020年06月25日
特許庁 / 商標
Curelight
09類
2020年06月25日
特許庁 / 商標
キュアショット
09類
2020年06月25日
特許庁 / 商標
フォトタクト
09類
2019年03月08日
特許庁 / 商標
フィルアクト
01類
2019年03月08日
特許庁 / 商標
FILLACT
01類
2019年03月08日
特許庁 / 商標
ダイナフィード
01類
2019年03月08日
特許庁 / 商標
ダイナキック
01類
2018年08月16日
特許庁 / 商標
フォステクト
01類
2018年08月16日
特許庁 / 商標
Phostect
01類
2018年08月03日
特許庁 / 商標
Surfect
01類
2017年06月27日
特許庁 / 商標
QuinoPhos
01類
2017年06月27日
特許庁 / 商標
キノホス
01類
2017年03月10日
特許庁 / 商標
サーモフィット
01類
2017年03月10日
特許庁 / 商標
サーテクト
01類
2017年03月10日
特許庁 / 商標
セラフィット
01類
2017年03月10日
特許庁 / 商標
Cerafit
01類
2016年01月21日
特許庁 / 商標
日本化学工業株式会社
01類, 02類, 03類, 05類, 09類, 11類, 19類, 39類, 42類
2014年11月05日
特許庁 / 商標
PURECERAM
01類
2014年07月02日
特許庁 / 商標
§T\ES
07類, 09類

日本化学工業株式会社の職場情報

項目 データ
事業概要
クロム製品、シリカ製品、燐製品、、バリウム製品、電子セラミック材料、電池材料、回路材料、半導体材料、量子ドット材料、各種ホスフィン誘導体、農薬原体、などの製造販売・輸出
企業規模
652人
男性 586人 / 女性 66人
平均勤続年数
範囲 正社員
男性 19.4年 / 女性 14.8年
女性労働者の割合
範囲 その他
20.0%

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