住友重機械イオンテクノロジー株式会社

住友重機械イオンテクノロジー株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	住友重機械イオンテクノロジー株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	スミトモジュウキカイイオンテクノロジー
法人番号	3010701022818
会社法人等番号	0107-01-022818
登記所	東京法務局品川出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T3010701022818 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒141-0032 ※地方自治体コードは 13109
国内所在地（都道府県）都道府県	東京都 ※東京都の法人数は 1,319,020件
国内所在地（市区町村）市区町村	品川区 ※品川区の法人数は 41,382件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	大崎2丁目1番1号
国内所在地（1行表示）1行表示	東京都品川区大崎2丁目1番1号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	トウキョウトシナガワクオオサキ2チョウメ
代表者	代表取締役 月原 光国
設立日	1983年04月01日
従業員数	547人
ホームページHP	https://shi-ion.jp/
更新年月日更新日	2025年01月31日
変更年月日変更日	2025年01月09日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	品川労働基準監督署 〒141-0021 東京都品川区上大崎3-13-26 (2階～4階)

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の場所

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住友重機械イオンテクノロジー株式会社の登録履歴

日付	内容
2025年01月09日	【吸収合併】 令和7年1月1日愛媛県西条市今在家1501番地株式会社センス(8500001009296)を合併
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「住友重機械イオンテクノロジー株式会社」で、「東京都品川区大崎2丁目1番1号」に新規登録されました。

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の法人活動情報

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 月原 光国 全省庁統一資格 / -

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の特許情報(58件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年09月25日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2020年03月18日 特許庁 / 特許	イオン生成装置 FI分類-H01J 27/20
2020年03月04日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびモデル生成方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2019年11月01日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 603 C
2019年08月07日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-C23C 14/48 B, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2019年08月07日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-C23C 14/48 B, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2019年07月19日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 C
2019年07月16日 特許庁 / 特許	イオン生成装置およびイオン注入装置 FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-C23C 14/48 Z, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 Z, FI分類-H01L 21/265 603 A
2019年03月19日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-G21F 7/00 Z, FI分類-G21K 1/00 N, FI分類-G21K 5/00 S, FI分類-G21K 5/04 A, FI分類-G21K 1/093 D, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2019年03月19日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-G01T 1/17 G, FI分類-G01T 3/00 G, FI分類-G21K 5/00 S, FI分類-G21K 5/04 A, FI分類-H05H 9/00 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 A
2019年03月18日 特許庁 / 特許	イオン生成装置およびイオン注入装置 FI分類-H05H 1/50, FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-G21K 5/04 A, FI分類-H01J 37/317 Z
2019年03月18日 特許庁 / 特許	イオン生成装置およびイオン注入装置 FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z
2019年03月18日 特許庁 / 特許	イオン生成装置およびイオン注入装置 FI分類-H01J 27/04, FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 B
2018年12月28日 特許庁 / 特許	イオン注入装置および測定装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2018年11月13日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびビームパーク装置 FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 B
2018年03月26日 特許庁 / 特許	イオン注入装置および測定装置 FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T
2018年02月08日 特許庁 / 特許	イオン注入装置および測定装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T
2018年02月08日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C
2017年11月22日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入装置の制御方法 FI分類-H01J 37/317 A
2017年05月31日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 C
2017年05月31日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオン注入方法 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 H, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 A, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2017年05月31日 特許庁 / 特許	イオン注入装置およびイオンビーム被照射体 FI分類-H01L 21/26 N, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 H, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 A, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2017年03月29日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 D
2017年03月24日 特許庁 / 特許	ウェハ保持装置及びウェハ着脱方法 FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/31 F, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D, FI分類-H01L 21/265 603 D
2017年03月08日 特許庁 / 特許	絶縁構造 FI分類-H01J 37/317 Z
2017年03月06日 特許庁 / 特許	イオン生成装置 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08
2017年02月27日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T
2017年01月06日 特許庁 / 特許	イオン注入方法およびイオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 C
2016年11月21日 特許庁 / 特許	イオン注入方法およびイオン注入装置 FI分類-H05H 5/06, FI分類-G21K 5/04 A, FI分類-H05H 9/00 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 A
2016年09月06日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2016年03月18日 特許庁 / 特許	イオン注入装置および測定装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/317 Z
2016年03月18日 特許庁 / 特許	イオン注入方法およびイオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 U
2016年03月18日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びスキャン波形作成方法 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C
2016年01月22日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/248 B, FI分類-H01J 37/317 Z
2015年12月10日 特許庁 / 特許	イオン注入方法およびイオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 U, FI分類-H01L 21/265 V, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2015年11月13日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、およびイオン注入装置の制御方法 FI分類-H01J 27/06, FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 A
2015年09月30日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2015年08月06日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びそれを用いた複数枚のウェハの処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 603 C
2015年05月29日 特許庁 / 特許	プラズマ生成装置 FI分類-H05H 1/48, FI分類-H01J 27/14, FI分類-H01J 37/08
2014年10月17日 特許庁 / 特許	ビーム引出スリット構造、イオン源、及びイオン注入装置 FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08
2014年09月11日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオンビームの調整方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T
2014年08月08日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年07月09日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 FI分類-H01J 37/248 C, FI分類-H01J 37/248 Z, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年06月23日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年06月17日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 603 C, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年06月13日 特許庁 / 特許	ビーム照射装置及びビーム照射方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年06月13日 特許庁 / 特許	ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年06月09日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年05月26日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/153 Z, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01L 21/265 603 B, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年05月26日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 A
2014年05月26日 特許庁 / 特許	イオン発生装置および熱電子放出部 FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 A
2014年05月26日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 37/147 D, FI分類-H01J 37/153 Z, FI分類-H01J 37/317 A
2014年04月25日 特許庁 / 特許	イオン注入方法及びイオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年04月23日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年03月27日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、最終エネルギーフィルター、及びイオン注入方法 FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 B
2014年03月14日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、ビームエネルギー測定装置、及びビームエネルギー測定方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 T
2014年02月10日 特許庁 / 特許	高エネルギーイオン注入装置、ビーム平行化器、及びビーム平行化方法 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2014年01月29日 特許庁 / 特許	イオン注入装置及びイオン注入装置の制御方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01J 37/317 Z

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の商標情報(5件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年08月01日 特許庁 / 商標	§SAion 07類
2023年06月30日 特許庁 / 商標	Scorpion 07類
2023年06月30日 特許庁 / 商標	S-UHE 07類
2023年06月30日 特許庁 / 商標	SS-UHE 07類
2015年06月22日 特許庁 / 商標	SMIT 07類

住友重機械イオンテクノロジー株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	イオン注入装置の開発、製造、販売及びサービス
企業規模	547人 男性 485人 / 女性 62人
平均勤続年数 範囲 対象とする労働者すべて	男性 15.0年 / 女性 11.0年
女性労働者の割合 範囲 正社員	9.6%

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