三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社とは

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社(ミツビシケミカルアクアソリューションズ)は、法人番号:3013301015299で東京都品川区大崎1丁目11番2号に所在する法人として東京法務局豊島出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、表彰情報が1件特許情報が31件が登録されています。なお、2019年04月02日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2019年04月12日です。
インボイス番号:T3013301015299については、2024年08月31日現在、適格請求書発行事業者の登録は確認できません。
この地域の労働局は東京労働局。品川労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ ミツビシケミカルアクアソリューションズ
法人番号 3013301015299
会社法人等番号 0133-01-015299
登記所 東京法務局豊島出張所
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T3013301015299
※2024年08月31日現在、適格請求書発行事業者の登録は確認できません。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒141-0032
※地方自治体コードは 13109
国内所在地(都道府県)都道府県 東京都
※東京都の法人数は 1,319,368件
国内所在地(市区町村)市区町村 品川区
※品川区の法人数は 41,396件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 大崎1丁目11番2号
国内所在地(1行表示)1行表示 東京都品川区大崎1丁目11番2号
国内所在地(読み仮名)読み仮名 トウキョウトシナガワクオオサキ1チョウメ
更新年月日更新日 2019年04月12日
変更年月日変更日 2019年04月02日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 東京労働局
〒102-8305~〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階~14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 品川労働基準監督署
〒141-0021 東京都品川区上大崎3-13-26 (2階~4階)

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の場所

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三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の登録履歴

日付 内容
2019年04月02日
【登記閉鎖】
平成31年4月1日東京都品川区大崎一丁目11番2号三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社(6010001070878)に合併し解散
2017年04月03日
【名称変更】
名称が「三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社」に変更されました。
2015年12月14日
【住所変更】
国内所在地が「東京都品川区大崎1丁目11番2号」に変更されました。
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「三菱レイヨンアクア・ソリューションズ株式会社」で、「東京都千代田区一ツ橋1丁目1番1号」に新規登録されました。

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の登記記録の閉鎖等状況

登記記録の閉鎖等状況
合併による解散等 設立登記法人について、合併による解散等により登記記録が閉鎖された。

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社と同じ名称の法人

件数 リンク
2件 ※「三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社」と同じ名称の法人を探す

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の法人活動情報

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の表彰情報(1件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年12月04日
両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

三菱ケミカルアクア・ソリューションズ株式会社の特許情報(31件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2019年08月29日
特許庁 / 特許
水処理用基材、水処理装置、冷却塔及び冷却システム
FI分類-C02F 5/12, FI分類-C02F 1/00 K, FI分類-C02F 1/76 A, FI分類-C02F 5/14 A, FI分類-F28G 13/00 A, FI分類-C02F 1/50 510 A, FI分類-C02F 1/50 510 C, FI分類-C02F 1/50 520 K, FI分類-C02F 1/50 531 J, FI分類-C02F 1/50 531 K, FI分類-C02F 1/50 531 L, FI分類-C02F 1/50 531 M, FI分類-C02F 1/50 531 P, FI分類-C02F 1/50 532 C, FI分類-C02F 1/50 532 D, FI分類-C02F 1/50 532 H, FI分類-C02F 1/50 532 J, FI分類-C02F 1/50 540 F, FI分類-C02F 1/50 550 C, FI分類-C02F 1/50 560 Z, FI分類-C02F 5/00 610 F, FI分類-C02F 5/10 610 Z, FI分類-C02F 5/10 620 B, FI分類-C02F 5/10 620 F, FI分類-F28F 19/00 501 A, FI分類-F28F 19/00 501 B, FI分類-F28F 19/00 511 A
2017年12月28日
特許庁 / 特許
遠隔監視システム、遠隔監視方法、遠隔監視プログラム、画像作成装置、画像作成方法、及び画像作成プログラム
FI分類-E03B 3/04, FI分類-E03B 3/15, FI分類-C02F 1/00 L, FI分類-C02F 1/00 V, FI分類-H04M 11/00 301, FI分類-H04Q 9/00 311 J
2017年12月15日
特許庁 / 特許
透過水の製造方法、水処理装置及び該水処理装置の運転方法
FI分類-B01D 61/00, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/20 A, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-C02F 1/44 D, FI分類-B01D 19/00 H
2017年09月28日
特許庁 / 特許
被処理水の処理方法および陽イオン交換樹脂の逆洗方法
FI分類-C02F 1/42 A, FI分類-C02F 1/42 B, FI分類-B01J 39/04 110, FI分類-B01J 39/04 120, FI分類-B01J 47/02 120, FI分類-B01J 49/00 111, FI分類-B01J 49/00 170
2017年09月06日
特許庁 / 特許
排水処理方法
FI分類-C02F 9/02, FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 9/14, FI分類-B01D 65/02, FI分類-B01D 65/08, FI分類-C02F 1/20 C, FI分類-C02F 1/44 C, FI分類-C02F 1/44 D, FI分類-C02F 1/44 F, FI分類-C02F 1/52 K, FI分類-C02F 1/58 H, FI分類-C02F 1/70 Z, FI分類-C02F 3/28 Z, FI分類-C02F 3/34 Z
2017年07月20日
特許庁 / 特許
かび臭物質の除去方法およびかび臭物質を除去可能な水処理装置
FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 9/08, FI分類-B01J 39/20, FI分類-B01J 41/14, FI分類-B01J 47/02, FI分類-B01J 47/10, FI分類-C02F 1/28 D, FI分類-C02F 1/28 Z, FI分類-C02F 1/42 B, FI分類-B01J 20/22 C, FI分類-B01J 20/24 C, FI分類-B01J 20/26 G, FI分類-B01J 39/04 110, FI分類-B01J 39/04 120, FI分類-B01J 41/04 110, FI分類-B01J 41/04 120, FI分類-B01J 47/12 110, FI分類-B01J 49/00 111, FI分類-B01J 49/00 112, FI分類-B01J 49/00 161, FI分類-B01J 49/00 162
2017年07月03日
特許庁 / 特許
水処理方法および水処理装置
FI分類-C02F 9/02, FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 1/28 D, FI分類-C02F 1/42 B, FI分類-C02F 1/76 C, FI分類-C02F 1/76 Z
2017年04月24日
特許庁 / 特許
可溶性物質の分離装置、制御装置および可溶性物質の分離方法
FI分類-B01D 15/00 A
2017年01月17日
特許庁 / 特許
排水処理方法および排水処理装置
FI分類-C02F 1/44 E, FI分類-C02F 3/12 D, FI分類-C02F 3/12 H, FI分類-C02F 3/12 M, FI分類-C02F 3/12 S, FI分類-C02F 3/30 A, FI分類-C02F 3/30 Z
2016年12月27日
特許庁 / 特許
精製水供給システムおよびその運転方法
FI分類-A61L 2/04
2016年12月27日
特許庁 / 特許
精製水供給システムおよびその運転方法
FI分類-A61L 2/04, FI分類-A61L 2/18, FI分類-C02F 9/02, FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 9/12, FI分類-A61L 101:06, FI分類-A61M 1/16 161
2016年12月27日
特許庁 / 特許
精製水製造装置内蔵カウンターおよびそのメンテナンス方法
FI分類-A61L 2/04, FI分類-A61L 2/18, FI分類-A61L 101:06, FI分類-A61L 101:32, FI分類-A61L 101:36, FI分類-C02F 1/00 B, FI分類-C02F 1/28 F, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-A61M 1/16 161
2016年12月27日
特許庁 / 特許
精製水供給システムおよびその運転方法
FI分類-A61L 2/04, FI分類-A61L 2/10, FI分類-A61L 2/18, FI分類-A61M 1/16 167
2016年11月28日
特許庁 / 特許
被酸化性物質含有廃水の処理方法
FI分類-B01D 69/08, FI分類-C02F 1/44 K, FI分類-C02F 1/72 Z
2016年06月15日
特許庁 / 特許
フミン含有排水の処理方法及び処理装置
FI分類-C02F 9/02, FI分類-C02F 9/04, FI分類-C02F 9/14, FI分類-C02F 1/44 F, FI分類-C02F 1/58 E, FI分類-C02F 3/10 Z, FI分類-C02F 3/12 N, FI分類-C02F 3/12 S
2016年05月13日
特許庁 / 特許
水処理方法および水処理システム
FI分類-C02F 1/42 B, FI分類-C02F 3/08 Z, FI分類-C02F 3/10 Z, FI分類-B01J 39/04 110, FI分類-B01J 49/00 111, FI分類-C02F 3/34 101 A, FI分類-C02F 3/34 101 B, FI分類-C02F 3/34 101 C
2016年05月11日
特許庁 / 特許
生物硝化方法及び生物硝化システム
FI分類-C02F 3/08 B, FI分類-C02F 3/34 101 A, FI分類-C02F 3/34 101 B, FI分類-C02F 3/34 101 D
2016年04月28日
特許庁 / 特許
水処理装置
FI分類-B01D 63/02, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-B01D 65/02 520
2016年02月03日
特許庁 / 特許
医薬精製水製造装置および医薬精製水の製造装置の殺菌方法
FI分類-A61L 2/04, FI分類-C02F 1/32, FI分類-B01D 61/48, FI分類-C02F 1/28 D, FI分類-C02F 1/28 F, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-C02F 1/70 Z, FI分類-C02F 1/46 103, FI分類-C02F 9/00 502 A, FI分類-C02F 9/00 502 D, FI分類-C02F 9/00 502 F, FI分類-C02F 9/00 502 H, FI分類-C02F 9/00 502 L, FI分類-C02F 9/00 502 N, FI分類-C02F 9/00 502 Z, FI分類-C02F 9/00 503 A, FI分類-C02F 9/00 504 B
2015年10月19日
特許庁 / 特許
水処理方法及び水処理装置
FI分類-C02F 1/44 K, FI分類-C02F 3/34 101 A, FI分類-C02F 3/34 101 B, FI分類-C02F 3/34 101 C, FI分類-C02F 3/34 101 D
2015年03月24日
特許庁 / 特許
医薬精製水製造装置および医薬精製水の製造方法
FI分類-C02F 1/32, FI分類-A61K 47/04, FI分類-B01D 61/04, FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/28 F, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-C02F 1/70 Z
2015年03月24日
特許庁 / 特許
逆浸透膜処理方法
FI分類-B01D 61/04, FI分類-B01D 65/06, FI分類-C02F 1/42 B, FI分類-C02F 1/44 C, FI分類-C02F 1/44 D, FI分類-B01D 61/02 500, FI分類-B01D 65/02 530, FI分類-C02F 5/00 620 C
2015年03月24日
特許庁 / 特許
濾過装置、医薬精製水製造装置および医薬精製水の製造方法
FI分類-C02F 1/32, FI分類-A61K 47/02, FI分類-B01D 61/04, FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/28 A, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-C02F 1/70 B
2015年03月18日
特許庁 / 特許
被処理水の処理装置および被処理水の処理方法
FI分類-C02F 3/34 101 A, FI分類-C02F 3/34 101 B, FI分類-C02F 3/34 101 Z
2014年11月28日
特許庁 / 特許
地下水の溶存酸素量の増加防止方法
FI分類-E03B 3/08 Z
2014年11月10日
特許庁 / 特許
長繊維濾過装置
FI分類-B01D 29/08 520 C, FI分類-B01D 29/08 530 D, FI分類-B01D 29/08 540 A, FI分類-B01D 29/38 510 B, FI分類-B01D 29/38 520 C, FI分類-B01D 29/38 580 H
2014年06月10日
特許庁 / 特許
アンモニア態窒素含有水の処理方法
FI分類-C02F 3/10 Z, FI分類-C02F 3/12 V, FI分類-C02F 3/34 101 D
2014年02月06日
特許庁 / 特許
純水製造方法
FI分類-B01D 61/08, FI分類-B01D 61/48, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/44 J, FI分類-C02F 1/46 103
2014年02月06日
特許庁 / 特許
純水製造方法
FI分類-B01D 61/02, FI分類-B01D 61/48, FI分類-B01D 61/58, FI分類-C02F 1/469, FI分類-C02F 1/44 H, FI分類-B01D 61/54 500
2014年01月29日
特許庁 / 特許
逆浸透膜装置及びその運転方法
FI分類-B01D 61/08, FI分類-B01D 61/12, FI分類-B01D 61/58, FI分類-B01D 63/12, FI分類-B01D 65/02, FI分類-C02F 1/44 A
2014年01月24日
特許庁 / 特許
被処理水の処理装置、純水の製造装置および被処理水の処理方法
FI分類-C02F 1/42 E, FI分類-C02F 1/44 A, FI分類-C02F 1/44 J, FI分類-C02F 1/46 103, FI分類-C02F 9/00 502 F, FI分類-C02F 9/00 502 G, FI分類-C02F 9/00 502 H, FI分類-C02F 9/00 502 J, FI分類-C02F 9/00 502 L, FI分類-C02F 9/00 502 N, FI分類-C02F 9/00 503 B, FI分類-C02F 9/00 504 B

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