法人番号:3020001069823
東京応化工業株式会社
情報更新日:2024年08月31日
東京応化工業株式会社とは
東京応化工業株式会社（トウキョウオウカコウギョウ）は、法人番号:3020001069823で神奈川県川崎市中原区中丸子150番地に所在する法人として横浜地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、取締役社長種市順昭。資本金は146億4,000万円。従業員数は1,462人。登録情報として、表彰情報が5件、届出情報が5件、特許情報が709件、商標情報が29件、意匠情報が9件、職場情報が1件が登録されています。なお、2023年04月12日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2023年05月09日です。
インボイス番号:T3020001069823については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は神奈川労働局。川崎北労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
東京応化工業株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 東京応化工業株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | トウキョウオウカコウギョウ |
| 法人番号 | 3020001069823 |
| 会社法人等番号 | 0200-01-069823 |
| 登記所 | 横浜地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T3020001069823 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒211-0012 ※地方自治体コードは 14133 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 神奈川県 ※神奈川県の法人数は 365,907件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 川崎市中原区 ※川崎市中原区の法人数は 8,763件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 中丸子150番地 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | カナガワケンカワサキシナカハラクナカマルコ |
| 代表者 | 取締役社長 種市 順昭 |
| 資本金 | 146億4,000万円 (2024年03月29日現在) |
| 従業員数 | 1,462人 (2024年09月16日現在) |
| 電話番号TEL | 044-435-3000 |
| FAX番号FAX | 044-435-3020 |
| ホームページHP | https://www.tok.co.jp/csr/employees/rights.html |
| 更新年月日更新日 | 2023年05月09日 |
| 変更年月日変更日 | 2023年04月12日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 川崎北労働基準監督署 〒213-0001 神奈川県川崎市高津区溝口1-21-9 |
東京応化工業株式会社の場所
東京応化工業株式会社の補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | トウキョウオウカコウギョウカブシキガイシャ |
| 企業名 英語 | TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. |
| 上場・非上場 | 上場 |
| 資本金 | 146億4,000万円 |
| 業種 | 化学 |
| 証券コード | 41860 |
東京応化工業株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2023年04月12日 | 【吸収合併】 令和5年4月1日埼玉県熊谷市御稜威ケ原上林823番地8熊谷応化株式会社(2030001084632)を合併 |
| 2019年04月01日 | 【吸収合併】 平成31年4月1日神奈川県高座郡寒川町一之宮七丁目8番16号ティーオーケーテクノサービス株式会社(9021001006406)を合併 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「東京応化工業株式会社」で、「神奈川県川崎市中原区中丸子150番地」に新規登録されました。 |
東京応化工業株式会社の法人活動情報
東京応化工業株式会社の表彰情報(5件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2012 |
2017年12月05日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2012年 |
2017年12月04日 | 女性の活躍推進企業 |
2017年12月04日 | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 |
2014年03月17日 | GNT企業100選 半導体用フォトレジスト(基盤を焼き付ける薬品) |
東京応化工業株式会社の届出情報(5件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:東京応化工業株式会社 阿蘇工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:東京応化工業株式会社 御殿場工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:東京応化工業株式会社 相模事業所 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:東京応化工業株式会社 宇都宮工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2002年02月06日 | アルコール事業 - 許可使用者 |
東京応化工業株式会社の特許情報(709件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年06月15日 特許庁 / 特許 | 半導体デバイス用処理液、基板の処理方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-C11D 7/04, FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2022年10月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び高分子化合物 FI分類-C07C 57/60, FI分類-C07C 59/68, FI分類-C07C 59/70, FI分類-C07C 63/74, FI分類-C07C 65/28, FI分類-C07C 69/63, FI分類-C07C 69/84, FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 229/56, FI分類-C07C 229/60, FI分類-C07C 233/55, FI分類-C07C 233/81, FI分類-C07C 271/02, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07C 69/653, FI分類-C07C 69/773, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C07C 69/82 A, FI分類-C07C 69/65 CSP, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年09月27日 特許庁 / 特許 | 水性洗浄液及び電子デバイスの洗浄方法 FI分類-B08B 3/04, FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/36, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2022年09月20日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年08月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、並びに、化合物及びその中間体 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07D 333/76, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年08月01日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C07D 327/06, FI分類-C07D 333/76, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年04月20日 特許庁 / 特許 | 光硬化性組成物 FI分類-C08F 20/20, FI分類-C08F 20/38, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 292/00 |
2022年04月12日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 65/17, FI分類-C07C 65/105, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年03月29日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 65/10, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C08F 212/02, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年03月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、及び、酸発生剤 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年03月10日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及び、レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年01月21日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び、化合物 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2021年12月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年12月14日 特許庁 / 特許 | 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法 FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/304 647 |
2021年12月14日 特許庁 / 特許 | 金属レジスト除去用洗浄液、及び該洗浄液を用いた洗浄方法 FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/34, FI分類-C11D 7/36, FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/304 647 |
2021年10月22日 特許庁 / 特許 | 酸発生剤の製造方法 FI分類-C07C 51/41, FI分類-C07C 63/70, FI分類-C07C 67/28, FI分類-C07C 69/88, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 333/54, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 335/02, FI分類-C07C 65/03 B, FI分類-C07C 69/76 Z |
2021年09月24日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び酸拡散制御剤 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 69/616 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年09月22日 特許庁 / 特許 | 組成物、及び感光性組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C07C 67/14, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08L 51/10, FI分類-C07C 253/30, FI分類-C07C 255/54, FI分類-C07D 217/00, FI分類-C07D 277/74, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 292/00, FI分類-C07C 69/54 CSPZ |
2021年09月22日 特許庁 / 特許 | 組成物、及び感光性組成物 FI分類-C08F 20/38, FI分類-C07C 323/64, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C07C 319/20 CSP |
2021年07月28日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び表面処理方法 FI分類-C08F 226/04, FI分類-C09D 157/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-B05D 7/24 302 G, FI分類-B05D 7/24 302 Z, FI分類-B05D 7/24 303 A |
2021年07月26日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/316 X |
2021年07月07日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、めっき用鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2021年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07D 327/04, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年06月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07D 327/06, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年12月24日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物、その硬化物、硬化膜の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/12, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-G02B 5/20 101 |
2020年12月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年11月20日 特許庁 / 特許 | 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08F 228/04, FI分類-C09D 11/101, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2020年11月19日 特許庁 / 特許 | 中空パッケージの製造方法及び感光性組成物の提供方法 FI分類-C07F 9/52, FI分類-H03H 3/08, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-H03H 9/25 A, FI分類-H01L 23/08 A, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2020年11月17日 特許庁 / 特許 | 感光性インク組成物、硬化物、ディスプレイパネル、及び硬化物の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/36, FI分類-C09D 11/101, FI分類-C09D 11/322 |
2020年11月17日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化物、及び硬化物の製造方法 FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/075 511 |
2020年10月08日 特許庁 / 特許 | エッチング液、エッチング液の製造方法、被処理体の処理方法、及びルテニウム含有配線の製造方法 FI分類-H01L 21/308 F |
2020年10月02日 特許庁 / 特許 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス FI分類-C09B 5/62, FI分類-C09B 7/08, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2020年10月02日 特許庁 / 特許 | 黒色感光性樹脂組成物、パターン化された硬化物の製造方法、パターン化された硬化物、及びブラックマトリクス FI分類-C09B 7/00, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2020年08月27日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、表面処理方法、樹脂、及び化合物 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C23C 26/00 A, FI分類-C07F 7/18 CSPQ |
2020年08月07日 特許庁 / 特許 | 固体撮像素子の製造方法、積層体、及びドライフィルム FI分類-G02B 5/22, FI分類-H04N 5/369, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-H01L 27/146 D |
2020年07月28日 特許庁 / 特許 | 処理液および基板の処理方法 FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/34, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2020年07月20日 特許庁 / 特許 | 相分離構造形成用樹脂組成物、相分離構造を含む構造体の製造方法、及びブロックコポリマー FI分類-C08F 8/34, FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 297/00 |
2020年07月10日 特許庁 / 特許 | 波長変換膜、波長変換膜形成用組成物、及びクラスター含有量子ドットの製造方法 FI分類-G02B 5/20, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/00 A, FI分類-C09K 11/08 G, FI分類-C09K 11/70 ZNM |
2020年07月10日 特許庁 / 特許 | 波長変換膜、波長変換膜形成用組成物、及びクラスター含有量子ドットの製造方法 FI分類-G02B 5/20, FI分類-C09K 11/08 G |
2020年07月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-B82Y 30/00, FI分類-C08F 30/02, FI分類-C08L 43/02, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 267/04 |
2020年06月09日 特許庁 / 特許 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/20, FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2020年05月20日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 71/26, FI分類-B01D 71/56, FI分類-B01D 71/64, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-B01D 61/14 500, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年05月14日 特許庁 / 特許 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 FI分類-C08G 77/60, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C09D 183/04 |
2020年05月13日 特許庁 / 特許 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、含ケイ素ポリマー被膜の形成方法、シリカ系被膜の形成方法、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 FI分類-C08G 77/60, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 183/08 |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 含ケイ素ポリマー、膜形成用組成物、被処理体の表面に金属化合物を担持させる方法、金属化合物を担持する被膜を備える物品、及び含ケイ素ポリマーの製造方法 FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08G 77/60, FI分類-C09D 183/00, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 5/00 D |
2020年04月01日 特許庁 / 特許 | 金属成分の分析方法 FI分類-G01N 27/62 V, FI分類-G01N 31/00 S |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 FI分類-B32B 7/12, FI分類-C09J 7/30, FI分類-B32B 27/40, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 175/14 |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | ワニス組成物、及びポリイミド樹脂の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 A |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | ワニス組成物、ポリイミド樹脂の製造方法、及び添加剤 FI分類-C08K 5/20, FI分類-C08K 5/3442, FI分類-C08L 79/08 A |
2020年03月12日 特許庁 / 特許 | 着色感光性組成物、着色膜及び着色膜の製造方法 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2020年03月12日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、透明体及び透明体の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 265/00, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2020年03月05日 特許庁 / 特許 | ワニス組成物、及びポリイミド樹脂の製造方法 FI分類-C08L 79/04, FI分類-C08K 5/3445 |
2020年02月18日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、近赤外線吸収フィルタ、硬化物の製造方法、近赤外線吸収フィルタの製造方法、硬化性組成物の低温保管方法、硬化性組成物の輸送方法、及び硬化性組成物の提供方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-G02B 5/26, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-C08K 5/3417, FI分類-C08L 101/00, FI分類-B05D 7/24 301 R, FI分類-B05D 7/24 303 A |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置および基板処理システム FI分類-G01K 1/08 P, FI分類-G01K 1/14 L, FI分類-G01K 7/02 C |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置および基板処理システム FI分類-F26B 3/30 |
2020年01月22日 特許庁 / 特許 | 細胞培養用チップの製造方法 FI分類-C12M 1/00 C, FI分類-C12M 3/00 Z |
2020年01月22日 特許庁 / 特許 | 交互共重合体、交互共重合体の製造方法、高分子化合物の製造方法 FI分類-C08F 8/12, FI分類-C08F 8/14, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/52 |
2020年01月22日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 8/12, FI分類-C08F 8/14, FI分類-C08F 212/04, FI分類-C08F 220/36, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-B32B 27/40, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 175/04, FI分類-H01L 23/12 501 P |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法及び酸拡散抑制剤 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月26日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 FI分類-C23G 5/02, FI分類-G03F 7/40, FI分類-C23C 16/455 |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 59/84, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07C 59/125 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、(メタ)アクリル樹脂、及び化合物 FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C07F 7/18 S, FI分類-G03F 7/038 503 |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、硬化物、及びシロキサン変性(メタ)アクリル樹脂 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08G 59/02, FI分類-C08G 59/14, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 220/32, FI分類-C08F 265/06, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年12月19日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月19日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月18日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月17日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月16日 特許庁 / 特許 | 着色感光性組成物、着色膜、着色膜の製造方法及びパターン化された着色膜の製造方法 FI分類-C08F 257/02, FI分類-C08F 290/00, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512 |
2019年12月11日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月11日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月10日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤及び表面処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月22日 特許庁 / 特許 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法、並びに化合物及び樹脂 FI分類-C08G 61/12, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年11月14日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月12日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型感光性組成物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年11月12日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルムの製造方法及びパターン化されたレジスト膜の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月11日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/24, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2019年11月05日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年10月31日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-C08F 4/70, FI分類-C09J 7/29, FI分類-C09J 7/30, FI分類-C09J 123/24, FI分類-B32B 27/00 A |
2019年10月31日 特許庁 / 特許 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 FI分類-C08G 8/04, FI分類-C08G 12/26, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年10月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年10月02日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、及び硬化物の形成方法 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08L 63/00 C |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、表面処理方法、及び表面処理されたロール状シートの製造方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 133/00, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C23C 26/00 A |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | プラズマダイシング用保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法 FI分類-B23K 26/364, FI分類-H01L 21/78 B, FI分類-H01L 21/78 L, FI分類-H01L 21/78 S |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム FI分類-G03F 7/26 501 |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | 情報処理システム、情報処理装置、情報処理方法及びプログラム FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G05B 19/418 Z |
2019年09月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年09月02日 特許庁 / 特許 | 金属酸化物粒子分散用組成物 FI分類-B01F 17/54 |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、及びガラス基板のエッチング方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07D 333/46, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年08月23日 特許庁 / 特許 | 充填剤及び基板の処理方法 FI分類-C07D 233/56, FI分類-C07D 235/06, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年08月23日 特許庁 / 特許 | 充填剤、基板の処理方法、及び充填剤の製造方法 FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年08月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年08月20日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、及び絶縁膜の形成方法 FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08G 65/48, FI分類-C08G 75/045, FI分類-H01L 21/312 D |
2019年08月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 FI分類-G03F 7/031, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G09F 9/30 349 Z |
2019年08月19日 特許庁 / 特許 | カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、及び樹脂組成物 FI分類-C08K 7/22, FI分類-C08L 33/06, FI分類-G02B 5/20 101 |
2019年08月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、めっき造形物の製造方法、及び多官能ビニルエーテル化合物 FI分類-C08F 8/00, FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年07月30日 特許庁 / 特許 | 保護膜形成剤、及び半導体チップの製造方法 FI分類-H01L 21/78 M |
2019年07月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 FI分類-C08G 8/00 J, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年07月16日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤、表面処理方法及び基板表面の領域選択的製膜方法 FI分類-C23C 16/02, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C23C 26/00 A |
2019年07月09日 特許庁 / 特許 | 親水化処理方法、及び表面処理液 FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-C08J 7/04 T, FI分類-C09D 133/26, FI分類-B05D 7/24 302 P |
2019年07月09日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び親水化処理方法 FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-C09D 133/26, FI分類-B05D 7/24 302 P |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | シリコンエッチング液、シリコンエッチング方法、及びシリコンフィン構造体の製造方法 FI分類-H01L 21/308 B |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物及び硬化物 FI分類-C08K 7/22, FI分類-C08L 33/14 |
2019年06月27日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化物、ブラックマトリクス、ブラックバンク、カラーフィルター、画像表示装置、及びパターン化された硬化膜の製造方法 FI分類-G03F 7/027, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/14 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2019年06月26日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/22, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 503, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年06月26日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/22, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年06月24日 特許庁 / 特許 | 液状組成物、量子ドット含有膜、光学フィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置 FI分類-C09D 7/61, FI分類-G02B 5/20, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G09F 9/30 365 |
2019年06月20日 特許庁 / 特許 | ワニス組成物、ワニス組成物の製造方法、ポリイミド多孔質膜の前駆膜の製造方法、ポリイミド多孔質膜の前駆膜、及びポリイミド多孔質膜の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08J 9/26 102, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 電波吸収積層フィルム、その製造方法、及びそれを含む素子 FI分類-B32B 7/025, FI分類-H01F 1/113, FI分類-H05K 9/00 M, FI分類-B32B 15/04 Z, FI分類-B32B 27/18 H, FI分類-C01G 49/00 A, FI分類-C01G 49/00 C |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 220/16, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 61/39, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/24, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 209/58, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/17 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置及び基板洗浄用キット FI分類-B32B 7/06, FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 D, FI分類-H01L 21/225 Q, FI分類-H01L 21/225 R |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | 被膜の形成方法 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C23C 26/00 A, FI分類-B05D 7/24 303 A |
2019年05月23日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤及び化合物の製造方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年05月13日 特許庁 / 特許 | 流路デバイスの製造方法 FI分類-B81C 3/00, FI分類-B29C 65/00, FI分類-B01J 19/00 321, FI分類-G01N 37/00 101 |
2019年05月08日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | 感エネルギー性組成物、硬化物、及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/60, FI分類-C07C 279/04, FI分類-C07D 311/86, FI分類-C07F 7/08 Z, FI分類-C07F 9/24 F, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-C07D 487/04 150, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | ハードマスク形成用組成物及び電子部品の製造方法 FI分類-C08L 61/04, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511 |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 洗浄液、及び金属レジストを備えた支持体の洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-B08B 3/08 A, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 洗浄液、及び金属レジストを備えた支持体の洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 洗浄液、及び金属レジストを備えた支持体の洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-G03F 7/42, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年04月04日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 FI分類-C08G 59/18, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 120, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2019年04月03日 特許庁 / 特許 | クラッディング用組成物、及び金属/樹脂接合部材の製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-B29C 65/16, FI分類-C08L 101/00 |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | 組成物及び絶縁部の形成方法 FI分類-G03F 7/027, FI分類-H01B 3/44 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-G03F 7/038 501 |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | マレイミド化合物の製造方法 FI分類-C08F 8/46 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 溶液、レジストパターン形成方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 7/16, FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/027, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/06 501, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年02月20日 特許庁 / 特許 | ナノ構造体アレイ、水素検出用素子及び水素検出装置 FI分類-B82Y 15/00, FI分類-G01N 21/359, FI分類-G01N 21/3504, FI分類-G01N 21/41 101 |
2019年02月14日 特許庁 / 特許 | 特殊構造パターンを創出するブロック共重合体の製造方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-C08G 77/442, FI分類-H01L 21/312 C, FI分類-B05D 7/24 302 P, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2019年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置および基板処理システム FI分類-H05K 3/46 Y |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | めっき造形物の製造方法 FI分類-C25D 5/02 E, FI分類-C25D 7/00 J, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | めっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年01月25日 特許庁 / 特許 | 深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32 |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | エッチング液、及び半導体素子の製造方法 FI分類-H01L 21/308 B |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | 光硬化性組成物、及び硬化物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 220/30 |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂フィルム及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/16, FI分類-G03F 7/028, FI分類-H05K 3/06 J, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/032 501 |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 229/60 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-C08K 3/32, FI分類-C08K 3/38, FI分類-C08K 5/42, FI分類-C08G 59/50, FI分類-C08L 63/00, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-C08L 79/00 Z, FI分類-H01L 23/12 501 P |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法、及び電子部品の製造方法 FI分類-C09J 175/04, FI分類-H01L 23/12 501 P |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 基板上の有機系硬化膜を除去する方法、及び酸性洗浄液 FI分類-C11D 3/04, FI分類-C11D 3/43, FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/50, FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | 量子ドット含有被膜を製造する方法、及び量子ドット含有被膜形成用の組成物 FI分類-G02B 5/20, FI分類-C09K 11/08 G |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | 量子ドット分散液の製造方法、及び量子ドット分散液 FI分類-G02B 5/20, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00 |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、及びマイクロレンズパターンを備える基板の製造方法 FI分類-C08F 20/30, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 半導体基板の製造方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/023, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 二次電池、及び二次電池用多孔質セパレータ FI分類-H01M 2/16 P |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年12月18日 特許庁 / 特許 | エッチング液、被処理体の処理方法、及び半導体素子の製造方法。 FI分類-C23F 1/30, FI分類-C23F 1/40, FI分類-H01L 21/28 E, FI分類-H01L 21/308 F, FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2018年12月17日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び高分子化合物 FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 感エネルギー性樹脂組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/08 A |
2018年12月07日 特許庁 / 特許 | 発電装置 FI分類-B82B 1/00 ZNM, FI分類-H02N 1/04 ZIT |
2018年12月06日 特許庁 / 特許 | 相分離構造形成用樹脂組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08L 53/00, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 65/11, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 333/54 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 65/11, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 333/54 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 FI分類-C07C 63/04, FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/12, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び化合物 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 63/70, FI分類-C07C 65/05, FI分類-C08F 20/40, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07D 209/88, FI分類-C07C 69/54 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512 |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン化された硬化膜の製造方法、及びパターン化された硬化膜 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07D 209/84, FI分類-C07D 209/86, FI分類-C07D 409/06, FI分類-C07C 69/54 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512 |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、フィルム、光学フィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置 FI分類-G02B 5/20, FI分類-C08G 59/18, FI分類-H01L 27/32, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年11月22日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、マイクロレンズ、及び光学素子 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 81/00, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C08G 75/045, FI分類-G02B 3/00 A |
2018年11月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年11月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年11月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年11月14日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、レジスト組成物及びその製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年11月12日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法及びめっき造形物の製造方法 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年10月26日 特許庁 / 特許 | 硬化膜形成用組成物、及び硬化膜形成方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/61, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 3/12 A, FI分類-B05D 5/06 C, FI分類-B05D 5/06 Z, FI分類-B05D 7/00 C, FI分類-B05D 7/00 E, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 5/00 Z, FI分類-B05D 7/24 302 F, FI分類-B05D 7/24 302 U, FI分類-B05D 7/24 303 B, FI分類-B05D 7/24 303 E, FI分類-B05D 7/24 303 L |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-C07C 323/62, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 323/61 CSP |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | メルカプト化合物 FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 493/08, FI分類-C07D 251/38 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 323/61 CSP, FI分類-C07D 249/12 510 |
2018年09月27日 特許庁 / 特許 | 加熱処理装置、イミド系樹脂膜製造システム、及び加熱処理方法 FI分類-B29C 35/06, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2018年09月27日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターニングされた硬化膜の製造方法及び硬化膜 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 265/06, FI分類-C08F 290/06, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502 |
2018年09月26日 特許庁 / 特許 | 化合物、エポキシ硬化触媒、及び化合物の製造方法 FI分類-C08G 59/52, FI分類-C07D 233/60 104, FI分類-C07D 233/60 CSP |
2018年09月26日 特許庁 / 特許 | 組成物及び硬化物 FI分類-C08G 59/40 |
2018年09月11日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤及び表面処理方法 FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年09月07日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年09月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/26, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | 平坦化膜を具備する基板の製造方法 FI分類-C08F 2/46, FI分類-B32B 37/06, FI分類-C08F 16/12, FI分類-B32B 27/30 Z |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | 平坦化膜を具備する基板の製造方法 FI分類-C08F 2/46, FI分類-B32B 37/06, FI分類-C08F 16/12, FI分類-B32B 27/30 Z |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 膜体の製造方法、水素検出用素子の製造方法 FI分類-C22C 5/02, FI分類-C22C 5/04, FI分類-C22C 1/00 N, FI分類-G01N 21/59 Z, FI分類-G01N 27/04 E |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤及び表面処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 J |
2018年08月17日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置および基板処理システム FI分類-F27B 9/24 R, FI分類-H05K 3/00 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年08月07日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、積層体、及び電子装置の製造方法 FI分類-B32B 37/14 Z, FI分類-H01L 23/12 501 P |
2018年08月07日 特許庁 / 特許 | イミド系樹脂膜製造システム、イミド系樹脂膜製造方法及びセパレータ製造方法 FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2018年08月03日 特許庁 / 特許 | 気体分離方法、及び気体分離膜 FI分類-B01D 53/22, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/70 500 |
2018年07月30日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物、硬化物の製造方法、塩、並びにポリイミド膜形成用組成物の経時変化抑制及び成膜性向上剤 FI分類-C08K 5/19, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/092, FI分類-C08K 5/3462, FI分類-C08L 79/08 A |
2018年07月26日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 D, FI分類-H01L 21/225 R |
2018年07月26日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年07月26日 特許庁 / 特許 | 芳香族アミン化合物、エポキシ化合物用硬化剤、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及び芳香族アミン化合物の製造方法 FI分類-C08G 59/40, FI分類-C07C 231/02, FI分類-C07C 231/12, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07C 237/40 CSP |
2018年07月17日 特許庁 / 特許 | シリカ系被膜形成用の組成物、シリカ系被膜を備える基板の製造方法、及びシリカ系被膜形成用の組成物に添加される添加剤 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 183/14, FI分類-H01L 21/316 G |
2018年07月13日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型感光性組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、増感剤、及び化学増幅型感光性組成物の増感方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 503, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年07月11日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 222/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法 FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/04, FI分類-C07D 233/56, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 26/00 A, FI分類-C07D 257/04 A, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 21/318 B, FI分類-H01L 21/30 570 |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、表面処理剤、及び基板上に領域選択的に製膜する方法 FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 21/318 B |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法及び含窒素複素環化合物 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法及び含窒素芳香族複素環化合物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | ポリイミド焼成方法およびポリイミド焼成装置 FI分類-B29C 35/02, FI分類-B29K 77:00 |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物、パターン形成方法、化合物、重合体、及び化合物の製造方法 FI分類-C08F 20/32, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502 |
2018年06月25日 特許庁 / 特許 | 分離層形成用組成物、分離層付き支持基体、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-C08L 61/00, FI分類-B32B 38/18 F, FI分類-B32B 27/42 101 |
2018年06月18日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 FI分類-C07C 67/14, FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 69/76 CSPZ |
2018年06月18日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/24, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 313/06, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 57/50, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/24 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07D 313/06, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 61/29, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/24, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 61/39, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/24, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月28日 特許庁 / 特許 | 化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 61/29, FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月11日 特許庁 / 特許 | 細胞捕捉用フィルター膜及びその使用 FI分類-C12M 1/34, FI分類-C12Q 1/02, FI分類-B01D 67/00, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/06, FI分類-B01D 39/16 C |
2018年04月27日 特許庁 / 特許 | ポリイミド前駆体組成物、ポリアミド酸、ポリイミド樹脂、ポリイミド膜、及び光学装置 FI分類-C08G 73/10 |
2018年03月30日 特許庁 / 特許 | 2液型の表面処理液、表面処理方法、及び液状組成物 FI分類-C09D 133/14, FI分類-C09D 143/04, FI分類-C09D 163/10, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C23C 26/00 A |
2018年03月28日 特許庁 / 特許 | 水素バリア剤、水素バリア膜形成用組成物、水素バリア膜、水素バリア膜の製造方法、及び電子素子 FI分類-G03F 7/027, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 29/28 100 A, FI分類-H01L 29/28 250 G |
2018年03月28日 特許庁 / 特許 | 水素検出用素子、水素検出用素子の製造方法および水素検出装置 FI分類-G01N 21/41 101 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、及び、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年03月16日 特許庁 / 特許 | 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09D 153/00, FI分類-C09D 5/00 D |
2018年03月16日 特許庁 / 特許 | 光硬化性組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 2/46, FI分類-C08F 220/26, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年03月15日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-G11B 5/65, FI分類-B05D 7/24 302 E |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 501, FI分類-H01L 21/92 604 B |
2018年03月05日 特許庁 / 特許 | ブロック共重合体及びその製造方法、ならびに相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08G 77/392, FI分類-C08G 77/442, FI分類-B05D 7/24 302 P, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2018年03月02日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、表面処理液、及び表面処理された物品 FI分類-B05D 7/02, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-C08J 7/02 B, FI分類-C08J 7/12 B, FI分類-C09D 179/00, FI分類-C09D 201/06, FI分類-C08J 9/42 CFG, FI分類-B05D 7/24 302 P |
2018年02月20日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 R |
2018年02月13日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、めっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年02月02日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び表面処理方法 FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 7/00 Z, FI分類-C08J 7/04 T, FI分類-C08J 7/04 U, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09D 201/06, FI分類-C09D 201/08, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/18 101, FI分類-B05D 7/24 302 E |
2018年02月02日 特許庁 / 特許 | 洗浄方法、洗浄装置、記憶媒体、及び洗浄組成物 FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/28, FI分類-C11D 7/34, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 B, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年02月01日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミドフィルム原反、その製造方法、及び組成物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年01月16日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池、及び非水電解質二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 2/16 N, FI分類-H01M 4/74 C, FI分類-H01M 4/80 C |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-C09J 125/08, FI分類-C09J 125/16, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07J 9/00, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 有機系下層膜を除去する方法、及び酸性洗浄液 FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | リワーク方法、及び酸性洗浄液 FI分類-C11D 7/28, FI分類-C11D 7/34, FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-C09J 201/00, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-B32B 27/00 Z, FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板の撥水化方法、表面処理剤、及び基板表面を洗浄液により洗浄する際の有機パターン又は無機パターンの倒れを抑制する方法 FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-G03F 7/40 502 |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化物、硬化物形成方法、カラーフィルター、及び画像表示装置 FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-C07C 309/12, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 変性セルロース繊維、分散液、多孔質膜、蓄電素子、及び多孔質膜の製造方法 FI分類-C08B 1/06, FI分類-C08B 3/00, FI分類-H01G 9/02, FI分類-C08B 15/05, FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/52, FI分類-D06M 101:08, FI分類-D06M 13/188, FI分類-D06M 13/513, FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 R, FI分類-H01M 4/04 A |
2017年12月26日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、表示装置、及びパターン形成方法 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2017年12月26日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2017年12月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年12月22日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有樹脂組成物、ケイ素含有樹脂フィルム、シリカフィルム、発光表示素子パネル、及び発光表示装置 FI分類-C08K 3/10, FI分類-G02B 5/20, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C08L 83/04, FI分類-H01L 27/32, FI分類-G02F 1/13357, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G09F 9/30 349 Z |
2017年12月22日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及びポリシラン樹脂前駆体の製造方法 FI分類-C08G 77/42, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/027 515 |
2017年12月22日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂組成物の製造方法、膜形成方法及び硬化物 FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08G 77/42, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/10, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/10, FI分類-C09D 183/14, FI分類-C09D 183/16, FI分類-H01L 21/312 C |
2017年12月21日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、表面処理方法、及びパターン倒れの抑制方法 FI分類-C23C 22/02, FI分類-C09K 3/18 101, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年12月15日 特許庁 / 特許 | ポリシラン化合物の製造方法、組成物、膜、及び基板 FI分類-C08G 77/60, FI分類-H01L 21/312 A |
2017年12月14日 特許庁 / 特許 | 洗浄液、防食剤、及びこれらを製造する方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月14日 特許庁 / 特許 | 洗浄液及びこれを製造する方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月14日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、接着層付き支持体、接着フィルム、積層体及びその製造方法、並びに電子部品の製造方法 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 125/02, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-B32B 27/00 D, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/32 Z, FI分類-C09J 179/04 B |
2017年12月08日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び表面処理方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-B05D 7/24 302 P |
2017年12月05日 特許庁 / 特許 | 粒子捕捉デバイス及び粒子を均一に捕捉する方法 FI分類-C12M 1/00 A |
2017年11月29日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 FI分類-C08F 220/10, FI分類-C07C 69/54 B, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年11月28日 特許庁 / 特許 | 不純物拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 R |
2017年11月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07D 327/04, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年11月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年11月10日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜形成方法、硬化物、パターン化されている硬化膜、及び透明光学部材 FI分類-C08F 2/00 C, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/027 502 |
2017年11月08日 特許庁 / 特許 | 均一系塗布液及びその製造方法、並びに塗布膜及びその形成方法 FI分類-C09D 1/00, FI分類-H01L 31/06 460, FI分類-B05D 7/24 303 B, FI分類-B05D 7/24 303 E |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び表面処理方法 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C23C 26/00 A |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、表面処理液、及び表面処理された物品 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 3/00 F, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-B32B 27/00 C |
2017年10月24日 特許庁 / 特許 | 洗浄液及び基板を洗浄する方法 FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年10月23日 特許庁 / 特許 | 紫外線照射装置および紫外線照射方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-B05D 3/06 102 Z |
2017年10月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、高分子化合物及び化合物 FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07D 307/42, FI分類-C07D 333/22, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 409/04 CSP |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-C07F 9/52, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/93, FI分類-C07D 313/02, FI分類-C07D 313/10, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C07D 493/18, FI分類-C07D 497/18, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-C07D 307/32 Q, FI分類-C07F 9/6574 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-C07F 9/52, FI分類-C07C 323/52, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/93, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-C07F 9/52, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 309/10, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-C07D 309/30 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、感光性ドライフィルムの製造方法、パターン化されたレジスト膜の製造方法、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法、及びメルカプト化合物 FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 313/10, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C07D 493/18, FI分類-C07D 497/18, FI分類-C07D 519/00, FI分類-C07F 9/09 CSPK, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/33 330 |
2017年09月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年09月28日 特許庁 / 特許 | 水素バリア剤、水素バリア膜形成用組成物、水素バリア膜、水素バリア膜の製造方法、及び電子素子 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08J 5/18, FI分類-G03F 7/027, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 265/00, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 29/78 619 A |
2017年09月26日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08J 5/18 CET, FI分類-C08J 7/00 306, FI分類-C08J 7/00 CEY |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 洗浄組成物、洗浄方法、及び半導体の製造方法 FI分類-C11D 1/12, FI分類-C11D 1/62, FI分類-C11D 3/37, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 微粒子の回収方法及び回収システム FI分類-C12M 1/32, FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-G01N 1/04 H |
2017年09月13日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、共重合体 FI分類-C08F 222/14, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板接着方法及び積層体の製造方法 FI分類-B29C 65/78 |
2017年09月13日 特許庁 / 特許 | ノズル位置計測方法及び回収システム FI分類-C12M 1/26, FI分類-G01N 35/10 C |
2017年09月11日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07D 333/76 CSP |
2017年09月07日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、及びそれに用いられる光重合開始剤 FI分類-C08F 2/48, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 239/22 |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法 FI分類-F26B 3/30, FI分類-F26B 13/10 A, FI分類-F26B 25/00 A |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化物形成方法、硬化物、画像表示装置用パネル、及び画像表示装置 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 500, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2017年08月28日 特許庁 / 特許 | 強誘電体及びこれを備えるメモリー素子、並びに強誘電体の製造方法 FI分類-H01G 4/22, FI分類-H01L 41/18, FI分類-H01L 41/37, FI分類-H01G 4/12 412, FI分類-H01G 4/12 415, FI分類-H01G 4/12 418, FI分類-H01L 21/312 B, FI分類-H01L 27/11507 |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | ポリイミド前駆体組成物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/08 A |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | ポリイミド前駆体組成物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-C09D 179/08 A |
2017年08月04日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、ポリアミド樹脂、ポリアミド樹脂の製造方法、化合物、化合物の製造方法、硬化膜の製造方法、及び硬化膜 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/027 514 |
2017年07月31日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、表示パネル又はOLED照明、並びに硬化物の製造方法 FI分類-C08G 59/68, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z |
2017年07月31日 特許庁 / 特許 | 液体の精製方法、及び多孔質膜の製造方法 FI分類-B01D 67/00, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 19/00 H, FI分類-B01D 61/14 500 |
2017年07月31日 特許庁 / 特許 | 液体の精製方法、及び多孔質膜の製造方法 FI分類-B01D 67/00, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 61/14 500 |
2017年07月21日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07D 209/80, FI分類-C07D 209/88, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/027 502 |
2017年07月12日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/00, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 232/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601 |
2017年07月03日 特許庁 / 特許 | ポリイミドフィルム及びその製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08J 5/18 CFG |
2017年06月22日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-H01L 21/28 E, FI分類-H01L 21/88 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年06月19日 特許庁 / 特許 | 樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 6/00, FI分類-B01D 71/56, FI分類-C08F 293/00, FI分類-B32B 27/00 Z, FI分類-C08J 3/00 CET, FI分類-C08J 7/04 CEY, FI分類-B01D 61/14 500 |
2017年06月19日 特許庁 / 特許 | 樹脂の製造方法、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 6/06, FI分類-B01D 71/26, FI分類-C08F 12/08 |
2017年06月16日 特許庁 / 特許 | 表面加工樹脂フィルムの製造方法 FI分類-C08J 3/28, FI分類-B29C 59/14 |
2017年06月15日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 291/00, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C08L 101/06, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-C08F 20/00 510, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2017年06月12日 特許庁 / 特許 | ポジ型感光性樹脂組成物、金属配線の製造方法、及び積層体 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/023 511 |
2017年06月12日 特許庁 / 特許 | 積層体、及び積層体の製造方法 FI分類-B32B 15/02, FI分類-B32B 15/08 D, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 660, FI分類-G06F 3/044 120 |
2017年06月06日 特許庁 / 特許 | 樹脂、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08F 220/12, FI分類-G02B 3/00 A |
2017年06月06日 特許庁 / 特許 | 樹脂、硬化性組成物、硬化物、硬化物の製造方法、及びマイクロレンズの製造方法 FI分類-C08L 33/04, FI分類-C08F 220/12 |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化膜、表示装置、及びパターン化された硬化膜の形成方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2017年05月17日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法 FI分類-C08G 59/24, FI分類-C08G 59/68 |
2017年05月17日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、硬化膜、表示パネル、及び硬化物の製造方法 FI分類-C08K 9/00, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09K 3/10 E, FI分類-C09K 3/10 L, FI分類-C09K 3/10 Z |
2017年05月16日 特許庁 / 特許 | 尿素の測定方法及び尿素検出キット FI分類-G01N 33/62 A |
2017年04月27日 特許庁 / 特許 | マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物及びその用途 FI分類-C08K 5/42, FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08L 25/16, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08K 5/3432, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年04月18日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜の形成に用いられる分散液、多孔質膜、蓄電素子、及び多孔質膜の製造方法 FI分類-D21H 13/02, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 2/16 R, FI分類-C08J 9/28 102, FI分類-C08J 9/28 CEP |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 285/00 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置、基板処理システム及び基板加熱方法 FI分類-F26B 3/30, FI分類-F27B 9/04, FI分類-F27B 9/36, FI分類-F26B 13/02, FI分類-F26B 13/10 H, FI分類-F26B 23/04 B, FI分類-F27D 11/02 A, FI分類-F27D 17/00 104 G |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、含フッ素高分子化合物、及び化合物 FI分類-C08F 20/22, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 69/675 CSP |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、及び表面処理液 FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-G03F 7/004 521, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-B05D 7/24 301 T, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | ポリマーの製造方法及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 6/06, FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08F 297/02, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | 有機溶剤の処理方法、及び有機溶剤処理システム FI分類-C12N 1/12 A, FI分類-F23G 5/30 A, FI分類-F23G 7/04 601 M, FI分類-F23G 7/04 602 A |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | 有機溶剤廃液を燃料としてリサイクルする方法、及び有機溶剤廃液を燃料としてリサイクルする方法に用いられる有機溶剤廃液リサイクル処理システム FI分類-C12N 1/12 Z, FI分類-F23G 5/30 ZABE, FI分類-F23G 7/04 601 M |
2017年03月15日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜パターンの形成方法、並びにデバイス FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 290/14, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/027 513 |
2017年03月15日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜パターンの形成方法、並びにデバイス FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/029, FI分類-C08F 2/00 C, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 226/06, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/027 513 |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、ドライフィルム、及びパターン化された硬化膜を形成する方法 FI分類-C08F 2/46, FI分類-C08F 12/04, FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/027 502 |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 硬化膜を形成する方法及びめっき造形物の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 251/66, FI分類-C25D 5/02 E, FI分類-B32B 15/082 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-C08F 20/00 510, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/027 502 |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物、鋳型付き基板の製造方法、及びめっき造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年03月02日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法及び表面処理液 FI分類-G03F 7/38 512, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 半導体基板又は装置の洗浄液及び洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 R |
2017年02月27日 特許庁 / 特許 | ブロック共重合体及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 8/34, FI分類-C08F 8/42, FI分類-C08F 12/08, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08G 77/442, FI分類-C09D 183/10, FI分類-B32B 27/30 B, FI分類-B32B 27/00 101 |
2017年02月13日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、硬化物の製造方法、硬化物、フレキシブル基板、及びフレキシブルディスプレイ FI分類-C08L 1/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 101/02, FI分類-C09D 179/08, FI分類-C08L 79/00 Z, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2017年02月07日 特許庁 / 特許 | キャッピング装置、及びキャッピング方法 FI分類-B67B 1/03, FI分類-B67B 1/06 |
2017年02月07日 特許庁 / 特許 | ダイシング用保護膜基材、ダイシング用保護膜組成物、ダイシング用保護シート、及び被加工ウエーハの製造方法 FI分類-C08F 222/04, FI分類-H01L 21/78 M |
2017年02月03日 特許庁 / 特許 | 積層体、フレキシブルデバイスおよび積層体の製造方法 FI分類-B32B 27/34, FI分類-C08G 73/10, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/08 A |
2017年02月03日 特許庁 / 特許 | 積層体、フレキシブルデバイス及び積層体の製造方法 FI分類-B32B 27/34, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08J 7/04 F, FI分類-C08J 7/04 K, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08L 79/04 A, FI分類-C08J 5/18 CFG |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | 重合性組成物、硬化膜の製造方法、及び硬化膜 FI分類-C08F 290/00, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2017年01月27日 特許庁 / 特許 | インプリント用下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/02, FI分類-C08F 20/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2017年01月24日 特許庁 / 特許 | 分析用器材 FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-G01N 33/543 525 U, FI分類-G01N 33/543 525 W |
2017年01月18日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、ブラックマトリクス、表示装置、及びブラックマトリクスの製造方法 FI分類-G03F 7/032, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2017年01月13日 特許庁 / 特許 | 組成物及びシリカ質膜の製造方法 FI分類-H01L 21/312 C |
2017年01月12日 特許庁 / 特許 | ポリイミドフィルムの製造方法、ポリイミドフィルム、ポリアミド酸溶液及び感光性組成物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08J 5/18 CFG |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物、パターン形成方法、化合物、重合体、及び化合物の製造方法 FI分類-C08F 20/28, FI分類-C08L 33/14, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/032 501 |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | ポリシランの製造方法及びこれに用いる活性金属マグネシウム成分の製造方法 FI分類-C08G 77/60 |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | ポリシラン化合物、組成物、硬化物及び基板の製造方法、並びにアニオン重合選択的促進剤 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 77/60, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H01L 23/14 R, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H01L 21/312 C |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 細胞培養用チップの製造方法 FI分類-C12M 1/00 C, FI分類-C12M 3/00 Z |
2016年12月21日 特許庁 / 特許 | 相分離構造形成用樹脂組成物、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 101/12 |
2016年12月14日 特許庁 / 特許 | 親水化処理方法、及び表面処理液のセット FI分類-C09D 7/12, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-C09D 201/02, FI分類-B05D 7/24 301 C, FI分類-B05D 7/24 301 U |
2016年12月14日 特許庁 / 特許 | 表面処理液、及び親水化処理方法 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 133/04, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C23C 26/00 A |
2016年12月09日 特許庁 / 特許 | 基材上に平坦化膜又はマイクロレンズを形成するために用いられるエネルギー感受性組成物、硬化体の製造方法、硬化体、マイクロレンズの製造方法、及びCMOSイメージセンサ FI分類-C09D 7/12, FI分類-G02B 1/04, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C09D 133/00, FI分類-C09D 5/00 Z, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501 |
2016年12月08日 特許庁 / 特許 | 有機金属化合物 FI分類-C07F 7/28 B, FI分類-C07F 7/00 CSPA |
2016年11月30日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化膜、発光表示素子用の発光層、発光表示素子、及び発光層の形成方法 FI分類-G02B 5/20, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501 |
2016年11月22日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年11月18日 特許庁 / 特許 | アルギナーゼ活性の測定方法、アルギナーゼ活性の検出キット、アルギナーゼ関連疾患検出キット、及びアルギナーゼの阻害剤又は活性剤のスクリーニング方法 FI分類-C12Q 1/34, FI分類-C12M 1/34 E, FI分類-G01N 33/50 Z |
2016年11月08日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜形成用組成物、セパレータ、電気化学素子、及び電極複合体の製造方法 FI分類-C08J 9/28, FI分類-H01G 11/52, FI分類-H01M 2/16 N, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-H01M 4/04 Z, FI分類-H01G 9/02 301 |
2016年11月01日 特許庁 / 特許 | 深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32 |
2016年10月31日 特許庁 / 特許 | パターン形成用感光性樹脂組成物、硬化膜、低屈折率膜、光学デバイス、並びにパターン化された硬化膜又は低屈折率膜の形成方法 FI分類-G02B 1/111, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/027 502 |
2016年10月31日 特許庁 / 特許 | 低屈折率膜形成用感光性樹脂組成物、低屈折率膜、光学デバイス、及び低屈折率膜の製造方法 FI分類-G02B 1/111, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/027 502 |
2016年10月28日 特許庁 / 特許 | 継手部材、キャピラリーユニット及びスクリーニング装置 FI分類-C12M 1/26, FI分類-F16L 37/02, FI分類-G01N 1/00 101 K |
2016年10月25日 特許庁 / 特許 | 着色剤分散液、感光性樹脂組成物、硬化物、有機EL素子、パターンの形成方法、及び感光性樹脂組成物の製造方法 FI分類-C07F 7/21, FI分類-B01F 17/22, FI分類-B01F 17/52, FI分類-B01F 17/54, FI分類-C08G 59/17, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2016年10月24日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、感光性組成物の製造方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の調製方法 FI分類-G03F 7/031 |
2016年10月24日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、及び硬化膜の形成方法 FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 505 |
2016年10月20日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、及びその利用 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 277/00, FI分類-C09J 145/00, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-B32B 27/00 D |
2016年10月13日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年10月12日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-C08F 212/08, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年10月07日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法 FI分類-C08G 59/17, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 515 |
2016年10月06日 特許庁 / 特許 | レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511 |
2016年10月06日 特許庁 / 特許 | レジストパターンのラフネスを低減させるために用いられる被覆剤、及びラフネスが低減されたレジストパターンの製造方法 FI分類-H05K 3/06 E, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511 |
2016年10月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、硬化物の製造方法、及び硬化物 FI分類-C08K 5/29, FI分類-C08G 73/06, FI分類-C08L 77/10 |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、硬化物の製造方法、及び硬化物 FI分類-C08K 5/04, FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 A |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/26, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 61/14 500, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 564 |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用薬液精製品の製造方法、及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/26, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 71/06, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法 FI分類-B01D 61/14 500 |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法 FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 71/06, FI分類-B01D 61/14 500, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 濾過フィルター及び濾過方法、並びにリソグラフィー用薬液精製品の製造方法 FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 61/14 500, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板の表面物性を制御する方法 FI分類-H05K 3/06 M, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 563 |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物の塗布方法 FI分類-H01L 21/225 Q, FI分類-H01L 21/225 R |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板、構造体、構造体の製造方法、細胞の選別方法、細胞の製造方法、及び分泌物の産生方法 FI分類-C12M 1/26, FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-C12N 1/00 T, FI分類-C12P 1/00 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 構造体の製造方法 FI分類-C12M 1/00 A |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法及びシュリンク剤組成物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 表面処理液 FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-B32B 27/30 Z, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 104 |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、及びその利用 FI分類-C09J 7/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 133/06, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-H01L 23/12 501 P |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年09月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月14日 特許庁 / 特許 | エネルギー感受性組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08G 65/18, FI分類-H05B 33/04, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-H05B 33/14 A |
2016年09月14日 特許庁 / 特許 | エネルギー感受性組成物、硬化物及び硬化物の製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/48, FI分類-C08G 59/00, FI分類-C08G 65/04, FI分類-C08K 5/372, FI分類-C08L 71/00, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-G02B 7/02 B, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-H05B 33/14 A |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | 相分離構造形成用樹脂組成物、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 8/32, FI分類-C08L 53/00, FI分類-B05D 7/24 302 J, FI分類-B05D 7/24 302 P |
2016年09月02日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年09月02日 特許庁 / 特許 | 深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 33/36, FI分類-H01L 33/00 Z |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | ネガ型感光性樹脂組成物、感光性レジストフィルム、パターン形成方法、硬化膜、硬化膜の製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/49, FI分類-C08K 5/55, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜の製造方法 FI分類-C08K 3/00, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 71/68, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 81/06, FI分類-H01M 8/103, FI分類-H01M 8/106, FI分類-H01M 2/16 M, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-H01M 8/1062, FI分類-H01M 8/1069, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-H01M 8/10 101 |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜及びその製造方法 FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 71/34, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 71/68, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CEW, FI分類-C08J 9/26 CEZ, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜及びその製造方法 FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 71/34, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 71/68, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2016年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 FI分類-F27D 3/00 Z, FI分類-H05B 3/10 B, FI分類-F27B 17/00 B, FI分類-F27D 11/02 C, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/312 B, FI分類-H05B 3/00 345, FI分類-F27D 17/00 104 G |
2016年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置、基板加熱方法及び赤外線ヒータ FI分類-H05B 3/64, FI分類-H05B 3/66, FI分類-F27B 17/00 B, FI分類-F27D 11/02 C |
2016年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置及びポリイミド膜の製造方法 FI分類-F27B 9/36, FI分類-H05B 3/44, FI分類-F27D 11/02 A, FI分類-H05B 3/00 370, FI分類-H05B 3/00 330 Z |
2016年08月25日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化物、及び表示装置 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2016年08月19日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年08月19日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-C08F 12/08, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年08月10日 特許庁 / 特許 | レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08L 101/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年08月08日 特許庁 / 特許 | ポリイミド、ポリアミド酸、ポリアミド酸溶液、及び、ポリイミドフィルム FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 A |
2016年08月08日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年08月08日 特許庁 / 特許 | ポリイミド前駆体組成物 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/08 A |
2016年08月05日 特許庁 / 特許 | 多孔質体、フィルタ、フィルターメディア、フィルターデバイス、アクリル系ポリマーの精製方法及び製造方法、並びに感光性樹脂組成物の製造方法 FI分類-B01D 61/18, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 71/64, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-B01D 61/14 500, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年08月03日 特許庁 / 特許 | ポリイミド系樹脂膜洗浄液、ポリイミド系樹脂膜を洗浄する方法、ポリイミド膜を製造する方法、フィルタ、フィルターメディア又はフィルターデバイスを製造する方法、及びリソグラフィー用薬液の製造方法 FI分類-C11D 7/50, FI分類-B01D 65/06, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/64, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 7/02 CFGB |
2016年08月03日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年08月01日 特許庁 / 特許 | レジストパターン厚肉化用ポリマー組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年07月29日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-G03F 7/40, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07D 221/14, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | ガス透過膜 FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-C08G 77/58, FI分類-C08G 79/00, FI分類-B01D 71/70 500 |
2016年07月22日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、カラーフィルタ、及び硬化膜の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 511, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年07月22日 特許庁 / 特許 | 高分子化合物の製造方法 FI分類-C08F 8/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年07月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、高分子化合物 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年07月08日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/34, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年07月08日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有樹脂組成物 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C09D 183/00, FI分類-C09D 183/04, FI分類-H01L 23/30 F |
2016年07月08日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有樹脂組成物 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/16, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-C08K 5/3435, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/16, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-B05D 7/24 303 A, FI分類-B05D 7/24 303 E |
2016年07月08日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有樹脂組成物 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C09D 183/00, FI分類-C01B 33/12 C |
2016年07月01日 特許庁 / 特許 | 積層体、その製造方法、電子部品の製造方法、及び積層体において分離層と基板との接着性を向上させる方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-C09J 7/00, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 201/00, FI分類-G02B 5/00 Z, FI分類-B32B 27/18 Z |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、有機EL素子における発光層の区画用のバンク、有機EL素子用の基板、有機EL素子、硬化膜の製造方法、バンクの製造方法、及び有機EL素子の製造方法 FI分類-C08G 59/40, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-G03F 7/027 515 |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜、有機EL素子における発光層の区画用のバンク、有機EL素子用の基板、有機EL素子、硬化膜の製造方法、バンクの製造方法、及び有機EL素子の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08G 59/40, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 290/14, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/075 501 |
2016年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年06月28日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 327/02, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年06月21日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤及び表面処理方法 FI分類-G03F 7/16, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2016年06月21日 特許庁 / 特許 | シリル化剤溶液、表面処理方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年06月21日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-C07J 1/00, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年06月21日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年06月16日 特許庁 / 特許 | 着色感光性組成物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 501 |
2016年06月13日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、及びその利用 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 631 |
2016年06月09日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-C08F 212/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年06月08日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年06月07日 特許庁 / 特許 | 積層体 FI分類-B32B 5/18, FI分類-B01D 53/22, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 69/06, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/34, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 71/68 |
2016年06月07日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法 FI分類-B05D 1/28, FI分類-B32B 5/18, FI分類-B32B 37/02, FI分類-B05D 7/00 B |
2016年05月17日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 297/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年05月06日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年04月28日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-C08G 59/17, FI分類-G03F 7/032, FI分類-C08F 290/00, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2016年04月28日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/40, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年04月27日 特許庁 / 特許 | 化合物及びその製造方法 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 251/66, FI分類-C07C 253/30, FI分類-C07C 255/62, FI分類-C07C 319/20, FI分類-C07C 323/47, FI分類-C07C 249/12 CSP |
2016年04月27日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2016年04月19日 特許庁 / 特許 | 送液性が改善されたフォトリソグラフィー用薬液及びこれを含むレジスト組成物{CHEMICAL FOR PHOTOLITHOGRAPHY WITH IMPROVED LIQUID TRANSFER PROPERTY AND RESIST COMPOSITION COMPRISING THE SAME} FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年04月08日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 512 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 高周波アンテナ素子、及び高周波アンテナモジュール FI分類-H01Q 17/00, FI分類-H05K 9/00 M, FI分類-H05K 9/00 T, FI分類-C01G 49/00 Z, FI分類-H01Q 1/40 ZNM |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 金属酸化物膜形成用塗布剤及び金属酸化物膜を有する基体の製造方法 FI分類-C01B 13/14 Z, FI分類-C23C 26/00 B |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 P, FI分類-H01L 21/225 R |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | ポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂の製造方法、並びにポリカーボネート樹脂及びポリエステル樹脂 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 63/78, FI分類-C08G 64/20 |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 着色感光性組成物、それによって得られる着色硬化物、表示素子及び着色硬化物の製造方法 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 積層体、及び積層体の製造方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-B32B 27/38, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | ネガ型感光性組成物、パターン形成方法 FI分類-C08G 59/68, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 不純物拡散剤組成物、及び半導体基板の製造方法 FI分類-C07F 5/02 D, FI分類-C07F 7/10 H, FI分類-H01L 21/225 D, FI分類-H01L 21/225 R |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 感エネルギー性樹脂組成物 FI分類-C07C 63/30, FI分類-C08G 73/08, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C07C 211/50, FI分類-C07C 211/51, FI分類-C07C 215/32, FI分類-C07C 47/544, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/04 B, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 504, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年03月17日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法、帯電防止剤及び親水化処理剤 FI分類-C09K 3/16 113, FI分類-C09K 3/00 ZNMR, FI分類-C09K 3/16 101 Z, FI分類-C09K 3/16 106 E, FI分類-C09K 3/16 108 Z |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物 FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 31/04 440 |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | 半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/22 E, FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 31/04 440 |
2016年03月04日 特許庁 / 特許 | 洗浄液及び洗浄方法 FI分類-C11D 7/08, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2016年03月03日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体、及び、積層体の製造方法 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 153/00, FI分類-C09J 153/02, FI分類-B32B 15/08 J, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-B32B 27/30 B |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | 液晶ポリエステルの製造方法 FI分類-C08G 63/87 |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | カルボン酸エステル含有組成物 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/027 512, FI分類-C07C 69/757 CSPZ |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 101/02, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/032 501, FI分類-G03F 7/038 501 |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | カルボン酸エステルの製造方法、エステル化剤、及び開環付加触媒 FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 69/75 Z, FI分類-C07C 69/76 Z, FI分類-C07C 69/753 C, FI分類-C07D 307/32 G, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07D 233/60 104 |
2016年02月23日 特許庁 / 特許 | 圧電素子、センサ、アクチュエータ、及び圧電素子の製造方法 FI分類-H01L 41/09, FI分類-H01L 41/45, FI分類-H01L 41/113, FI分類-H01L 41/193, FI分類-H01L 41/314, FI分類-H02N 2/00 A, FI分類-H02N 2/00 B |
2016年02月23日 特許庁 / 特許 | 配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法 FI分類-H05K 3/38 A, FI分類-B32B 5/18 101, FI分類-C08J 9/26 CEW, FI分類-C08J 9/26 CEZ, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2016年02月23日 特許庁 / 特許 | 配線基板用積層体、配線基板、及び配線基板用積層体の製造方法 FI分類-H05K 3/38 A, FI分類-B32B 15/08 J, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用洗浄液及び洗浄方法 FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C23G 1/18, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年02月16日 特許庁 / 特許 | 積層体、積層体の製造方法、及び基板の処理方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-H01L 21/68 N |
2016年02月09日 特許庁 / 特許 | ブラックカラムスペーサ用感光性樹脂組成物、ブラックカラムスペーサ、表示装置、及びブラックカラムスペーサの形成方法 FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 61/14 500 |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | ポリイミド及び/又はポリアミドイミド多孔質体並びにその製造方法、分離及び/又は吸着を行う方法、分離材、吸着材、フィルターメディア、積層体、並びに、フィルターデバイス FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/26 Z, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | 液体の精製方法、薬液又は洗浄液の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス FI分類-B01D 71/56, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 61/02 510 |
2016年01月20日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、当該感光性組成物の製造方法、当該感光性組成物を用いる膜の形成方法、感光性組成物の保管時の増粘抑制方法、光重合開始剤、及び光重合開始剤の製造方法 FI分類-C08G 63/47, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 251/66, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/06, FI分類-C08F 220/32, FI分類-C08G 63/181, FI分類-C08G 63/193, FI分類-G03F 7/38 501 |
2016年01月18日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜 FI分類-B32B 5/32, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/32, FI分類-B01D 71/34, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B32B 27/34, FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 7/04 CFGZ |
2016年01月14日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-G03F 7/031 |
2016年01月14日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、カラーフィルタ、及び表示装置 FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 515 |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | イメージセンサ用永久接着剤組成物、並びにそれを用いた接着方法及び積層体 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 5/00, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 133/04 |
2015年12月15日 特許庁 / 特許 | 高分子化合物の製造方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08F 220/02 |
2015年12月14日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸発生剤 FI分類-C07C 309/09, FI分類-C07C 309/10, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 309/65, FI分類-C07C 311/04, FI分類-C07C 311/48, FI分類-C07C 311/51, FI分類-C07C 317/04, FI分類-C07C 317/10, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年12月10日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 黒色感光性組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物 FI分類-C08G 59/50, FI分類-C08G 59/56, FI分類-C08J 5/04 CFC |
2015年12月04日 特許庁 / 特許 | 機能膜製造システム、機能膜製造方法、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法。 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/06, FI分類-B05C 9/12, FI分類-B05C 15/00, FI分類-B32B 37/02, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 P, FI分類-H01M 8/02 Z |
2015年12月03日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、及び、その利用 FI分類-B29C 65/52, FI分類-B32B 27/34 |
2015年12月01日 特許庁 / 特許 | ポジ型フォトレジスト組成物 FI分類-C08G 8/00, FI分類-C08G 8/12, FI分類-C08G 8/28 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/023 501, FI分類-G03F 7/023 511 |
2015年12月01日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 213/82, FI分類-C07D 275/06, FI分類-C07D 333/54, FI分類-C07D 335/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 311/51 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年11月18日 特許庁 / 特許 | 表面処理方法及び表面処理液 FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年11月16日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法、並びにデバイス FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 513, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 液体を被精製物とする精製方法、ケイ素化合物含有液を被精製物とする精製方法、シリル化剤薬液、膜形成用材料又は拡散剤組成物の製造方法、フィルターメディア、及び、フィルターデバイス FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B01D 71/70, FI分類-C08G 73/06, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-H01L 21/225 R |
2015年10月30日 特許庁 / 特許 | 基板加熱装置及び基板加熱方法 FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 13/02, FI分類-F26B 13/10 H, FI分類-F26B 23/04 B |
2015年10月30日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、パターン付き基板、細胞培養支持体および培養細胞の製造方法 FI分類-C12N 5/071, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/56, FI分類-C12M 3/00 A, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601 |
2015年10月29日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、基板の処理方法及び積層体 FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2015年10月23日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜、デバイス及び層間絶縁膜の形成方法 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/20, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年10月21日 特許庁 / 特許 | 電磁波吸収体及び膜形成用ペースト FI分類-H01F 1/00 C, FI分類-H05K 9/00 M |
2015年10月19日 特許庁 / 特許 | 触媒層形成装置、触媒層の形成方法、燃料電池製造システム、及び燃料電池の製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K |
2015年10月06日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、化合物及び酸拡散制御剤 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年10月05日 特許庁 / 特許 | レジストパターンのトリミング方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/16, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法及びパターン厚肉化用ポリマー組成物 FI分類-C08F 297/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板ケース、収納部、及び、基板搬送器 FI分類-B65D 21/02 A, FI分類-B65D 85/30 Z, FI分類-H01L 21/68 U |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 半導体基板の製造方法 FI分類-H01L 21/225 R |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物 FI分類-C08G 59/42, FI分類-C08G 59/50, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C08J 5/04 CFC |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | 透明体の製造方法、透明体及び非晶質体 FI分類-C07C 41/40, FI分類-C07C 67/52, FI分類-C07C 43/215, FI分類-C07C 43/23 Z, FI分類-C07C 69/54 B |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | スルホニウム塩、光酸発生剤、及び感光性組成物 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | スルホニウム塩の合成方法 FI分類-C07C 309/06, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年09月07日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミド膜の製造方法 FI分類-C08J 9/26, FI分類-C08G 73/10, FI分類-H01M 2/16 P |
2015年09月01日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物 FI分類-C08F 16/12, FI分類-C08L 29/10, FI分類-C07C 43/215, FI分類-C08F 2/00 C, FI分類-C08J 5/18 CER |
2015年09月01日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、レジストパターンスプリット剤、スプリットパターン改善化剤及びレジストパターンスプリット材料 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法、シュリンク剤組成物及びシュリンク剤組成物の製造方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | イミダゾール化合物、金属表面処理液、金属の表面処理方法、及び積層体の製造方法 FI分類-C23C 22/02, FI分類-H05K 3/26 E, FI分類-C23F 11/00 C, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-C07D 233/60 104 |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | 金属二次電池用セパレータ FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/054, FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 M, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-H01M 10/0565, FI分類-H01M 10/0566, FI分類-H01M 12/08 K |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | イミダゾール化合物 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 201/00, FI分類-H05K 3/38 B, FI分類-C23F 11/00 C, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-C07D 233/60 104, FI分類-C07D 233/60 CSP |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2015年08月24日 特許庁 / 特許 | ブロック共重合体、ブロック共重合体の製造方法及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08G 81/02, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2015年08月19日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミド膜製造用ワニス及びそれを用いた多孔質ポリイミド膜の製造方法 FI分類-C08J 7/04 Z, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-B05D 7/24 302 X |
2015年08月12日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年08月06日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 233/60 104, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年08月03日 特許庁 / 特許 | シランカップリング剤水溶液、単分子膜製造方法及びめっき造形方法 FI分類-C23C 18/18 |
2015年07月30日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G02B 5/20 101 |
2015年07月29日 特許庁 / 特許 | 深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 186 |
2015年07月23日 特許庁 / 特許 | 微粒子含有組成物 FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 101/00 |
2015年07月23日 特許庁 / 特許 | 微粒子含有組成物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 79/04, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-C08L 79/04 B, FI分類-C08L 79/08 A |
2015年07月14日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 249/08, FI分類-C07C 249/12, FI分類-C07C 251/40, FI分類-C07C 251/48, FI分類-C07D 333/22, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C07C 251/66 CSP, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2015年07月14日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 249/04, FI分類-C07C 249/06, FI分類-C07C 249/08, FI分類-C07C 251/48, FI分類-C07C 251/66, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年07月14日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物及び化合物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 249/06, FI分類-C07C 249/08, FI分類-C07C 249/12, FI分類-C07C 251/40, FI分類-C07C 251/48, FI分類-C07D 333/22, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C07C 251/66 CSP |
2015年07月14日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物及び化合物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C07C 249/08, FI分類-C07C 251/40, FI分類-C07C 251/48, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C07C 251/66 CSP, FI分類-G09F 9/30 348 A, FI分類-G09F 9/30 349 B |
2015年07月01日 特許庁 / 特許 | 組成物及びこれを用いて得られる膜 FI分類-C08G 79/00, FI分類-C08G 18/77 Z, FI分類-H01L 21/30 578, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年06月26日 特許庁 / 特許 | スルホニウム塩および光酸発生剤 FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年06月26日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及び光反応性クエンチャー FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年06月26日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/56, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年06月24日 特許庁 / 特許 | 組成物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08L 101/02 |
2015年06月24日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G03F 7/004 501 |
2015年06月17日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物の製造方法、及びハードコート材 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08F 20/30, FI分類-C08F 20/36, FI分類-C08F 22/22, FI分類-C08F 30/08, FI分類-C09D 133/04, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-C08J 7/04 CEZ, FI分類-C08J 7/04 CERL |
2015年06月17日 特許庁 / 特許 | エッチング組成物及び伝導膜の製造方法 FI分類-H01L 21/308 F |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 化合物、及びそれを含むネガ型感光性組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/032, FI分類-C07D 405/06, FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C07D 233/60 104, FI分類-C07D 233/61 101, FI分類-C07D 409/06 CSP, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 多孔性のイミド系樹脂膜製造システム、及び多孔性のイミド系樹脂膜製造方法 FI分類-C08J 9/26 CFG |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 塗布装置及び多孔性のイミド系樹脂膜製造システム FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/06, FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 13/00, FI分類-H01M 2/16 P |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | イミド系樹脂膜製造システム及びイミド系樹脂膜製造方法 FI分類-B29L 7:00, FI分類-C08J 9/36, FI分類-B29C 41/12, FI分類-B29K 79:00, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/12, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/58, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/40, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | ナノインプリント用組成物、硬化物、パターン形成方法及びパターンを含む物品 FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 283/14, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年06月11日 特許庁 / 特許 | ガラス加工方法、ガラスエッチング液、及びガラス基板 FI分類-C03B 33/02, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-C03C 15/00 D |
2015年06月02日 特許庁 / 特許 | 均一系塗布液及びその製造方法、太陽電池用光吸収層及びその製造方法、並びに太陽電池及びその製造方法 FI分類-C01G 15/00 Z, FI分類-H01L 31/04 422, FI分類-H01L 31/06 460 |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/36, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 573 |
2015年05月27日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/004 501 |
2015年05月25日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2015年05月25日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、パターン形成方法、硬化膜、絶縁膜、及び表示装置 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08G 59/02, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 290/00, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2015年05月21日 特許庁 / 特許 | 黒色組成物 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08G 73/06, FI分類-C08L 79/04, FI分類-C08K 5/3415, FI分類-C08L 101/00 |
2015年05月21日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年05月14日 特許庁 / 特許 | 分離層形成用組成物、分離層、分離層を含む積層体、積層体の製造方法および積層体の処理方法 FI分類-B32B 37/26, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2015年05月13日 特許庁 / 特許 | 絶縁膜形成用感光性組成物、及び絶縁膜パターンの形成方法 FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年05月12日 特許庁 / 特許 | 膜形成性組成物、及びそれを用いた硬化被膜の製造方法 FI分類-C09D 183/04, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2015年05月11日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法、ブロックコポリマー組成物 FI分類-C09D 5/00, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 53/00, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-C09D 125/06, FI分類-C09D 153/00, FI分類-B05D 7/24 302 J, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2015年04月17日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体、積層体の製造方法 FI分類-B32B 27/38, FI分類-C08G 59/20, FI分類-C09J 11/06, FI分類-H05B 33/02, FI分類-C09J 163/00, FI分類-H05B 33/14 A |
2015年04月15日 特許庁 / 特許 | ナノインプリント用組成物及びナノインプリントパターン形成方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリアミドイミド膜形成用ワニス、多孔質ポリアミドイミド膜並びにそれを用いたセパレータ及び二次電池 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 71/02, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-C08L 79/08 C, FI分類-C08J 9/26 101 |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 非水二次電池、その製造方法、及び電解質 FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/056, FI分類-H01M 10/058 |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターンの形成方法、カラーフィルタ及び表示装置 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-H05K 3/06 G |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板剥離装置および基板剥離方法 FI分類-B65H 41/00 B, FI分類-G09F 9/00 351 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 積層膜 FI分類-B32B 5/32, FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B32B 5/18 101, FI分類-B01D 67/00 500 |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 濾過材料、濾過フィルター、濾過材料の製造方法及び濾過方法 FI分類-B01D 39/06, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C01B 33/157, FI分類-C08G 77/388, FI分類-B01J 20/22 B, FI分類-B01D 15/00 101 Z |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、光反応性クエンチャー及び化合物 FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 333/54 CSP |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | シリル化剤薬液の調製方法及び表面処理方法 FI分類-C07F 7/10 F, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-H01L 21/304 651, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 53/21, FI分類-C07C 65/10, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 311/04, FI分類-C07C 61/135, FI分類-C07D 307/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 FI分類-C07D 285/16, FI分類-C07D 313/10, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C07D 333/52, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年03月20日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、酸発生剤及び化合物 FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年03月18日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂層の形成方法、ホトレジストパターンの製造方法、及びメッキ造形物の形成方法 FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月12日 特許庁 / 特許 | 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池 FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 P |
2015年03月12日 特許庁 / 特許 | 二次電池用多孔質セパレータおよびそれを用いた二次電池 FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-H01M 10/04 Z |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物、積層体及び剥離方法 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 11/08, FI分類-C09J 121/00, FI分類-C09J 153/02, FI分類-C09J 201/00, FI分類-B32B 27/00 L, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 支持体分離方法 FI分類-C09J 7/00, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年02月26日 特許庁 / 特許 | 非回転式塗布用組成物及び樹脂組成物膜形成方法 FI分類-B05D 1/42, FI分類-C09D 4/00, FI分類-G03F 7/16, FI分類-C08G 59/32, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-B05D 7/24 302 Z |
2015年02月20日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1335 500, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | カーボンブラック分散液 FI分類-C09C 1/48, FI分類-C09C 3/08, FI分類-C09C 3/10 |
2015年02月17日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-C08G 8/04, FI分類-C08G 63/12, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/00, FI分類-C08L 101/12, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年02月17日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 502, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 571, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年02月10日 特許庁 / 特許 | 厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年02月09日 特許庁 / 特許 | 厚膜用化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-C08F 220/18, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年02月04日 特許庁 / 特許 | 着色剤分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤 FI分類-B01F 17/00, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 B, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法、パターン形成方法、微細パターン形成方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年01月21日 特許庁 / 特許 | マイクロレンズパターン製造用ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-C08F 212/14, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年01月19日 特許庁 / 特許 | ポジ型感光性樹脂組成物及び硬化膜 FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 501 |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 下地剤組成物及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C08F 212/04, FI分類-C09D 125/04, FI分類-C09D 133/04, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-B32B 27/30 B, FI分類-B05D 7/24 302 F |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 下地剤、及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08F 12/04, FI分類-C09D 125/04, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | スクリーニング装置およびスクリーニング方法 FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-C12N 1/00 T |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 293/00, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 下地剤及び相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月03日 特許庁 / 特許 | エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法 FI分類-G03F 7/26, FI分類-C03C 15/00 D, FI分類-C03C 17/28 A, FI分類-C03C 23/00 Z, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G06F 3/041 660 |
2014年12月03日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、基板の処理方法及び積層体 FI分類-B32B 7/06, FI分類-B32B 31/04, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/00 U, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-H01L 21/02 C |
2014年11月11日 特許庁 / 特許 | 表面被覆膜の形成方法及び表面被覆膜を有する太陽電池 FI分類-H01L 21/473, FI分類-H01L 21/316 G, FI分類-H01L 31/04 240, FI分類-H01L 31/04 422 |
2014年10月31日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法 FI分類-C11D 3/26, FI分類-C11D 3/30, FI分類-C11D 7/32, FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/302 102, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2014年10月31日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用洗浄液、及び基板の洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C23G 1/18, FI分類-C23G 1/20, FI分類-G03F 7/42, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/302 102, FI分類-H01L 21/304 647 |
2014年10月24日 特許庁 / 特許 | 深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 186 |
2014年10月21日 特許庁 / 特許 | 膜製造システム及び膜製造方法 FI分類-B05D 7/00 B, FI分類-B32B 5/24 101, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-B05D 7/24 302 X |
2014年10月21日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜、その製造方法、二次電池用多孔質セパレータ及び二次電池 FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/64, FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 M, FI分類-H01M 2/16 P |
2014年10月20日 特許庁 / 特許 | 処理装置及び製造システム FI分類-B08B 3/04 B, FI分類-C08J 9/26 CFG, FI分類-B01J 19/00 311 B |
2014年10月17日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/34, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年10月08日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、パターン製造方法、透明絶縁膜、及び表示装置 FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 265/06, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製方法、半導体フォトリソグラフィー用薬液の精製装置、及び半導体フォトリソグラフィー用薬液 FI分類-G03F 7/26, FI分類-G03F 7/38 501 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物及び光学部品 FI分類-G02B 1/04, FI分類-G02C 7/00, FI分類-C08L 83/05 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 感光性シロキサン組成物及び光学部品 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 521 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 平坦化層を備える構造体 FI分類-C08F 16/34, FI分類-C08F 20/30, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-B32B 7/02 103 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物及び光透過性積層体 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 4/02, FI分類-G02B 1/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 265/06, FI分類-C09J 201/00, FI分類-G02B 1/10 Z, FI分類-B32B 7/02 103 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物の製造方法 FI分類-C07C 41/14, FI分類-C07C 41/16, FI分類-C07C 43/215 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物 FI分類-C08F 16/32 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/075 501 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/075 501 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びパターン製造方法 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501 |
2014年09月17日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 129/10, FI分類-C09J 163/00 |
2014年09月10日 特許庁 / 特許 | エッチング装置及び製造システム FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-B08B 11/00 A, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2014年09月10日 特許庁 / 特許 | 焼成装置、焼成方法、製造システム、及び製造方法 FI分類-C08J 9/26, FI分類-B01D 71/56, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B29C 35/02, FI分類-H01M 2/16 P |
2014年09月09日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物の製造方法 FI分類-C07C 41/36, FI分類-C07C 43/21 |
2014年09月09日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する組成物 FI分類-C08F 16/22, FI分類-C07C 43/215 CSP |
2014年09月05日 特許庁 / 特許 | 多孔質膜製造用ワニスの製造方法 FI分類-C08L 71/03, FI分類-C08L 83/12, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2014年08月27日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、層間絶縁膜及び層間絶縁膜の形成方法 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年08月26日 特許庁 / 特許 | N-アシルカルバモイル基及びラクトン骨格を含む単量体、及び高分子化合物 FI分類-C08F 20/36, FI分類-C07D 307/93 CSP |
2014年08月26日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法 FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-B05D 7/24 302 F, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年08月26日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/36, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年08月21日 特許庁 / 特許 | 塗布液、太陽電池用光吸収層および太陽電池、ならびにその製造方法 FI分類-C09D 1/00, FI分類-C09D 5/32, FI分類-C09D 7/12, FI分類-H01L 31/04 422, FI分類-H01L 31/06 400, FI分類-H01L 31/06 460 |
2014年08月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物及びカーボンブラック並びに感光性樹脂組成物の製造方法 FI分類-G02F 1/1335, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年08月06日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミド膜の製造方法、セパレータの製造方法、及びワニス FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-H01M 8/02 M, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2014年08月06日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミド系樹脂膜の製造方法、多孔質ポリイミド系樹脂膜、及びそれを用いたセパレータ FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/36 CFG |
2014年07月28日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法、パターン形成方法及び微細パターン形成方法 FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年07月25日 特許庁 / 特許 | 有機EL表示素子における絶縁膜形成用の感光性樹脂組成物 FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-G03F 7/075 501 |
2014年07月22日 特許庁 / 特許 | 相分離構造体の製造方法、パターン形成方法及び微細パターン形成方法 FI分類-B05D 3/00 Z, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08J 5/18 CER, FI分類-C08J 7/00 301, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-B05D 7/24 302 E |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | 半導体発光素子及びフォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法 FI分類-H01L 33/00 160, FI分類-H01L 33/00 162, FI分類-H01L 33/00 410 |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | フォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法、プログラム及び記録媒体 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 170 |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年07月04日 特許庁 / 特許 | 複合層材料 FI分類-B32B 7/06, FI分類-B32B 27/38, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08L 79/00 Z |
2014年07月04日 特許庁 / 特許 | 膜製造方法及び積層体製造方法 FI分類-B29L 7:00, FI分類-B29L 9:00, FI分類-B29C 41/12, FI分類-B32B 31/04, FI分類-C08J 5/18 CER, FI分類-C08J 5/18 CEZ |
2014年07月02日 特許庁 / 特許 | 金属カルコゲナイド分散液の製造方法、金属カルコゲナイド分散液、太陽電池用光吸収層の製造方法及び太陽電池の製造方法 FI分類-H01L 31/06 460 |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 樹脂基板の製造方法および表示デバイスの製造方法 FI分類-C08J 5/18 CFG, FI分類-G09F 9/30 310, FI分類-G02F 1/1333 500 |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 感エネルギー性樹脂組成物 FI分類-C08G 73/22, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 剥離用組成物及び剥離方法 FI分類-C09D 9/00, FI分類-C09J 5/00, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 622 P |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | メンブレンフィルター FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 67/00 500 |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | メンブレンフィルターの製造方法 FI分類-B32B 5/22, FI分類-B01D 71/46, FI分類-B01D 39/16 C, FI分類-B01D 39/16 E, FI分類-B01D 67/00 500 |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | メンブレンフィルター FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 39/16 C, FI分類-B01D 67/00 500 |
2014年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 FI分類-C08F 220/24, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年06月19日 特許庁 / 特許 | 非水二次電池及びその製造方法 FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 2/02 Z, FI分類-H01M 4/64 A, FI分類-H01M 10/0565 |
2014年06月16日 特許庁 / 特許 | 接着剤組成物及びその利用 FI分類-B32B 7/12, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 181/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2014年06月10日 特許庁 / 特許 | 貼付装置および貼付方法 FI分類-H01L 21/68 N |
2014年06月04日 特許庁 / 特許 | 二次電池用セパレータの製造方法およびリチウム二次電池の製造方法 FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 M, FI分類-H01M 2/16 P |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | ワニス、それを用いて製造した多孔質ポリイミド膜、及びその製造方法 FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-C08J 9/26 102, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2014年05月26日 特許庁 / 特許 | 拡散剤組成物及び不純物拡散層の形成方法 FI分類-H01L 21/225 D, FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 31/04 284 |
2014年05月21日 特許庁 / 特許 | ポリベンゾオキサゾール樹脂の製造方法 FI分類-C08G 73/22 |
2014年05月21日 特許庁 / 特許 | 窒化ガリウムの製造方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C01B 21/06 A |
2014年05月15日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法および積層体 FI分類-B32B 31/00, FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/50, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-B32B 7/02 103 |
2014年05月01日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する感光性組成物 FI分類-G03F 7/004 531, FI分類-G03F 7/038 601 |
2014年05月01日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/038 501 |
2014年04月18日 特許庁 / 特許 | 細胞培養基材形成用の感光性樹脂組成物 FI分類-B29L 7:00, FI分類-C08F 2/46, FI分類-B29C 41/12, FI分類-C12M 1/00 C, FI分類-C08J 7/00 306, FI分類-C08J 7/00 CEY |
2014年04月09日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法及びトップコート膜の成膜方法 FI分類-B05D 7/02, FI分類-B32B 27/08, FI分類-B32B 27/24, FI分類-B05D 7/24 301 B, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年04月09日 特許庁 / 特許 | 相分離構造を含む構造体の製造方法及びトップコート膜の成膜方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 7/24 302 F |
2014年04月09日 特許庁 / 特許 | フォトリソグラフィ用剥離液及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2014年04月08日 特許庁 / 特許 | 透明部材形成用組成物、及びその硬化物からなる透明部材 FI分類-C08G 75/04, FI分類-C07C 321/14, FI分類-C07C 43/215, FI分類-C07C 43/23 Z |
2014年04月04日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用洗浄液、及び基板のエッチング加工方法 FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/34, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C23G 1/18, FI分類-C23G 1/20, FI分類-C23G 5/032, FI分類-C23F 4/00 A, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 顔料分散液、それを含む感光性樹脂組成物、及び分散助剤 FI分類-B01F 17/00, FI分類-B01F 17/32, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 B, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504 |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 多孔質ポリイミド膜の製造方法、多孔質ポリイミド膜、及びそれを用いたセパレータ FI分類-B32B 5/32, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/64, FI分類-B32B 27/34, FI分類-H01M 2/16 L, FI分類-H01M 2/16 P, FI分類-C08J 9/26 101, FI分類-C08J 9/26 CFG |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | ビニルエーテル化合物に由来する構造単位を含む化合物 FI分類-C07C 41/06, FI分類-C08F 16/32, FI分類-C08G 65/40, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07C 43/21 CSP |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する組成物 FI分類-C07C 69/54, FI分類-C08F 16/12, FI分類-C08F 16/32, FI分類-C07C 43/215 |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有フルオレン系化合物 FI分類-C07C 41/24, FI分類-C07C 67/14, FI分類-C08F 16/12, FI分類-C08F 16/32, FI分類-C07C 69/54 Z, FI分類-C07C 43/215 CSP |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する組成物 FI分類-C07C 41/16, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 43/215, FI分類-C07C 43/23 Z |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/34, FI分類-C08F 20/38, FI分類-C08F 20/54, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月20日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-C07C 323/22, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 化合物 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07D 307/00 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 結晶成長制御剤、p型半導体微粒子又はp型半導体微粒子膜の形成方法、正孔輸送層形成用組成物、及び太陽電池 FI分類-H01L 21/368 Z, FI分類-H01L 31/04 112 C |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 正孔輸送層形成用組成物及び太陽電池 FI分類-H01G 9/20 103, FI分類-H01G 9/20 111 A, FI分類-H01G 9/20 113 A, FI分類-H01L 31/04 112 C |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 貼付方法 FI分類-C09J 5/00, FI分類-C09J 201/00, FI分類-B30B 12/00 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N |
2014年03月12日 特許庁 / 特許 | 細胞培養基材及びパターン化された培養細胞の培養方法 FI分類-C12M 3/00 A, FI分類-C12N 5/00 202 A |
2014年03月10日 特許庁 / 特許 | エッチングマスクを形成するためのガラス基板の前処理方法 FI分類-C03C 17/30, FI分類-C03C 15/00 D, FI分類-C03C 23/00 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G06F 3/041 660 |
2014年03月10日 特許庁 / 特許 | チャンバー装置及び加熱方法 FI分類-H01L 31/04 424, FI分類-H01L 31/06 460 |
2014年03月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年02月20日 特許庁 / 特許 | ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液 FI分類-C08G 73/10 |
2014年02月18日 特許庁 / 特許 | ポリイミド樹脂の製造方法、ポリイミド膜の製造方法、ポリアミック酸溶液の製造方法、ポリイミド膜、及びポリアミック酸溶液 FI分類-C08G 73/10 |
2014年02月18日 特許庁 / 特許 | 接着剤積層体及びその利用 FI分類-C09J 5/00, FI分類-C09J 153/00, FI分類-C09J 7/02 Z |
2014年02月10日 特許庁 / 特許 | ビニル基含有化合物を含有する硬化性組成物 FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08L 63/00 A |
2014年01月30日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/38, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年01月17日 特許庁 / 特許 | 光インプリント用組成物及びそれを用いたパターンの製造方法 FI分類-C08F 299/08, FI分類-B29C 59/02 ZNMZ, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年01月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法及び高分子化合物 FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年01月16日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年01月16日 特許庁 / 特許 | 化合物の製造方法、及び高分子化合物の製造方法 FI分類-C07C 67/14, FI分類-C08F 20/28, FI分類-C07C 69/54 Z, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年01月16日 特許庁 / 特許 | 化合物及び高分子化合物 FI分類-C08F 20/26, FI分類-C08F 20/36, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 69/54 CSPA |
東京応化工業株式会社の商標情報(29件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年01月13日 特許庁 / 商標 | TRIC 01類, 03類 |
2022年12月29日 特許庁 / 商標 | 世界を高純度化する 01類, 05類, 07類, 09類, 10類, 17類 |
2022年12月26日 特許庁 / 商標 | エコヒエ 01類, 07類, 17類 |
2022年12月26日 特許庁 / 商標 | Eco He-A 01類, 07類, 17類 |
2022年03月31日 特許庁 / 商標 | Fluid Circuit Driving Station 09類 |
2021年03月26日 特許庁 / 商標 | Fluid3D-X 09類 |
2021年03月16日 特許庁 / 商標 | SPRA 01類 |
2020年12月04日 特許庁 / 商標 | TLAL 01類 |
2020年10月02日 特許庁 / 商標 | TAMFC 01類 |
2020年08月05日 特許庁 / 商標 | The e-Material Global Company 01類, 05類, 07類, 09類, 10類, 17類 |
2020年08月05日 特許庁 / 商標 | e-Material 01類, 05類, 07類, 09類, 10類, 17類 |
2020年07月03日 特許庁 / 商標 | TLDP 01類 |
2020年07月03日 特許庁 / 商標 | LGPD 01類 |
2020年03月26日 特許庁 / 商標 | TOKS 09類 |
2019年08月08日 特許庁 / 商標 | USR 01類 |
2019年06月27日 特許庁 / 商標 | SieveWell 01類, 05類, 09類, 10類 |
2018年08月07日 特許庁 / 商標 | SESG 01類 |
2017年12月15日 特許庁 / 商標 | ITCS 01類 |
2017年12月12日 特許庁 / 商標 | THRI 01類 |
2017年10月16日 特許庁 / 商標 | EUVR 01類 |
2017年02月23日 特許庁 / 商標 | PMER 01類 |
2017年01月30日 特許庁 / 商標 | NCDS 01類 |
2016年08月30日 特許庁 / 商標 | OSRA 01類 |
2016年08月05日 特許庁 / 商標 | TAPM 17類 |
2016年07月01日 特許庁 / 商標 | EM Remover 01類 |
2015年12月01日 特許庁 / 商標 | TOK 01類, 05類, 07類, 09類, 10類, 17類 |
2015年12月01日 特許庁 / 商標 | §tok 01類, 05類, 07類, 09類, 10類, 17類 |
2015年09月10日 特許庁 / 商標 | TPIR 01類 |
2014年10月10日 特許庁 / 商標 | TOKセパレータ 09類 |
東京応化工業株式会社の意匠情報(9件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2021年11月30日 特許庁 / 意匠 | 細胞観察用容器 意匠新分類-K671 |
2021年11月30日 特許庁 / 意匠 | 細胞観察用容器 意匠新分類-K671 |
2021年11月30日 特許庁 / 意匠 | 細胞観察用容器 意匠新分類-K671 |
2019年09月30日 特許庁 / 意匠 | 細胞観察用容器 意匠新分類-K671 |
2019年09月30日 特許庁 / 意匠 | 細胞観察用容器 意匠新分類-K671 |
2015年01月20日 特許庁 / 意匠 | 包装容器注出口用注出管保持具 意匠新分類-F491220 |
2014年01月30日 特許庁 / 意匠 | 包装用容器注出口 意匠新分類-F491220 |
2014年01月30日 特許庁 / 意匠 | 包装用容器注出口 意匠新分類-F491220 |
2014年01月30日 特許庁 / 意匠 | 包装用容器注出口 意匠新分類-F491220 |
東京応化工業株式会社の職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | 半導体・ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造材料、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売 |
企業規模 | 1,462人 男性 1,262人 / 女性 200人 |
平均勤続年数 範囲 その他 | 男性 18.6年 / 女性 9.0年 |
女性労働者の割合 範囲 その他 | 15.4% |
管理職全体人数 | 261人 男性 252人 / 女性 9人 |
役員全体人数 | 10人 男性 9人 / 女性 1人 |
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