法人番号:3120001104363
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社
情報更新日:2024年08月31日
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社とは
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社（ナノテクノロジーインスルツメンツ）は、法人番号:3120001104363で大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号に所在する法人として大阪法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、補助金情報が7件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2022年12月08日です。
インボイス番号:T3120001104363については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は大阪労働局。大阪南労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ナノテクノロジーインスルツメンツ |
| 法人番号 | 3120001104363 |
| 会社法人等番号 | 1200-01-104363 |
| 登記所 | 大阪法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T3120001104363 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒559-0011 ※地方自治体コードは 27125 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 大阪府 ※大阪府の法人数は 471,518件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 大阪市住之江区 ※大阪市住之江区の法人数は 5,584件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 北加賀屋4丁目3番24号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | オオサカフオオサカシスミノエクキタカガヤ4チョウメ |
| 更新年月日更新日 | 2022年12月08日 |
| 変更年月日変更日 | 2015年10月05日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 大阪労働局 〒540-8527 大阪府大阪市中央区大手前4丁目1番67号大阪合同庁舎第2号館8F(総務・雇均)・9F(基準) |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 大阪南労働基準監督署 〒557-8502 大阪府大阪市西成区玉出中2-13-27 |
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社の場所
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社」で、「大阪府大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号」に新規登録されました。 |
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社の法人活動情報
ナノテクノロジー・インスツルメンツ株式会社の補助金情報(7件)
| 期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
|---|---|
2022年03月24日 | 平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「金属蒸気触媒CVD技術を用いたミニマルファブ用絶縁基板上グラフェン直接合成装置の開発」【一般財団法人金属系材料研究開発センター】 98,606円 |
2022年03月24日 | 令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「狭空間反応制御によるポリシリコン製造用ミニマル熱CVD装置の開発と多品種少量製造プロセス確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 71,793円 |
2020年11月26日 | 平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「金属蒸気触媒CVD技術を用いたミニマルファブ用絶縁基板上グラフェン直接合成装置の開発」【一般財団法人金属系材料研究開発センター】 - |
2018年01月12日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「金属蒸気触媒CVD技術を用いたミニマルファブ用絶縁基板上グラフェン直接合成装置の開発」 中小企業経営支援等対策費補助金 49,302円 |
2018年01月12日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(準共鳴型電子サイクロトロン共鳴技術に基づく小型・高密度プラズマ源と、これをコア技術とする3DIC作製を目的とした高速ミニマルエッチング装置の開発) 中小企業経営支援等対策費補助金 - |
2022年03月24日 | 令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「狭空間反応制御によるポリシリコン製造用ミニマル熱CVD装置の開発と多品種少量製造プロセス確立」【一般財団法人大阪科学技術センター】 24,643円 |
2023年06月26日 | 令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業)「狭空間反応制御によるポリシリコン製造用ミニマル熱CVD装置の開発と多品種少量製造プロセス確立」【 一般財団法人大阪科学技術センター】 116,919円 |
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