大塚電子株式会社

大塚電子株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

大塚電子株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	大塚電子株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	オオツカデンシ
法人番号	3120001149235
会社法人等番号	1200-01-149235
登記所	大阪法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T3120001149235 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒573-1132 ※地方自治体コードは 27210
国内所在地（都道府県）都道府県	大阪府 ※大阪府の法人数は 470,937件
国内所在地（市区町村）市区町村	枚方市 ※枚方市の法人数は 10,419件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	招提田近3丁目26番3号
国内所在地（1行表示）1行表示	大阪府枚方市招提田近3丁目26番3号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	-
従業員数	229人
電話番号TEL	072-855-8550
FAX番号FAX	072-855-8557
ホームページHP	http://www.photal.co.jp/
更新年月日更新日	2018年04月18日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	大阪労働局 〒540-8527 大阪府大阪市中央区大手前4丁目1番67号大阪合同庁舎第2号館8F(総務・雇均)・9F(基準)
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	北大阪労働基準監督署 〒573-8512 大阪府枚方市東田宮1-6-8

大塚電子株式会社の場所

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大塚電子株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「大塚電子株式会社」で、「大阪府枚方市招提田近3丁目26番3号」に新規登録されました。

大塚電子株式会社と同じ名称の法人

件数	リンク
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大塚電子株式会社の法人活動情報

大塚電子株式会社の表彰情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

大塚電子株式会社の特許情報(43件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年11月08日 特許庁 / 特許	光学測定方法および光学測定システム FI分類-G01J 9/02, FI分類-G03H 1/04, FI分類-G01B 11/24 D, FI分類-G01N 21/45 A
2020年09月01日 特許庁 / 特許	光学測定システム、光学測定方法および測定プログラム FI分類-G01B 11/06 Z
2020年04月16日 特許庁 / 特許	ゼータ電位測定用治具 FI分類-G01N 27/26 P, FI分類-G01N 27/447 331 A
2020年04月14日 特許庁 / 特許	光学測定システム、多層膜製造装置および光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01N 21/27 B, FI分類-G01N 21/45 A
2020年04月08日 特許庁 / 特許	光学測定システムおよび光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G
2020年04月06日 特許庁 / 特許	粒子径測定方法、粒子径測定装置及び粒子径測定プログラム FI分類-G01N 15/02 A, FI分類-G01N 15/02 C, FI分類-G01N 21/53 Z
2020年03月12日 特許庁 / 特許	光学測定方法、光学測定装置及び光学測定プログラム FI分類-G01N 21/23, FI分類-G01J 4/04 Z
2019年11月14日 特許庁 / 特許	光学測定装置のリニアリティ補正方法、光学測定方法及び光学測定装置 FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01J 3/02 C
2019年11月11日 特許庁 / 特許	膜厚測定装置および膜厚測定方法 FI分類-G01B 11/06 Z
2019年10月30日 特許庁 / 特許	光学測定方法および処理装置 FI分類-G01J 3/28, FI分類-G01J 3/02 C
2019年10月25日 特許庁 / 特許	光学測定装置および波長校正方法 FI分類-G01J 3/06, FI分類-G01J 3/18, FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01N 21/27 F, FI分類-G01N 21/45 A
2019年10月24日 特許庁 / 特許	光学測定装置および光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 101 Z
2019年04月15日 特許庁 / 特許	光学ユニット、光学測定装置および光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01N 21/27 A
2019年02月26日 特許庁 / 特許	光線力学治療装置及び光線力学治療装置用カートリッジ FI分類-A61M 1/36 185
2019年02月25日 特許庁 / 特許	光線力学治療装置 FI分類-A61N 5/06 Z, FI分類-A61M 1/36 173
2019年02月19日 特許庁 / 特許	光線力学的療法条件パラメータの決定方法および光線力学的療法装置 FI分類-A61K 41/00, FI分類-A61P 35/00, FI分類-A61K 31/197, FI分類-A61N 5/06 Z
2019年01月29日 特許庁 / 特許	光学測定システムおよび光学測定方法 FI分類-G01B 11/02 G
2018年09月26日 特許庁 / 特許	測定システムおよび測定方法 FI分類-G01M 11/00 T
2018年09月21日 特許庁 / 特許	測定装置、および測定方法 FI分類-G01N 21/3504
2018年05月18日 特許庁 / 特許	厚み測定装置及び厚み測定方法 FI分類-G01B 11/06 Z
2018年05月18日 特許庁 / 特許	光学測定装置及び光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G
2018年04月26日 特許庁 / 特許	共焦点光学系測定装置、および共焦点光学系測定装置の製造方法 FI分類-G02B 21/00
2017年11月06日 特許庁 / 特許	光学特性測定方法および光学特性測定システム FI分類-G01J 1/00 E, FI分類-G01J 1/00 F, FI分類-G01M 11/00 T
2017年07月05日 特許庁 / 特許	光学測定装置および光学測定方法 FI分類-G01N 21/51, FI分類-G01N 15/02 A
2017年06月05日 特許庁 / 特許	光学測定装置および光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01N 21/41 Z
2017年06月05日 特許庁 / 特許	光学測定装置および光学測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01N 21/41 Z
2016年12月19日 特許庁 / 特許	光学特性測定装置および光学特性測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-G01N 21/27 E
2016年09月23日 特許庁 / 特許	分光測定装置 FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01N 21/27, FI分類-G01J 3/02 Z
2016年09月09日 特許庁 / 特許	光学測定方法および光学測定装置 FI分類-G01J 1/44 E, FI分類-G01J 3/02 C, FI分類-G01N 21/27 F
2016年01月26日 特許庁 / 特許	厚み測定装置および厚み測定方法 FI分類-G01B 11/06 G
2015年12月25日 特許庁 / 特許	光学特性測定装置 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G01N 21/27 E
2015年12月25日 特許庁 / 特許	プレチルト角測定装置及びプレチルト角測定方法 FI分類-G01N 21/21 Z, FI分類-G02F 1/13 101
2015年08月31日 特許庁 / 特許	顕微分光装置 FI分類-G01N 21/65, FI分類-G02B 21/06, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G01N 21/64 E
2015年07月07日 特許庁 / 特許	光学特性測定システム FI分類-G01J 3/443, FI分類-G01J 1/02 A, FI分類-G01N 21/64 Z
2015年07月07日 特許庁 / 特許	光学特性測定システムの校正方法 FI分類-G01J 1/02 A, FI分類-G01N 21/64 Z
2015年07月07日 特許庁 / 特許	光学測定装置 FI分類-G01J 3/18, FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01J 3/443, FI分類-G01J 3/02 C, FI分類-G01N 21/64 Z
2015年03月24日 特許庁 / 特許	分光輝度計の校正に用いる基準光源装置及びそれを用いる校正方法 FI分類-G01J 3/10, FI分類-G01J 3/02 C
2015年02月16日 特許庁 / 特許	配光特性測定装置および配光特性測定方法 FI分類-G01M 11/06, FI分類-G01J 1/00 E, FI分類-G01M 11/00 T
2015年02月16日 特許庁 / 特許	配光特性測定装置および配光特性測定方法 FI分類-G01M 11/06, FI分類-G01J 1/00 E, FI分類-G01M 11/00 T
2014年10月01日 特許庁 / 特許	シリンジを制御する制御装置を備えた分注システム FI分類-G01N 35/10 A, FI分類-G01N 1/00 101 K
2014年06月20日 特許庁 / 特許	動的光散乱測定装置及び動的光散乱測定方法 FI分類-G01N 15/02 A, FI分類-G01N 21/49 Z
2014年04月14日 特許庁 / 特許	膜厚測定装置及び方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01B 11/06 Z
2014年02月26日 特許庁 / 特許	分光光度計及び分光光度測定方法 FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01J 3/02 Z, FI分類-G01N 21/27 Z

大塚電子株式会社の商標情報(16件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年08月07日 特許庁 / 商標	§MINUK 09類
2022年10月05日 特許庁 / 商標	§Photalble 09類, 10類, 11類, 42類
2022年07月05日 特許庁 / 商標	MINUK 09類
2022年07月05日 特許庁 / 商標	YoMIEL 09類
2022年05月11日 特許庁 / 商標	ひらめきのコンシェルジュ 41類, 42類, 44類
2021年06月09日 特許庁 / 商標	ラインスキャン膜厚計 09類
2020年07月29日 特許庁 / 商標	Photable 09類, 10類, 11類, 42類
2020年07月29日 特許庁 / 商標	Photalble 09類, 10類, 11類, 42類
2020年07月21日 特許庁 / 商標	Zaitaku King＼ザイタクキング 09類, 10類, 11類, 42類
2020年03月27日 特許庁 / 商標	§ELSZneo 09類
2019年02月27日 特許庁 / 商標	Otsuka Electronics 09類, 10類, 42類
2019年01月23日 特許庁 / 商標	Emios 09類
2018年01月26日 特許庁 / 商標	RayHunter 09類
2017年04月27日 特許庁 / 商標	§nanoSAQLA 09類
2016年03月04日 特許庁 / 商標	OPTM 09類
2014年08月27日 特許庁 / 商標	§DiaScan α 10類

大塚電子株式会社の意匠情報(5件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年05月14日 特許庁 / 意匠	タイヤ溝測定器 意匠新分類-J11200
2020年06月02日 特許庁 / 意匠	試料分析機 意匠新分類-J1500
2017年09月29日 特許庁 / 意匠	試料分析機 意匠新分類-J1500
2017年09月29日 特許庁 / 意匠	試料分析機 意匠新分類-J1500
2017年09月29日 特許庁 / 意匠	試料分析機 意匠新分類-J1500

大塚電子株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	【精密機器製造販売】 科学計測機器、分析機器、医用機器等の開発および製造販売。
企業規模	229人 男性 184人 / 女性 28人

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