株式会社堀場エステック

株式会社堀場エステックとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社堀場エステックの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社堀場エステック
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ホリバエステック
法人番号	3130001010115
会社法人等番号	1300-01-010115
登記所	京都地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T3130001010115 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒601-8116 ※地方自治体コードは 26107
国内所在地（都道府県）都道府県	京都府 ※京都府の法人数は 112,180件
国内所在地（市区町村）市区町村	京都市南区 ※京都市南区の法人数は 6,393件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	上鳥羽鉾立町11番地5
国内所在地（1行表示）1行表示	京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11番地5
国内所在地（読み仮名）読み仮名	キョウトフキョウトシミナミクカミトバホコダテチョウ
英語表記	HORIBA STEC, Co., Ltd.
国内所在地（英語表示）英語表示	11-5, Hokotate-cho, Kamitoba, Minami-ku Kyoto-shi, Kyoto
代表者	代表取締役社長 堀場 弾
従業員数	735人
ホームページHP	http://www.horiba-stec.jp
更新年月日更新日	2024年06月12日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	京都労働局 〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	京都下労働基準監督署 〒600-8009 京都府京都市下京区四条通室町東入 函谷鉾町101 アーバンネット四条烏丸ビル5階

株式会社堀場エステックの場所

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株式会社堀場エステックの登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社堀場エステック」で、「京都府京都市南区上鳥羽鉾立町11番地5」に新規登録されました。

株式会社堀場エステックの法人活動情報

株式会社堀場エステックの表彰情報(6件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「プラチナくるみん」特例認定 2019
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2013
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2008
2017年12月05日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2008年・2013年
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社堀場エステックの届出情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年01月12日 経済産業省	計量法届出製造事業者 - 濃度計第三類
2017年01月12日 経済産業省	計量法届出製造事業者 - 濃度計第二類

株式会社堀場エステックの特許情報(106件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年08月04日 特許庁 / 特許	重合装置 FI分類-C08F 2/01
2020年06月02日 特許庁 / 特許	コリオリ流量計、流量測定方法、及び、コリオリ流量計用プログラム FI分類-G01F 1/84
2020年05月25日 特許庁 / 特許	温度測定装置、温度測定方法、及び、温度測定装置用プログラム FI分類-G01J 5/58, FI分類-C23C 16/52, FI分類-G01K 11/12 D, FI分類-H01L 21/302 103
2020年03月13日 特許庁 / 特許	流体制御装置、流体制御システム、流体制御方法、及び、流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 B
2020年03月06日 特許庁 / 特許	流体制御装置、流体制御システム、診断方法、及び、流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 51/00 F
2020年03月05日 特許庁 / 特許	真空計 FI分類-G01L 19/14, FI分類-G01L 19/06 Z
2020年02月20日 特許庁 / 特許	気化システム FI分類-F17C 9/02, FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205
2020年02月13日 特許庁 / 特許	気化装置、成膜装置、濃度制御機構用プログラム、及び、濃度制御方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-G05B 11/36 N, FI分類-G05D 21/00 A, FI分類-H01L 21/31 B
2019年12月02日 特許庁 / 特許	四重極質量分析装置、四重極質量分析方法、及び、四重極質量分析装置用プログラム FI分類-H01J 49/10, FI分類-H01J 49/42, FI分類-G01N 27/62 E, FI分類-G01N 27/62 G
2019年11月27日 特許庁 / 特許	液体材料気化装置、液体材料気化装置の制御方法、及び、液体材料気化装置用プログラム FI分類-C23C 16/448, FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-H01L 21/205
2019年11月05日 特許庁 / 特許	ピエゾバルブ、流体制御装置、及び、ピエゾバルブ診断方法 FI分類-G01R 31/02, FI分類-F16K 31/02 A
2019年08月01日 特許庁 / 特許	気化器、液体材料気化装置、及び気化方法 FI分類-B01J 7/02 Z, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/31 F
2019年07月12日 特許庁 / 特許	ガスクロマトグラフ用の中間処理装置、及び、ガスクロマトグラフ FI分類-G01N 30/84 E
2019年07月02日 特許庁 / 特許	流量センサの補正装置、流量測定システム、流量制御装置、補正装置用プログラム、及び、補正方法 FI分類-G01F 1/00 W, FI分類-G01F 1/696 Z
2019年06月07日 特許庁 / 特許	流体制御バルブ、流量制御装置、及び、駆動回路 FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 31/02 A
2019年04月26日 特許庁 / 特許	吸光分析装置、及び、吸光分析装置用プログラム FI分類-G01N 21/3504
2019年04月08日 特許庁 / 特許	流量算出装置、流量算出システム、及び、流量算出装置用プログラム FI分類-G01F 1/00 W, FI分類-G01F 1/00 X, FI分類-G01F 1/34 Z, FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-G01F 1/696 Z, FI分類-G01F 25/00 C, FI分類-G01F 25/00 G, FI分類-G01F 25/00 R
2019年04月01日 特許庁 / 特許	流量制御装置、診断方法、及び、流量制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2019年03月26日 特許庁 / 特許	差圧式流量計 FI分類-G01F 1/36, FI分類-G01F 1/48, FI分類-G01F 15/02, FI分類-G01F 1/00 W
2019年03月12日 特許庁 / 特許	濃度制御装置、原料消費量推定方法、及び、濃度制御装置用プログラム FI分類-C23C 16/448, FI分類-G05D 21/00 A, FI分類-H01L 21/31 B
2019年01月28日 特許庁 / 特許	濃度制御装置、及び、ゼロ点調整方法、濃度制御装置用プログラム FI分類-C23C 16/52, FI分類-G01N 21/61, FI分類-C23C 16/448, FI分類-G05D 21/00 A, FI分類-H01L 21/31 B
2018年12月06日 特許庁 / 特許	流体制御弁 FI分類-H01L 41/04, FI分類-B06B 1/06 Z, FI分類-H01L 41/083, FI分類-F16K 31/02 A
2018年12月05日 特許庁 / 特許	吸光分析装置 FI分類-G01N 21/15, FI分類-G01N 21/53, FI分類-G01N 21/03 B
2018年10月26日 特許庁 / 特許	ガス分析装置及びガス分析方法 FI分類-H01J 49/42, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 31/12 A
2018年10月11日 特許庁 / 特許	気化装置及び気化装置用分離器 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/31 F
2018年07月17日 特許庁 / 特許	流量制御装置 FI分類-G05D 7/06 Z
2018年07月12日 特許庁 / 特許	濃度制御装置及び材料ガス供給装置 FI分類-F17C 9/02, FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-G05D 21/00 A, FI分類-H01L 21/31 F, FI分類-F17C 13/02 302
2018年06月18日 特許庁 / 特許	流体制御装置、及び、流量比率制御装置 FI分類-G05D 7/06 Z
2018年05月31日 特許庁 / 特許	流体制御装置、制御プログラム、及び、制御方法 FI分類-G05D 7/06 Z
2018年05月18日 特許庁 / 特許	流体制御装置、及び、流量比率制御装置 FI分類-G05D 7/06 Z
2018年04月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理装置用プログラム FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/31 C
2018年04月13日 特許庁 / 特許	液体材料気化供給装置及び制御プログラム FI分類-B01J 4/02 A, FI分類-B01J 7/02 Z, FI分類-C23C 16/448, FI分類-G05D 7/01 Z, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-F17C 13/00 301 A
2018年04月10日 特許庁 / 特許	気化装置及び気化システム FI分類-F17C 9/02, FI分類-B01J 7/00 Z, FI分類-F17C 13/02 302
2018年03月16日 特許庁 / 特許	気化装置及び気化システム FI分類-B01J 7/00 Z
2018年03月12日 特許庁 / 特許	流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2018年03月02日 特許庁 / 特許	流体制御弁及び流体制御装置 FI分類-F16K 1/00 E, FI分類-F16K 1/32 A, FI分類-F16K 1/32 B, FI分類-F16K 37/00 D
2018年03月02日 特許庁 / 特許	流体制御弁及び流体制御装置 FI分類-F16K 1/00 A, FI分類-F16K 1/00 E, FI分類-F16K 1/32 B, FI分類-F16K 1/32 C, FI分類-F16K 1/36 Z
2018年02月23日 特許庁 / 特許	流体制御装置、制御プログラム及び流体制御システム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-G05B 11/36 N
2018年01月18日 特許庁 / 特許	診断システム、診断方法、診断プログラム及び流量制御装置。 FI分類-G01F 1/36, FI分類-G05B 23/02 T
2017年12月27日 特許庁 / 特許	校正データ作成装置及び校正データ作成方法、並びに、流量制御装置 FI分類-G05D 7/06 Z
2017年12月14日 特許庁 / 特許	混合器及び気化装置 FI分類-B01F 3/04 Z, FI分類-B01F 5/00 D, FI分類-B01J 7/02 Z, FI分類-B01F 15/06 Z
2017年12月14日 特許庁 / 特許	流体制御装置及び流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 31/06 330, FI分類-F16K 31/06 340
2017年12月13日 特許庁 / 特許	濃度制御装置、ガス制御システム、成膜装置、濃度制御方法、及び濃度制御装置用プログラム FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 B
2017年12月12日 特許庁 / 特許	流体装置及び流体装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2017年12月12日 特許庁 / 特許	収容タンク、その収容タンクを備えた材料気化装置及び液体材料供給装置 FI分類-F17C 7/04
2017年11月29日 特許庁 / 特許	真空計 FI分類-G01L 19/06 Z
2017年11月29日 特許庁 / 特許	真空計 FI分類-G01L 19/06 Z
2017年11月28日 特許庁 / 特許	金属シール、及び、流体制御装置 FI分類-F16J 15/08 A, FI分類-F16J 15/08 G, FI分類-F16L 23/02 D
2017年11月28日 特許庁 / 特許	金属シール、流体制御装置及びシール方法 FI分類-F16J 15/08 A, FI分類-F16J 15/08 G, FI分類-F16K 27/00 Z, FI分類-F16L 23/02 D
2017年11月07日 特許庁 / 特許	気化システム及び気化システム用プログラム FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/31 B
2017年10月02日 特許庁 / 特許	流体センサ、当該流体センサを備えた流体制御装置、及び、調整方法 FI分類-G01F 1/696 Z
2017年10月02日 特許庁 / 特許	流体制御弁、流体制御装置、及び駆動機構 FI分類-F16K 27/00 Z, FI分類-F16K 31/02 A, FI分類-F16K 37/00 D
2017年09月27日 特許庁 / 特許	流体制御弁用診断装置、流体制御装置、及び流体制御弁用診断プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 37/00 D
2017年09月22日 特許庁 / 特許	元素分析装置及び元素分析方法 FI分類-H01J 49/04, FI分類-H01J 49/42, FI分類-G01N 27/62 V
2017年08月25日 特許庁 / 特許	流量比率制御装置、流量比率制御装置用プログラム、及び、流量比率制御方法 FI分類-G01F 1/34 Z, FI分類-G05D 7/06 B, FI分類-G05D 11/13 A
2017年07月31日 特許庁 / 特許	流量制御装置、流量制御方法、及び、流量制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2017年07月26日 特許庁 / 特許	ガス制御システム及び該ガス制御システムを備えた成膜装置 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 B
2017年07月14日 特許庁 / 特許	流体測定装置、流体制御システム及び制御プログラム FI分類-G01F 1/708, FI分類-G01F 15/04, FI分類-G01N 21/17
2017年07月11日 特許庁 / 特許	流体制御装置、流体制御システム、流体制御方法、及び、流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-G05D 16/20 Z
2017年07月05日 特許庁 / 特許	流体制御装置、流体制御方法、及び、流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2017年04月11日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ用サンプラ及びクロマトグラフ用サンプラの操作方法 FI分類-G01N 30/20 C
2017年04月07日 特許庁 / 特許	弁要素、流体制御弁及び半導体製造装置 FI分類-F16K 1/36 Z, FI分類-F16K 1/42 Z, FI分類-F16K 31/02 A
2017年03月29日 特許庁 / 特許	圧力センサ FI分類-G01L 19/14
2017年03月28日 特許庁 / 特許	水素精製デバイス及び水素精製デバイスを使用した水素精製システム FI分類-B01D 53/22, FI分類-B01D 63/08, FI分類-C01B 3/56 Z, FI分類-B01D 63/00 500, FI分類-B01D 63/00 510, FI分類-B01D 71/02 500
2017年03月10日 特許庁 / 特許	ガス制御システム、該ガス制御システムを備えた成膜装置、該ガス制御システムに用いるプログラム及びガス制御方法。 FI分類-C23C 16/448, FI分類-C23C 16/455, FI分類-G05D 21/00 A, FI分類-H01L 21/31 F
2017年03月06日 特許庁 / 特許	流体制御装置及び流体制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-G05B 11/36 N
2017年02月20日 特許庁 / 特許	気化器及びこれを備える薄膜蒸着装置 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/31 B
2016年12月15日 特許庁 / 特許	流量制御装置、及び、流量制御装置用プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2016年12月14日 特許庁 / 特許	静電容量型センサ FI分類-G01L 9/12, FI分類-G01D 5/24 D, FI分類-G01L 9/00 E
2016年12月14日 特許庁 / 特許	流体特性測定システム FI分類-G05D 7/06, FI分類-G01N 7/00 C, FI分類-G05D 16/20 Z
2016年12月13日 特許庁 / 特許	バルブ装置及びバルブ制御装置 FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 37/00 H, FI分類-F16K 31/06 310 Z, FI分類-F16K 31/06 320 A
2016年12月13日 特許庁 / 特許	流量算出システム及び流量算出方法 FI分類-G01F 1/00 B, FI分類-G01F 25/00 D, FI分類-G01F 25/00 M
2016年11月25日 特許庁 / 特許	流路形成構造、流量測定装置及び流量制御装置 FI分類-G01F 1/68, FI分類-G01F 1/00 S, FI分類-G01F 1/42 Z
2016年11月17日 特許庁 / 特許	圧力式流量計 FI分類-G01F 1/48, FI分類-G01F 1/42 Z, FI分類-G01L 13/00 Z, FI分類-G01L 13/06 C
2016年08月18日 特許庁 / 特許	Cp2Mg濃度測定装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-G01N 21/3504
2016年05月31日 特許庁 / 特許	流量制御装置、流量制御装置に用いられるプログラム、及び、流量制御方法 FI分類-G05D 7/06 Z
2016年04月25日 特許庁 / 特許	マイクロポジションギャップセンサ組立体 FI分類-G01B 21/16, FI分類-F16K 37/00 D
2015年12月21日 特許庁 / 特許	流体加熱器 FI分類-F24H 1/14 A
2015年12月21日 特許庁 / 特許	気化システム FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205
2015年12月15日 特許庁 / 特許	ガス流量監視方法及びガス流量監視装置 FI分類-F17D 3/00, FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年12月15日 特許庁 / 特許	流量センサの補正装置、流量測定システム、流量制御装置、補正装置用プログラム、及び、補正方法 FI分類-G01F 1/00 W
2015年12月11日 特許庁 / 特許	液体材料気化装置 FI分類-B01D 1/14 Z, FI分類-B01F 3/04 Z, FI分類-B01F 5/00 D, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205
2015年12月11日 特許庁 / 特許	四重極型質量分析計及び残留ガス分析方法 FI分類-H01J 49/42
2015年12月04日 特許庁 / 特許	熱式流量センサ FI分類-G01F 1/69 A, FI分類-G01F 1/69 B
2015年10月29日 特許庁 / 特許	自己組織化用高分子材料、自己組織化膜、自己組織化膜の製造方法及び凹凸パターン FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 297/02, FI分類-C08J 7/00 307, FI分類-C08J 7/00 CET
2015年10月08日 特許庁 / 特許	流体制御弁及びその制御プログラム FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 37/00 D
2015年06月30日 特許庁 / 特許	流量測定装置 FI分類-G01F 1/00 X, FI分類-G01F 1/00 Y
2015年06月12日 特許庁 / 特許	流体および蒸気用高コンダクタンスバルブ FI分類-F16K 27/02, FI分類-F16K 1/42 G
2015年04月28日 特許庁 / 特許	流体制御・測定システムの電力供給装置 FI分類-H02J 13/00 311 A
2015年04月16日 特許庁 / 特許	中継器 FI分類-G01F 1/00 Y, FI分類-G01F 3/22 D, FI分類-G05D 7/06 Z
2015年03月13日 特許庁 / 特許	液体材料気化装置、液体材料気化システム FI分類-C23C 16/448
2014年12月09日 特許庁 / 特許	クロマトグラフ用データ処理装置、クロマトグラフ用データ処理方法、及び、クロマトグラフ用データ処理装置用プログラム FI分類-G01N 30/54 A, FI分類-G01N 30/86 F, FI分類-G01N 30/86 G
2014年12月04日 特許庁 / 特許	ガスクロマトグラフ及びそのバリデーション方法 FI分類-G01N 30/68 Z, FI分類-G01N 30/72 A, FI分類-G01N 30/84 E, FI分類-G01N 30/86 J, FI分類-G01N 30/86 P, FI分類-G01N 30/88 C, FI分類-G01N 30/88 M
2014年12月04日 特許庁 / 特許	ガスクロマトグラフ FI分類-G01N 30/26 E, FI分類-G01N 30/32 A
2014年12月02日 特許庁 / 特許	静電容量型センサ FI分類-G01L 9/12, FI分類-G01L 9/00 305 T
2014年12月02日 特許庁 / 特許	分解検出装置、分解検出方法、分解検出装置用プログラム、濃度測定装置、及び、濃度制御装置 FI分類-C23C 16/52, FI分類-G01N 21/61, FI分類-H01L 21/205
2014年11月25日 特許庁 / 特許	静電容量型圧力センサ FI分類-G01L 9/12
2014年10月15日 特許庁 / 特許	流体制御弁 FI分類-G05D 7/00 Z
2014年09月08日 特許庁 / 特許	熱式流量計、温度測定装置、及び、熱式流量計用プログラム FI分類-G01F 1/684 A, FI分類-G01F 1/696 Z
2014年09月04日 特許庁 / 特許	インターレース昇降機構 FI分類-H02N 2/02, FI分類-H01L 41/09, FI分類-H01L 41/053, FI分類-H01L 41/083, FI分類-F16K 31/02 A
2014年08月28日 特許庁 / 特許	流量制御装置及び流量制御プログラム FI分類-G05D 7/06 Z
2014年08月22日 特許庁 / 特許	流体分析装置、熱式流量計、マスフローコントローラ、流体性質特定装置、及び、流体分析装置用プログラム FI分類-G01F 1/69, FI分類-G01F 1/696 Z
2014年08月01日 特許庁 / 特許	流量制御装置、流量制御装置用プログラム、及び、流量制御方法 FI分類-G05D 7/06 Z
2014年06月12日 特許庁 / 特許	ガス分析計 FI分類-H01J 49/10, FI分類-H01J 49/42, FI分類-G01N 27/62 G
2014年02月24日 特許庁 / 特許	流量制御装置及び流量制御装置用プログラム FI分類-G05B 11/42, FI分類-G05D 7/06 B, FI分類-G05B 11/36 N, FI分類-G05B 13/02 B
2014年02月07日 特許庁 / 特許	流量測定装置および流量測定方法 FI分類-G01F 1/00 H

株式会社堀場エステックの商標情報(11件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年04月06日 特許庁 / 商標	§OSS 07類, 09類
2020年10月02日 特許庁 / 商標	VFM 07類, 09類
2018年12月21日 特許庁 / 商標	MuCube 07類, 09類
2018年07月04日 特許庁 / 商標	AFS 07類, 09類
2017年11月08日 特許庁 / 商標	VCC 07類, 09類
2017年09月12日 特許庁 / 商標	FuPS 07類, 09類, 37類
2017年09月12日 特許庁 / 商標	SRoGS 07類, 09類, 37類
2017年09月12日 特許庁 / 商標	VAPO 07類, 09類
2017年04月27日 特許庁 / 商標	G-LIFE 07類, 09類, 37類
2016年12月21日 特許庁 / 商標	SEC 07類, 37類
2016年12月21日 特許庁 / 商標	SEF 07類, 37類

株式会社堀場エステックの職場情報

項目	データ
事業概要	流体計測・制御機器、真空計測・分析機器、液体材料気化装置、標準ガス発生装置、ガス発生・精製装置、精密混合装置及びその応用製品の開発、製造、販売
企業規模	735人 男性 542人 / 女性 184人
管理職全体人数	66人 男性 62人 / 女性 4人

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