法人番号:3500001009284
住重アテックス株式会社
情報更新日:2024年08月31日
住重アテックス株式会社とは
住重アテックス株式会社(スミジュウアテックス)は、法人番号:3500001009284で愛媛県西条市今在家1501番地に所在する法人として松山地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役権田勲。設立日は1979年10月12日。従業員数は183人。登録情報として、届出情報が1件、特許情報が19件、職場情報が1件が登録されています。なお、2017年04月03日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2021年04月21日です。
インボイス番号:T3500001009284については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は愛媛労働局。新居浜労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
住重アテックス株式会社の基本情報
項目 | 内容 |
---|---|
商号又は名称 | 住重アテックス株式会社 |
商号又は名称(読み仮名)フリガナ | スミジュウアテックス |
法人番号 | 3500001009284 |
会社法人等番号 | 5000-01-009284 |
登記所 | 松山地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T3500001009284 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
法人種別 | 株式会社 |
郵便番号 | 〒799-1362 ※地方自治体コードは 38206 |
国内所在地(都道府県)都道府県 | 愛媛県 ※愛媛県の法人数は 52,385件 |
国内所在地(市区町村)市区町村 | 西条市 ※西条市の法人数は 3,781件 |
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 | 今在家1501番地 |
国内所在地(1行表示)1行表示 | 愛媛県西条市今在家1501番地 |
国内所在地(読み仮名)読み仮名 | エヒメケンサイジョウシイマザイケ |
代表者 | 代表取締役 権田 勲 |
設立日 | 1979年10月12日 |
従業員数 | 183人 |
ホームページHP | https://www.shi-atex.com/ |
更新年月日更新日 | 2021年04月21日 |
変更年月日変更日 | 2017年04月03日 |
法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
管轄の労働局労働局 | 愛媛労働局 〒790-8538 愛媛県松山市若草町4番地3松山若草合同庁舎5F(基準・安定)・6F(総務・均等) |
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 新居浜労働基準監督署 〒792-0025 愛媛県新居浜市一宮町1-5-3 |
住重アテックス株式会社の場所
住重アテックス株式会社の登録履歴
日付 | 内容 |
---|---|
2017年04月03日 | 【吸収合併】 平成29年4月1日東京都品川区大崎一丁目17番6号日本電子照射サービス株式会社(1010701014734)を合併 |
2017年04月03日 | 【名称変更】 名称が「住重アテックス株式会社」に変更されました。 |
2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「住重試験検査株式会社」で、「愛媛県西条市今在家1501番地」に新規登録されました。 |
住重アテックス株式会社の関連情報
項目 | 内容 |
---|---|
情報名 | 住重アテックス株式会社 |
情報名 読み | スミジュウアテックス |
住所 | 愛媛県西条市今在家1501 |
電話番号 | 0898-65-4868 |
住重アテックス株式会社の法人活動情報
住重アテックス株式会社の届出情報(1件)
日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
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- | 代表者:代表取締役 権田 勲 全省庁統一資格 / - |
住重アテックス株式会社の特許情報(19件)
日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
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2020年01月28日 特許庁 / 特許 | 管理システムおよび管理方法 FI分類-G08B 21/24, FI分類-A61G 12/00 B, FI分類-G21C 17/00 500 |
2020年01月20日 特許庁 / 特許 | 中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法 FI分類-G01T 3/00 G, FI分類-G01T 3/00 Z, FI分類-G21K 4/00 L |
2019年11月11日 特許庁 / 特許 | マスクホルダ、固定装置、イオン照射方法 FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C |
2018年09月06日 特許庁 / 特許 | 半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 27/06 102 A |
2018年08月06日 特許庁 / 特許 | 中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法 FI分類-G01T 1/00 B, FI分類-G01T 1/36 D, FI分類-G01T 3/00 G |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 計測方法 FI分類-G01B 11/06 H |
2017年10月24日 特許庁 / 特許 | 固定装置およびイオン照射方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年10月24日 特許庁 / 特許 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q |
2017年08月22日 特許庁 / 特許 | 半導体装置の製造方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 M |
2016年12月07日 特許庁 / 特許 | 固定装置およびイオン照射方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 U, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D |
2016年11月24日 特許庁 / 特許 | 渦流探傷検査のための高所測定治具、渦流探傷検査装置、および渦流探傷検査方法 FI分類-G01N 27/90 |
2016年01月05日 特許庁 / 特許 | 水素プラズマ処理装置および水素プラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/265 F |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/76 J, FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 27/04 H, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 V, FI分類-H01L 27/08 321 B, FI分類-H01L 27/08 331 B, FI分類-H01L 27/08 331 D |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | 容器内検査方法および容器内検査システム FI分類-G01B 11/06 Z, FI分類-G01B 11/24 A, FI分類-G01B 11/24 B |
2015年08月21日 特許庁 / 特許 | 半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 摩耗検出方法及び摩耗検出装置 FI分類-G01B 15/00 A, FI分類-G01N 23/225 322 |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | イオン照射方法およびイオン照射に用いる固定装置 FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/322 J, FI分類-H01L 21/265 603 Z |
住重アテックス株式会社の職場情報
項目 | データ |
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事業概要 | 各種非破壊検査、加速器利用の技術サービス、放射線利用技術のコンサルティング等 |
企業規模 | 183人 |
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