住重アテックス株式会社

住重アテックス株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

住重アテックス株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	住重アテックス株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	スミジュウアテックス
法人番号	3500001009284
会社法人等番号	5000-01-009284
登記所	松山地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T3500001009284 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒799-1362 ※地方自治体コードは 38206
国内所在地（都道府県）都道府県	愛媛県 ※愛媛県の法人数は 52,385件
国内所在地（市区町村）市区町村	西条市 ※西条市の法人数は 3,781件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	今在家1501番地
国内所在地（1行表示）1行表示	愛媛県西条市今在家1501番地
国内所在地（読み仮名）読み仮名	エヒメケンサイジョウシイマザイケ
代表者	代表取締役 権田 勲
設立日	1979年10月12日
従業員数	183人
ホームページHP	https://www.shi-atex.com/
更新年月日更新日	2021年04月21日
変更年月日変更日	2017年04月03日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	愛媛労働局 〒790-8538 愛媛県松山市若草町4番地3松山若草合同庁舎5F(基準・安定)・6F(総務・均等)
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	新居浜労働基準監督署 〒792-0025 愛媛県新居浜市一宮町1-5-3

住重アテックス株式会社の場所

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住重アテックス株式会社の登録履歴

日付	内容
2017年04月03日	【吸収合併】 平成29年4月1日東京都品川区大崎一丁目17番6号日本電子照射サービス株式会社(1010701014734)を合併
2017年04月03日	【名称変更】 名称が「住重アテックス株式会社」に変更されました。
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「住重試験検査株式会社」で、「愛媛県西条市今在家1501番地」に新規登録されました。

住重アテックス株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	住重アテックス株式会社
情報名 読み	スミジュウアテックス
住所	愛媛県西条市今在家1501
電話番号	0898-65-4868

住重アテックス株式会社の法人活動情報

住重アテックス株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 権田 勲 全省庁統一資格 / -

住重アテックス株式会社の特許情報(19件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年01月28日 特許庁 / 特許	管理システムおよび管理方法 FI分類-G08B 21/24, FI分類-A61G 12/00 B, FI分類-G21C 17/00 500
2020年01月20日 特許庁 / 特許	中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法 FI分類-G01T 3/00 G, FI分類-G01T 3/00 Z, FI分類-G21K 4/00 L
2019年11月11日 特許庁 / 特許	マスクホルダ、固定装置、イオン照射方法 FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D
2018年12月26日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C
2018年12月26日 特許庁 / 特許	半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C
2018年09月06日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 27/06 102 A
2018年08月06日 特許庁 / 特許	中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法 FI分類-G01T 1/00 B, FI分類-G01T 1/36 D, FI分類-G01T 3/00 G
2018年06月29日 特許庁 / 特許	計測方法 FI分類-G01B 11/06 H
2017年10月24日 特許庁 / 特許	固定装置およびイオン照射方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 521
2017年10月24日 特許庁 / 特許	半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q
2017年08月22日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 M
2016年12月07日 特許庁 / 特許	固定装置およびイオン照射方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 U, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D
2016年11月24日 特許庁 / 特許	渦流探傷検査のための高所測定治具、渦流探傷検査装置、および渦流探傷検査方法 FI分類-G01N 27/90
2016年01月05日 特許庁 / 特許	水素プラズマ処理装置および水素プラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/265 F
2015年12月24日 特許庁 / 特許	半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/76 J, FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 27/04 H, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 V, FI分類-H01L 27/08 321 B, FI分類-H01L 27/08 331 B, FI分類-H01L 27/08 331 D
2015年08月28日 特許庁 / 特許	容器内検査方法および容器内検査システム FI分類-G01B 11/06 Z, FI分類-G01B 11/24 A, FI分類-G01B 11/24 B
2015年08月21日 特許庁 / 特許	半導体装置および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/04 L
2015年01月07日 特許庁 / 特許	摩耗検出方法及び摩耗検出装置 FI分類-G01B 15/00 A, FI分類-G01N 23/225 322
2014年03月27日 特許庁 / 特許	イオン照射方法およびイオン照射に用いる固定装置 FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/322 J, FI分類-H01L 21/265 603 Z

住重アテックス株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	各種非破壊検査、加速器利用の技術サービス、放射線利用技術のコンサルティング等
企業規模	183人

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