住重アテックス株式会社とは

住重アテックス株式会社(スミジュウアテックス)は、法人番号:3500001009284で愛媛県西条市今在家1501番地に所在する法人として松山地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役権田勲。設立日は1979年10月12日。従業員数は183人。登録情報として、届出情報が1件特許情報が19件職場情報が1件が登録されています。なお、2017年04月03日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2021年04月21日です。
インボイス番号:T3500001009284については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は愛媛労働局。新居浜労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

住重アテックス株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 住重アテックス株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ スミジュウアテックス
法人番号 3500001009284
会社法人等番号 5000-01-009284
登記所 松山地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T3500001009284
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒799-1362
※地方自治体コードは 38206
国内所在地(都道府県)都道府県 愛媛県
※愛媛県の法人数は 52,385件
国内所在地(市区町村)市区町村 西条市
※西条市の法人数は 3,781件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 今在家1501番地
国内所在地(1行表示)1行表示 愛媛県西条市今在家1501番地
国内所在地(読み仮名)読み仮名 エヒメケンサイジョウシイマザイケ
代表者 代表取締役 権田 勲
設立日 1979年10月12日
従業員数 183人
ホームページHP https://www.shi-atex.com/
更新年月日更新日 2021年04月21日
変更年月日変更日 2017年04月03日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 愛媛労働局
〒790-8538 愛媛県松山市若草町4番地3松山若草合同庁舎5F(基準・安定)・6F(総務・均等)
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 新居浜労働基準監督署
〒792-0025 愛媛県新居浜市一宮町1-5-3

住重アテックス株式会社の場所

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住重アテックス株式会社の登録履歴

日付 内容
2017年04月03日
【吸収合併】
平成29年4月1日東京都品川区大崎一丁目17番6号日本電子照射サービス株式会社(1010701014734)を合併
2017年04月03日
【名称変更】
名称が「住重アテックス株式会社」に変更されました。
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「住重試験検査株式会社」で、「愛媛県西条市今在家1501番地」に新規登録されました。

住重アテックス株式会社の関連情報

項目内容
情報名住重アテックス株式会社
情報名 読みスミジュウアテックス
住所愛媛県西条市今在家1501
電話番号0898-65-4868

住重アテックス株式会社の法人活動情報

住重アテックス株式会社の届出情報(1件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
-
代表者:代表取締役 権田 勲
全省庁統一資格 / -

住重アテックス株式会社の特許情報(19件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2020年01月28日
特許庁 / 特許
管理システムおよび管理方法
FI分類-G08B 21/24, FI分類-A61G 12/00 B, FI分類-G21C 17/00 500
2020年01月20日
特許庁 / 特許
中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法
FI分類-G01T 3/00 G, FI分類-G01T 3/00 Z, FI分類-G21K 4/00 L
2019年11月11日
特許庁 / 特許
マスクホルダ、固定装置、イオン照射方法
FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D
2018年12月26日
特許庁 / 特許
半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C
2018年12月26日
特許庁 / 特許
半導体装置および半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 21/265 602 A, FI分類-H01L 27/088 331 C
2018年09月06日
特許庁 / 特許
半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 27/04 L, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 27/06 102 A
2018年08月06日
特許庁 / 特許
中性子スペクトル測定装置および中性子スペクトル測定方法
FI分類-G01T 1/00 B, FI分類-G01T 1/36 D, FI分類-G01T 3/00 G
2018年06月29日
特許庁 / 特許
計測方法
FI分類-G01B 11/06 H
2017年10月24日
特許庁 / 特許
固定装置およびイオン照射方法
FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 521
2017年10月24日
特許庁 / 特許
半導体装置および半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 Q
2017年08月22日
特許庁 / 特許
半導体装置の製造方法
FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/265 M
2016年12月07日
特許庁 / 特許
固定装置およびイオン照射方法
FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 U, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 603 D
2016年11月24日
特許庁 / 特許
渦流探傷検査のための高所測定治具、渦流探傷検査装置、および渦流探傷検査方法
FI分類-G01N 27/90
2016年01月05日
特許庁 / 特許
水素プラズマ処理装置および水素プラズマ処理方法
FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/265 F
2015年12月24日
特許庁 / 特許
半導体装置および半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 21/76 J, FI分類-H01L 21/76 R, FI分類-H01L 27/04 H, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 J, FI分類-H01L 21/265 V, FI分類-H01L 27/08 321 B, FI分類-H01L 27/08 331 B, FI分類-H01L 27/08 331 D
2015年08月28日
特許庁 / 特許
容器内検査方法および容器内検査システム
FI分類-G01B 11/06 Z, FI分類-G01B 11/24 A, FI分類-G01B 11/24 B
2015年08月21日
特許庁 / 特許
半導体装置および半導体装置の製造方法
FI分類-H01L 27/04 L
2015年01月07日
特許庁 / 特許
摩耗検出方法及び摩耗検出装置
FI分類-G01B 15/00 A, FI分類-G01N 23/225 322
2014年03月27日
特許庁 / 特許
イオン照射方法およびイオン照射に用いる固定装置
FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/322 J, FI分類-H01L 21/265 603 Z

住重アテックス株式会社の職場情報

項目 データ
事業概要
各種非破壊検査、加速器利用の技術サービス、放射線利用技術のコンサルティング等
企業規模
183人

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