法人番号:4010401034501
株式会社アドテックエンジニアリング
情報更新日:2024年08月31日
株式会社アドテックエンジニアリングとは
株式会社アドテックエンジニアリング（アドテックエンジニアリング）は、法人番号:4010401034501で東京都港区虎ノ門2丁目3番17号に所在する法人として東京法務局港出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役水野修。設立日は1977年08月11日。従業員数は352人。登録情報として、届出情報が1件、特許情報が33件、職場情報が1件が登録されています。なお、2020年09月03日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2020年09月08日です。
インボイス番号:T4010401034501については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。三田労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
株式会社アドテックエンジニアリングの基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 株式会社アドテックエンジニアリング |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | アドテックエンジニアリング |
| 法人番号 | 4010401034501 |
| 会社法人等番号 | 0104-01-034501 |
| 登記所 | 東京法務局港出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T4010401034501 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒105-0001 ※地方自治体コードは 13103 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,319,965件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 港区 ※港区の法人数は 155,378件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 虎ノ門2丁目3番17号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都港区虎ノ門2丁目3番17号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトミナトクトラノモン2チョウメ |
| 代表者 | 代表取締役 水野 修 |
| 設立日 | 1977年08月11日 |
| 従業員数 | 352人 |
| ホームページHP | http://www.adtec.com |
| 更新年月日更新日 | 2020年09月08日 |
| 変更年月日変更日 | 2020年09月03日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 三田労働基準監督署 〒108-0014 東京都港区芝5-35-2安全衛生総合会館3階 |
株式会社アドテックエンジニアリングの場所
株式会社アドテックエンジニアリングの補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | カブシキガイシャ アドテックエンジニアリング |
| 企業名 英語 | ADTEC Engineering Co.,Ltd. |
| 上場・非上場 | 非上場 |
| 資本金 | 16億6,100万円 |
| 業種 | 機械 |
株式会社アドテックエンジニアリングの登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2020年09月03日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都港区虎ノ門2丁目3番17号」に変更されました。 |
| 2016年04月07日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都千代田区丸の内1丁目6番5号」に変更されました。 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「株式会社アドテックエンジニアリング」で、「東京都港区虎ノ門3丁目5番1号」に新規登録されました。 |
株式会社アドテックエンジニアリングの法人活動情報
株式会社アドテックエンジニアリングの届出情報(1件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
- | 代表者:代表取締役 水野 修 全省庁統一資格 / - |
株式会社アドテックエンジニアリングの特許情報(33件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年04月10日 特許庁 / 特許 | 真直度測定用基準光発生器、真直度測定用基準提供方法及び真直度測定装置 FI分類-G01B 11/30 101 |
2019年05月09日 特許庁 / 特許 | 直描式露光装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 505 |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 直描式露光装置 FI分類-G03F 9/02 Z, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-G02B 19/00, FI分類-G03F 7/20 505 |
2017年12月05日 特許庁 / 特許 | マスクユニット及び露光装置 FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年12月05日 特許庁 / 特許 | 露光装置におけるフィルムマスク交換方法 FI分類-G03F 7/22 Z, FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年12月05日 特許庁 / 特許 | マスクメンテナンスプログラム FI分類-G03F 7/22 Z, FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置 FI分類-G03F 9/00 A, FI分類-H05K 3/00 E, FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 H |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | マスク対及び両面露光装置 FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 9/00 A, FI分類-H05K 3/00 H |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 露光方法 FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置及び両面露光方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置及び両面露光方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置及び両面露光方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H05K 1/03 670 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置及び両面露光方法 FI分類-G03F 9/00 A |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 両面露光装置 FI分類-G03F 9/00 A |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 505 |
2017年09月26日 特許庁 / 特許 | 露光装置及び露光方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年03月26日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-B08B 1/04, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年03月26日 特許庁 / 特許 | 露光装置、露光装置の動作方法及び基板貼り付き防止フィルム FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年03月26日 特許庁 / 特許 | 露光方法 FI分類-B08B 1/04, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板取り扱い装置及び基板取り扱い方法 FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年11月22日 特許庁 / 特許 | 基板取り扱い装置及び基板取り扱い方法 FI分類-H01L 21/68 A |
2016年11月14日 特許庁 / 特許 | ダイレクトイメージング露光装置及びダイレクトイメージング露光方法 FI分類-G03F 7/20 505 |
2016年11月14日 特許庁 / 特許 | ダイレクトイメージング露光装置及びダイレクトイメージング露光方法 FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | ワークステージ及び露光装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | ワーク吸着保持方法、ワークステージ及び露光装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年05月26日 特許庁 / 特許 | パターン描画装置及びパターン描画方法 FI分類-G03F 9/00 A, FI分類-G01B 11/00 H |
2016年03月01日 特許庁 / 特許 | プリント基板用露光装置 FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年02月02日 特許庁 / 特許 | ロールツーロール両面露光装置 FI分類-B08B 1/00, FI分類-B08B 6/00, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年02月02日 特許庁 / 特許 | ロールツーロール両面露光装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 11/00 A, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年01月29日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年01月29日 特許庁 / 特許 | 露光方法 FI分類-G03F 9/00 A |
株式会社アドテックエンジニアリングの職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | ・プリント基板用露光装置及び関連装置
・検査装置
・自動化装置
・精密金型
以上の設計、製造ならびに販売サービス
・粉末成形プレス機及び関連装置の輸入販売サービス |
企業規模 | 352人 男性 303人 / 女性 49人 |
平均勤続年数 範囲 正社員 | 男性 10.8年 / 女性 8.1年 |
管理職全体人数 | 62人 男性 60人 / 女性 2人 |
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