ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

ギガフォトン株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	ギガフォトン株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ギガフォトン
法人番号	4060001023420
会社法人等番号	0600-01-023420
登記所	宇都宮地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T4060001023420 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒323-0819 ※地方自治体コードは 09208
国内所在地（都道府県）都道府県	栃木県 ※栃木県の法人数は 74,962件
国内所在地（市区町村）市区町村	小山市 ※小山市の法人数は 6,013件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	大字横倉新田400番地
国内所在地（1行表示）1行表示	栃木県小山市大字横倉新田400番地
国内所在地（読み仮名）読み仮名	トチギケンオヤマシヨコクラシンデン（オオアザ）
英語表記	GIGAPHOTON INC.
国内所在地（英語表示）英語表示	400 Yokokurashinden, Oyama shi, Tochigi
代表者	代表取締役社長 榎波 龍雄
従業員数	880人
ホームページHP	http://www.gigaphoton.com/
更新年月日更新日	2022年10月31日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	栃木労働局 〒320-0845 栃木県宇都宮市明保野町1番4号 宇都宮第2地方合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	栃木労働基準監督署 〒328-0042 栃木県栃木市沼和田町20-24

ギガフォトン株式会社の場所

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ギガフォトン株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「ギガフォトン株式会社」で、「栃木県小山市大字横倉新田400番地」に新規登録されました。

ギガフォトン株式会社の法人活動情報

ギガフォトン株式会社の調達情報(1件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2022年01月25日 経済産業省	令和3年度重要技術管理体制強化事業(我が国における極微細加工を用いたエッジ半導体製造に係るサプライチェーン体制構築可能性調査の調査) 28,980,787円

ギガフォトン株式会社の表彰情報(5件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「プラチナくるみん」特例認定 2020
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2017
2017年12月05日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2017年
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

ギガフォトン株式会社の特許情報(209件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年07月30日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2020年07月20日 特許庁 / 特許	訓練データ作成方法、機械学習方法、消耗品管理装置及びコンピュータ可読媒体 FI分類-H01S 3/00 G
2020年06月29日 特許庁 / 特許	極端紫外光集光ミラー及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-G21K 1/06 B, FI分類-G21K 1/06 C, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2020年06月26日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2020年05月27日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/10
2020年05月11日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置、ターゲット制御方法、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2020年03月27日 特許庁 / 特許	センサ劣化判定方法 FI分類-G01J 3/26, FI分類-G01J 3/02 Z
2020年03月26日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/10, FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 A
2020年03月19日 特許庁 / 特許	露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521
2020年03月19日 特許庁 / 特許	露光システム及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G03F 7/20 505
2020年03月19日 特許庁 / 特許	露光システム、レーザ制御パラメータの作成方法、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2020年03月18日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2020年03月16日 特許庁 / 特許	チャンバ装置、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2020年03月16日 特許庁 / 特許	光伝送ユニット、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/13, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521
2020年02月12日 特許庁 / 特許	情報処理装置、情報処理方法、及び半導体製造システム FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2019年11月18日 特許庁 / 特許	ビームデリバリシステム、焦点距離選定方法及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02B 7/185, FI分類-G02B 5/10 B, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年10月10日 特許庁 / 特許	極端紫外光集光ミラー、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02B 5/10, FI分類-G02B 5/10 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G02B 17/00 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年10月04日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及びレーザ装置のリークチェック方法 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/00 G
2019年10月03日 特許庁 / 特許	光学装置 FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年09月13日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37
2019年09月13日 特許庁 / 特許	波長変換装置、固体レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37
2019年09月11日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/00, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/097 A, FI分類-G03F 7/20 505
2019年09月05日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2019年08月30日 特許庁 / 特許	レーザ装置、レーザ加工システム及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-B23K 26/36, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D
2019年07月25日 特許庁 / 特許	EUVチャンバ装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年07月23日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年07月03日 特許庁 / 特許	レーザチャンバ及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/034, FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/041, FI分類-F04D 17/04 C, FI分類-F04D 17/04 D, FI分類-F04D 29/66 N
2019年06月13日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム、レーザビームサイズ制御方法及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年06月11日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z
2019年05月31日 特許庁 / 特許	レーザアニール装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/268 F, FI分類-H01L 21/268 J, FI分類-H01L 21/268 T
2019年04月01日 特許庁 / 特許	EUVチャンバ装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年03月26日 特許庁 / 特許	高電圧パルス発生装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/097
2019年03月08日 特許庁 / 特許	スズトラップ装置、極端紫外光生成装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01J 65/04 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2019年03月07日 特許庁 / 特許	レーザアニールシステム FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/268 F, FI分類-H01L 21/268 G, FI分類-H01L 21/268 T, FI分類-H01L 29/78 627 G
2019年02月26日 特許庁 / 特許	レーザ用チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/038 Z
2019年02月26日 特許庁 / 特許	狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/137
2019年02月20日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置、ガスレーザ装置のレーザ光の出射方法、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/00 A
2019年02月07日 特許庁 / 特許	機械学習方法、消耗品管理装置、及びコンピュータ可読媒体 FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/00 G
2019年01月29日 特許庁 / 特許	レーザ装置の波長制御方法及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/137
2019年01月23日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及び被加工物の加工方法 FI分類-B23K 26/073, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05K 3/00 N
2019年01月23日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2018年12月13日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置及び被加工物の加工方法 FI分類-B23K 26/073, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/10 Z
2018年11月26日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2018年11月15日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2018年11月08日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 5/12, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 5/022, FI分類-H01S 5/042, FI分類-H01S 5/062, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 5/0683, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521
2018年10月23日 特許庁 / 特許	レーザシステム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/10 Z
2018年10月22日 特許庁 / 特許	レーザガス再生装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/225
2018年08月08日 特許庁 / 特許	リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体 FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 562
2018年07月05日 特許庁 / 特許	エネルギ計測装置及びエキシマレーザ装置 FI分類-H01S 3/225, FI分類-G01J 1/02 K, FI分類-H01S 3/00 G
2018年06月27日 特許庁 / 特許	レーザ加工装置、レーザ加工システム、及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/142
2018年06月11日 特許庁 / 特許	ターゲット撮影装置及び極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2018年05月28日 特許庁 / 特許	光パルスストレッチャー、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/10 Z
2018年03月28日 特許庁 / 特許	波長変換システム FI分類-G02F 1/37
2018年03月26日 特許庁 / 特許	レーザガス管理システム、電子デバイスの製造方法及びエキシマレーザシステムの制御方法 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 505
2018年03月13日 特許庁 / 特許	架台、極端紫外光生成システム、及びデバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2018年02月21日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2018年02月20日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置、電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2018年01月26日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 1/02 P, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2018年01月24日 特許庁 / 特許	レーザ加工方法及びレーザ加工システム FI分類-B23K 26/50, FI分類-B23K 26/046, FI分類-B23K 26/066, FI分類-B23K 26/382, FI分類-B23K 26/00 N, FI分類-B23K 26/00 Q, FI分類-B23K 26/02 Z, FI分類-B23K 26/064 A
2017年12月21日 特許庁 / 特許	レーザ照射方法、及びレーザ照射システム FI分類-H01L 21/22 E, FI分類-H01L 21/268 G, FI分類-H01L 21/268 J, FI分類-H01L 21/268 T
2017年12月21日 特許庁 / 特許	レーザ照射システム FI分類-H01L 21/22 E, FI分類-H01L 21/268 J
2017年12月07日 特許庁 / 特許	レーザ照射システム、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521
2017年12月07日 特許庁 / 特許	光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/137, FI分類-G02B 7/02 C, FI分類-G02B 7/04 D, FI分類-G02B 7/04 E, FI分類-H01S 3/00 A
2017年12月05日 特許庁 / 特許	エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G
2017年11月27日 特許庁 / 特許	エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G
2017年11月21日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年11月16日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-G03F 7/20 503
2017年10月06日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及びターゲット供給装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年10月04日 特許庁 / 特許	レーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-C03B 33/09, FI分類-B23K 26/046
2017年09月19日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成装置の制御方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年08月29日 特許庁 / 特許	データ解析装置、半導体製造システム、データ解析方法、及び半導体製造方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521
2017年08月22日 特許庁 / 特許	波長変換装置 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/10 Z
2017年08月14日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及びメンテナンス方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2017年08月07日 特許庁 / 特許	コンデンサの冷却構造及びレーザ装置 FI分類-H01S 3/041
2017年07月06日 特許庁 / 特許	レーザシステム、極端紫外光生成装置、及び極端紫外光生成方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年06月12日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及びレーザ装置管理システム、並びにレーザ装置の管理方法 FI分類-H01S 3/131, FI分類-H01S 3/134
2017年06月12日 特許庁 / 特許	極端紫外光センサユニット FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年06月05日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及びEUV光生成システム FI分類-H01S 3/101, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年05月31日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05H 1/24, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2017年05月15日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年05月01日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置、及びターゲット供給方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年04月26日 特許庁 / 特許	狭帯域化モジュール FI分類-H01S 3/02, FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/137
2017年04月18日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置及び磁気軸受制御方法 FI分類-H01S 3/036, FI分類-F16D 7/02 C, FI分類-F16C 32/04 A
2017年03月31日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2017年03月27日 特許庁 / 特許	EUV光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年03月22日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び極端紫外光の重心位置の制御方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年03月16日 特許庁 / 特許	固体レーザ装置、固体レーザシステム、及び露光装置用レーザ装置 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/131, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521
2017年03月16日 特許庁 / 特許	パルスレーザ光の生成方法 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/067, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2017年03月09日 特許庁 / 特許	ドロップレット吐出装置及び計算方法 FI分類-B41J 2/025, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G03F 7/20 503
2017年03月02日 特許庁 / 特許	固体レーザシステム、及び波長変換システム FI分類-G02F 1/37
2017年02月17日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2017年02月17日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年02月17日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年01月30日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2017年01月26日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/10
2017年01月17日 特許庁 / 特許	レーザ加工システム及びレーザ加工方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-B23K 26/00 P, FI分類-H01L 21/78 B
2017年01月12日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年12月28日 特許庁 / 特許	ターゲット撮影装置及び極端紫外光生成装置 FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年12月08日 特許庁 / 特許	レーザ装置及びレーザ加工システム FI分類-H01S 3/10, FI分類-H01S 5/022, FI分類-H01S 3/00 B
2016年12月05日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/102, FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/225
2016年11月29日 特許庁 / 特許	レーザ加工システム FI分類-B23K 26/12, FI分類-H01S 3/106, FI分類-H01S 3/225, FI分類-B23K 26/142, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/10 Z
2016年11月11日 特許庁 / 特許	レーザ装置および極端紫外光生成装置 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z
2016年11月08日 特許庁 / 特許	エキシマレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2016年11月01日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年10月27日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年09月30日 特許庁 / 特許	チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年09月23日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及び極端紫外光生成システム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/101, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年09月08日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/036
2016年09月06日 特許庁 / 特許	レーザ装置およびレーザアニール装置 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/268 J
2016年09月02日 特許庁 / 特許	ターゲット生成装置及び極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年08月31日 特許庁 / 特許	ドロップレット回収装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年08月04日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置及び極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年07月26日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2016年07月22日 特許庁 / 特許	狭帯域化KrFエキシマレーザ装置 FI分類-H01S 3/139, FI分類-H01S 3/00 G
2016年05月19日 特許庁 / 特許	波長検出装置 FI分類-G01J 3/26, FI分類-G01J 9/02, FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/00 G
2016年05月09日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/102, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2016年04月28日 特許庁 / 特許	タンク、ターゲット生成装置、及び、極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年04月27日 特許庁 / 特許	極端紫外光センサユニット及び極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年04月22日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/1055
2016年04月21日 特許庁 / 特許	レーザ装置、及び計測装置 FI分類-H01S 5/06, FI分類-H01S 3/223, FI分類-H01S 5/042, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年04月13日 特許庁 / 特許	チャンバ装置、ターゲット生成方法および極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年04月01日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び狭帯域化光学系 FI分類-H01S 3/02, FI分類-H01S 3/106
2016年03月24日 特許庁 / 特許	レーザアニール装置 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/268 J, FI分類-H01L 21/268 T
2016年03月22日 特許庁 / 特許	ドロップレットタイミングセンサ FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2016年03月18日 特許庁 / 特許	レーザ装置、レーザ装置の制御方法 FI分類-H01S 3/101, FI分類-H01S 3/00 G
2016年03月17日 特許庁 / 特許	高電圧パルス発生装置及びガスレーザ装置 FI分類-H02M 9/04 A, FI分類-H02M 9/04 C, FI分類-H01S 3/097 A
2016年03月04日 特許庁 / 特許	ターゲット撮像装置、極端紫外光生成装置及び極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年03月02日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び極端紫外光生成システム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 D
2016年02月26日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年02月26日 特許庁 / 特許	ビーム伝送システム、露光装置および露光装置の照明光学系 FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2016年02月02日 特許庁 / 特許	狭帯域化レーザ装置 FI分類-H01S 3/137
2016年01月28日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2015年12月25日 特許庁 / 特許	レーザ照射装置 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-B23K 26/00 Z, FI分類-H01L 21/268 J, FI分類-H01L 21/268 T
2015年12月15日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年12月10日 特許庁 / 特許	狭帯域化レーザ装置及びスペクトル線幅計測装置 FI分類-G01J 3/26, FI分類-H01S 3/13, FI分類-G01J 3/02 C, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521
2015年11月25日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年11月25日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2015年11月20日 特許庁 / 特許	狭帯域化レーザ装置 FI分類-H01S 3/136, FI分類-H01S 3/00 G
2015年11月13日 特許庁 / 特許	レーザガス精製システム及びレーザシステム FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/00 G
2015年11月06日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年11月05日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年10月28日 特許庁 / 特許	狭帯域化エキシマレーザ装置 FI分類-H01S 3/02, FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/225
2015年10月19日 特許庁 / 特許	レーザ装置管理システム FI分類-G06F 21/62, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521
2015年10月15日 特許庁 / 特許	固体レーザシステムおよびエキシマレーザシステム FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/30, FI分類-H01S 3/067, FI分類-G02F 1/35 502
2015年10月02日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年09月24日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年09月14日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/097 A
2015年09月11日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年09月09日 特許庁 / 特許	ターゲット収容装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2015年09月08日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2015年08月07日 特許庁 / 特許	狭帯域化レーザ装置 FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/137
2015年08月05日 特許庁 / 特許	レーザチャンバ FI分類-H01S 3/0973
2015年07月30日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年07月21日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年07月17日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年07月14日 特許庁 / 特許	エキシマレーザ装置 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/104, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/10 D
2015年06月26日 特許庁 / 特許	EUV光生成システム及びEUV光生成システムの制御方法 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年06月23日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置及びコンデンサ FI分類-H01G 1/08 A, FI分類-H01S 3/0971, FI分類-H01S 3/097 A, FI分類-H01G 4/24 301 A, FI分類-H01G 4/24 321 C
2015年06月19日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年05月12日 特許庁 / 特許	レーザチャンバ FI分類-H01S 3/032, FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/041
2015年04月22日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置およびEUV光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年03月27日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及びその設計方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年03月23日 特許庁 / 特許	レーザドーピング装置及びレーザドーピング方法 FI分類-H01L 21/228, FI分類-H01L 21/22 E, FI分類-H01L 21/268 J, FI分類-H01L 21/268 T
2015年03月12日 特許庁 / 特許	放電励起式ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036
2015年03月06日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び極端紫外光生成システム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年03月06日 特許庁 / 特許	固体レーザシステム、及び露光装置用レーザ装置 FI分類-G02F 1/37, FI分類-H01S 5/40, FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521
2015年02月27日 特許庁 / 特許	ビームダンプ装置、それを備えたレーザ装置および極端紫外光生成装置 FI分類-H01S 3/02, FI分類-H01S 3/04, FI分類-H01S 3/00 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2015年02月06日 特許庁 / 特許	レーザチャンバ FI分類-H01S 3/038 Z
2015年02月06日 特許庁 / 特許	ビームデリバリシステム及びその制御方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2015年01月28日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2014年12月25日 特許庁 / 特許	ターゲット生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年12月24日 特許庁 / 特許	エキシマレーザ装置及びエキシマレーザシステム FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/131, FI分類-H01S 3/134, FI分類-H01S 3/00 G
2014年12月18日 特許庁 / 特許	グレーティング、グレーティングの製造方法及びグレーティングの再生方法 FI分類-G02B 5/18, FI分類-H01S 3/1055
2014年12月17日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年12月11日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2014年11月28日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2014年11月26日 特許庁 / 特許	加振ユニット及びターゲット供給装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2014年11月25日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2014年11月25日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2014年11月25日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2014年11月25日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2014年11月25日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/225, FI分類-H01S 3/00 G
2014年11月20日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2014年11月18日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び極端紫外光の生成方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年11月05日 特許庁 / 特許	ターゲット生成装置およびフィルタ構造体の製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-B01D 29/26 B, FI分類-B01D 39/20 B, FI分類-B01D 39/20 D, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-B01D 29/04 510 A, FI分類-B01D 29/04 510 D, FI分類-B01D 29/04 530 A, FI分類-B01D 29/06 510 A, FI分類-B01D 29/10 510 B, FI分類-B01D 29/10 510 E, FI分類-B01D 29/10 530 A
2014年10月27日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び極端紫外光生成装置 FI分類-H01S 5/022, FI分類-H01S 5/062
2014年10月24日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム及び極端紫外光を生成する方法 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年09月17日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年09月08日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/101, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 Z, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503
2014年08月27日 特許庁 / 特許	レーザ増幅器、及びレーザ装置、並びに極端紫外光生成システム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-G03F 7/20 503
2014年07月29日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 Z
2014年07月14日 特許庁 / 特許	露光装置 FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521
2014年07月11日 特許庁 / 特許	レーザシステム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 G, FI分類-H01S 3/10 Z
2014年07月11日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年06月30日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年06月27日 特許庁 / 特許	光ビーム計測装置 FI分類-H01S 3/02, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01S 3/00 G
2014年06月13日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年06月12日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K
2014年05月29日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年05月29日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成システム FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年05月20日 特許庁 / 特許	極端紫外光生成装置及び極端紫外光の生成方法 FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521
2014年03月31日 特許庁 / 特許	レーザシステム又はレーザ露光システム FI分類-H01L 21/20, FI分類-B23K 26/064 G, FI分類-B23K 26/064 Z, FI分類-H01L 21/268 G, FI分類-H01L 21/268 J
2014年03月25日 特許庁 / 特許	ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置、及びターゲット供給方法 FI分類-H05G 2/00 K
2014年03月18日 特許庁 / 特許	レーザアニール装置 FI分類-H01L 21/20, FI分類-B23K 26/354, FI分類-B23K 26/00 M, FI分類-H01L 21/268 G, FI分類-H01L 21/268 T
2014年03月18日 特許庁 / 特許	ガスレーザ装置及びその制御方法 FI分類-H01S 3/036, FI分類-H01S 3/00 G
2014年02月25日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2014年02月21日 特許庁 / 特許	レーザ光の波長を制御する方法およびレーザ装置 FI分類-H01S 3/137, FI分類-H01S 3/00 G
2014年02月10日 特許庁 / 特許	レーザ装置 FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H01S 3/10 D, FI分類-H01S 3/10 Z
2014年02月10日 特許庁 / 特許	レーザ装置及び極端紫外光生成システム FI分類-H01S 3/23, FI分類-H01S 3/101, FI分類-H01S 3/00 A, FI分類-H05G 2/00 K, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521

ギガフォトン株式会社の商標情報(8件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年03月14日 特許庁 / 商標	iTGM 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2019年11月20日 特許庁 / 商標	§GIGAPHOTON＼The Future is Today 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2019年11月20日 特許庁 / 商標	The Future is Today 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2018年02月21日 特許庁 / 商標	FABSCAPE 09類, 42類
2016年05月10日 特許庁 / 商標	GIGAPHOTON 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2016年05月10日 特許庁 / 商標	§GIGAPHOTON 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2016年04月07日 特許庁 / 商標	GIGANEX 07類, 09類, 37類, 41類, 42類
2014年11月07日 特許庁 / 商標	EcoPhoton 07類

ギガフォトン株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	半導体リソグラフィ用エキシマレーザ及び極端紫外線光源の開発・製造・販売
企業規模	880人
平均勤続年数 範囲 正社員	男性 9.3年 / 女性 9.3年
女性労働者の割合 範囲 正社員	10.5%

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