株式会社エスケーエレクトロニクス

株式会社エスケーエレクトロニクスとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社エスケーエレクトロニクスの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社エスケーエレクトロニクス
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	エスケーエレクトロニクス
法人番号	4130001023818
会社法人等番号	1300-01-023818
登記所	京都地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T4130001023818 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒602-0000 ※地方自治体コードは 26102
国内所在地（都道府県）都道府県	京都府 ※京都府の法人数は 112,414件
国内所在地（市区町村）市区町村	京都市上京区 ※京都市上京区の法人数は 5,862件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	東堀川通リ一条上ル竪富田町436番地の2
国内所在地（1行表示）1行表示	京都府京都市上京区東堀川通リ一条上ル竪富田町436番地の2
国内所在地（読み仮名）読み仮名	キョウトフキョウトシカミギョウクタテトミダチョウ
代表者	代表取締役社長 石 田 昌 德
資本金	41億972万2,000円 (2023年12月16日現在)
従業員数	218人 (2023年12月16日現在)
ホームページHP	http://www.sk-el.co.jp
更新年月日更新日	2018年12月27日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	京都労働局 〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	京都上労働基準監督署 〒604-8467 京都府京都市中京区西ノ京大炊御門町19-19

株式会社エスケーエレクトロニクスの場所

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株式会社エスケーエレクトロニクスの補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	カブシキガイシャエスケーエレクトロニクス
企業名 英語	SK-Electronics CO.,LTD.
上場・非上場	上場
資本金	41億900万円
業種	電気機器
証券コード	66770

株式会社エスケーエレクトロニクスの登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社エスケーエレクトロニクス」で、「京都府京都市上京区東堀川通リ一条上ル竪富田町436番地の2」に新規登録されました。

株式会社エスケーエレクトロニクスの法人活動情報

株式会社エスケーエレクトロニクスの表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社エスケーエレクトロニクスの特許情報(40件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年04月10日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/29
2023年02月27日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/29
2021年08月04日 特許庁 / 特許	パターン修正方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/80
2021年08月04日 特許庁 / 特許	パターン修正方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/80
2021年06月04日 特許庁 / 特許	フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-C23C 14/04 A
2020年10月14日 特許庁 / 特許	フォトマスク及びその製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 G
2020年07月22日 特許庁 / 特許	フォトマスク FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501
2020年06月15日 特許庁 / 特許	プロキシミティー露光用フォトマスク FI分類-G03F 1/38
2020年05月25日 特許庁 / 特許	フォトマスクの修正方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/74, FI分類-G03F 1/84, FI分類-C23C 16/26, FI分類-C23C 14/14 D
2020年05月15日 特許庁 / 特許	フォトマスクの検査装置及び検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 7/00 610
2020年04月28日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z
2020年04月28日 特許庁 / 特許	フォトマスク及びその製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 G
2020年03月04日 特許庁 / 特許	ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク FI分類-G03F 1/72, FI分類-C23C 16/48, FI分類-G03F 1/00 Z
2020年03月04日 特許庁 / 特許	ハーフトーンマスクの欠陥修正方法、ハーフトーンマスクの製造方法及びハーフトーンマスク FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72, FI分類-C23C 16/48
2020年01月07日 特許庁 / 特許	フォトマスク FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06
2019年08月08日 特許庁 / 特許	露光方法及び露光装置 FI分類-G03F 7/20 501
2019年05月29日 特許庁 / 特許	RFタグ FI分類-H02J 50/20, FI分類-G06K 19/07 040, FI分類-G06K 19/07 090, FI分類-G06K 19/07 230, FI分類-G06K 19/077 112, FI分類-H02J 7/00 301 D
2019年04月10日 特許庁 / 特許	非接触情報担体 FI分類-H01Q 7/00, FI分類-H01Q 23/00, FI分類-G06K 19/077 256, FI分類-G06K 19/077 272
2019年03月28日 特許庁 / 特許	露光装置の検査方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521
2019年01月10日 特許庁 / 特許	空間光変調素子の検査装置及び検査方法 FI分類-G01M 11/00 M, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2018年12月03日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 505
2018年12月03日 特許庁 / 特許	フォトマスクの描画装置 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 505
2018年12月03日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 505
2018年11月08日 特許庁 / 特許	露光装置の検査方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2018年05月09日 特許庁 / 特許	プロキシミティ露光用フォトマスクとその製造方法 FI分類-G03F 1/36, FI分類-G03F 1/50
2017年11月02日 特許庁 / 特許	LC共振アンテナ FI分類-H01Q 1/38, FI分類-H01Q 7/00, FI分類-H01P 7/00 Z
2017年11月02日 特許庁 / 特許	LC共振アンテナ FI分類-H01Q 7/00, FI分類-H01P 7/00 Z
2017年10月12日 特許庁 / 特許	フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z
2017年05月30日 特許庁 / 特許	フォトマスクのウェットエッチング方法及びウェットエッチング装置 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/308 F
2017年04月04日 特許庁 / 特許	フォトマスク及びフォトマスクブランクス並びにフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/00 Z
2017年02月02日 特許庁 / 特許	位相シフトマスクの欠陥修正方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/84
2016年12月28日 特許庁 / 特許	ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/40 511
2016年12月28日 特許庁 / 特許	ハーフトーンマスク、フォトマスクブランクス及びハーフトーンマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/08 E, FI分類-C23C 14/08 J, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-G03F 7/40 511
2016年08月19日 特許庁 / 特許	フォトマスクブランクス、それを用いたフォトマスクおよびフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/26
2016年07月06日 特許庁 / 特許	ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスクブランクス FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50
2016年04月15日 特許庁 / 特許	RFIDタグ FI分類-H01Q 7/00, FI分類-H04B 5/02, FI分類-G06K 19/077 264, FI分類-G06K 19/077 296
2016年04月15日 特許庁 / 特許	ブースターアンテナ FI分類-H01Q 7/00, FI分類-H04B 5/02, FI分類-H01Q 19/02, FI分類-G06K 19/077 212, FI分類-G06K 19/077 272, FI分類-G06K 19/077 296
2015年12月02日 特許庁 / 特許	フォトマスクおよびその製造方法 FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 1/68
2015年11月12日 特許庁 / 特許	多階調ハーフトーンマスクおよびその製造方法 FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501
2014年06月17日 特許庁 / 特許	プロキシミティ露光用フォトマスク FI分類-G03F 1/29, FI分類-H01L 21/30 502 P

株式会社エスケーエレクトロニクスの商標情報(5件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年05月17日 特許庁 / 商標	§Extrem eTag 09類
2020年04月13日 特許庁 / 商標	§Q‐CO 10類
2019年03月04日 特許庁 / 商標	§picking Tag＼ピッキング タグ 09類
2014年11月17日 特許庁 / 商標	WILMO 10類
2014年05月27日 特許庁 / 商標	SK―Electronics 07類, 09類, 10類, 37類, 44類

株式会社エスケーエレクトロニクスの意匠情報(1件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2017年10月03日 特許庁 / 意匠	物品情報表示器 意匠新分類-F5100

株式会社エスケーエレクトロニクスの職場情報

項目	データ
事業概要	大型フォトマスクの開発・製造・販売
企業規模	295人

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