法人番号:5010001008680
信越化学工業株式会社
情報更新日:2024年08月31日
信越化学工業株式会社とは
信越化学工業株式会社（シンエツカガクコウギョウ）は、法人番号:5010001008680で東京都千代田区丸の内1丁目4番1号に所在する法人として東京法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役斉藤恭彦。設立日は1926年09月16日。資本金は1,194億1,900万円。従業員数は3,481人。登録情報として、補助金情報が2件、表彰情報が3件、届出情報が10件、特許情報が1,087件、商標情報が39件、意匠情報が46件、職場情報が1件が登録されています。なお、2021年11月01日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2021年11月22日です。
インボイス番号:T5010001008680については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。中央労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
信越化学工業株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 信越化学工業株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | シンエツカガクコウギョウ |
| 法人番号 | 5010001008680 |
| 会社法人等番号 | 0100-01-008680 |
| 登記所 | 東京法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T5010001008680 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒100-0005 ※地方自治体コードは 13101 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,322,587件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 千代田区 ※千代田区の法人数は 99,225件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 丸の内1丁目4番1号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都千代田区丸の内1丁目4番1号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトチヨダクマルノウチ1チョウメ |
| 英語表記 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
| 国内所在地（英語表示）英語表示 | 4-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo |
| 代表者 | 代表取締役 斉藤 恭彦 |
| 設立日 | 1926年09月16日 |
| 資本金 | 1,194億1,900万円 (2024年06月21日現在) |
| 従業員数 | 3,481人 (2024年09月16日現在) |
| 更新年月日更新日 | 2021年11月22日 |
| 変更年月日変更日 | 2021年11月01日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 中央労働基準監督署 〒112-8573 東京都文京区後楽1-9-20飯田橋合同庁舎6・7階 |
信越化学工業株式会社の場所
信越化学工業株式会社の補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | シンエツカガクコウギョウカブシキガイシャ |
| 企業名 英語 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
| 上場・非上場 | 上場 |
| 資本金 | 1,194億1,900万円 |
| 業種 | 化学 |
| 証券コード | 40630 |
信越化学工業株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2021年11月01日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都千代田区丸の内1丁目4番1号」に変更されました。 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「信越化学工業株式会社」で、「東京都千代田区大手町2丁目6番1号」に新規登録されました。 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 半導体事業部・業務部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウハンドウタイジギョウブギヨウムブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目2-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5211 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 塩ビ事業本部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウエンビジギョウホンブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5071 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 新機能材料部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウシンキノウザイリョウブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5345 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社研究開発部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウケンキュウカイハツブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-6800 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 国際事業本部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウコクサイジギョウホンブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5311 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 シリコーン事業本部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウシリコーンジギョウホンブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5121 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 総務部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウソウムブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5011 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 電子材料事業本部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウデンシザイリョウジギョウホンブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5201 |
信越化学工業株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | 信越化学工業株式会社 精密材料事業部 |
| 情報名 読み | シンエツカガクコウギョウセイミツザイリョウジギョウブ |
| 住所 | 東京都千代田区大手町2丁目6-1 |
| 電話番号 | 03-3246-5222 |
信越化学工業株式会社の法人活動情報
信越化学工業株式会社の補助金情報(2件)
| 期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
|---|---|
2019年04月26日 | 省エネルギー投資促進に向けた支援補助金(省エネルギー投資促進に向けた支援補助事業のうちエネルギー使用合理化等事業者支援事業) 49,333,333円 |
2014年06月25日 | 平成25年度先端技術実用化非連続加速プログラム補助金の交付決定について 産業技術実用化開発事業費補助金 249,666,666円 |
信越化学工業株式会社の表彰情報(3件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2024年09月16日 | あんぜんプロジェクト-認定 |
2017年12月04日 | 女性の活躍推進企業 |
2017年12月04日 | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 |
信越化学工業株式会社の届出情報(10件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 武生工場福井分工場 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 武生工場朝日分工場 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 武生工場 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 直江津工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 群馬事業所郷原分工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 群馬事業所磯部工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 群馬事業所松井田工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:信越化学工業株式会社 鹿島工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2001年04月01日 | アルコール事業 - 許可使用者 |
- | 代表者:代表取締役 斉藤 恭彦 全省庁統一資格 / - |
信越化学工業株式会社の特許情報(1087件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年09月28日 特許庁 / 特許 | 水性分散体及びこれを含有する化粧料 FI分類-A61K 8/04, FI分類-A61K 8/19, FI分類-A61K 8/29, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2023年07月07日 特許庁 / 特許 | 組成物、組成物を生産するための方法、スケール付着防止剤、反応装置、重合体、重合体を生産するための方法 FI分類-C08G 8/08, FI分類-C08K 5/37, FI分類-C08L 61/00, FI分類-C08F 2/00 G, FI分類-C08G 8/00 C, FI分類-C08G 8/00 E, FI分類-C08G 8/00 Z |
2023年01月27日 特許庁 / 特許 | 組成物、組成物を生産するための方法、反応装置、重合体を生産するための方法 FI分類-C08L 61/00 |
2022年12月23日 特許庁 / 特許 | 石英ガラス繊維の保管方法 FI分類-C03C 25/64 |
2022年12月23日 特許庁 / 特許 | 石英ガラスクロスの梱包方法 FI分類-B65D 81/24 F |
2022年12月09日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物、スラリー、フィルム、プリプレグ、積層板及びプリント配線板 FI分類-B32B 27/34, FI分類-C08F 290/06, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2022年09月27日 特許庁 / 特許 | 接合型ウェーハの剥離方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N |
2022年08月03日 特許庁 / 特許 | シリコーン樹脂溶解剤及びシリコーンコーティングと基布の分離方法 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C09D 9/00, FI分類-C08L 83/06 |
2022年08月02日 特許庁 / 特許 | シリコーンコーティング樹脂基材のリサイクル方法 FI分類-C08J 11/28, FI分類-B29B 17/02 ZAB |
2022年06月02日 特許庁 / 特許 | 石英ガラスクロスの製造方法 FI分類-C03C 25/64, FI分類-C03C 25/002, FI分類-D01F 9/08 Z, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2022年04月18日 特許庁 / 特許 | 水酸基および(メタ)アクリル基含有シロキサンの精製方法、並びに、水酸基および(メタ)アクリル基含有シロキサン組成物 FI分類-A61L 27/16, FI分類-C07F 7/12 X |
2022年04月15日 特許庁 / 特許 | ガラス繊維及びその製造方法、ならびにガラスクロス、基板用プリプレグ及びプリント配線基板 FI分類-C03C 25/50, FI分類-C03C 25/321, FI分類-D06C 7/00 Z, FI分類-D06M 13/513, FI分類-C08J 5/24 CER, FI分類-H05K 1/03 610 R, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2022年04月05日 特許庁 / 特許 | 片末端官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、及び片末端官能性オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08G 77/38, FI分類-C07F 7/12 X |
2022年03月31日 特許庁 / 特許 | 半導体発光装置と成長基板の間の角部での分離層の除去方法 FI分類-H01L 33/02 |
2022年03月23日 特許庁 / 特許 | 表示装置の製造方法 FI分類-G09F 9/33, FI分類-H01L 33/62, FI分類-G09F 9/00 338 |
2021年12月24日 特許庁 / 特許 | 生体電極、生体電極の製造方法、及び生体信号の測定方法 FI分類-A61B 5/25, FI分類-A61B 5/259, FI分類-A61B 5/265 |
2021年12月15日 特許庁 / 特許 | 酸化ケイ素被覆窒化アルミニウム粉末の製造方法および酸化ケイ素被覆窒化アルミニウム粉末 FI分類-C01B 21/072 R |
2021年12月15日 特許庁 / 特許 | 窒化ケイ素被覆窒化アルミニウム粉末の製造方法 FI分類-C01B 21/072 R |
2021年11月29日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物を含有する組成物 FI分類-A01P 1/00, FI分類-C07F 7/18 M, FI分類-D06M 13/513, FI分類-A01N 55/10 100 |
2021年11月19日 特許庁 / 特許 | 一液水中硬化型接着剤 FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 11/08, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 201/00 |
2021年11月01日 特許庁 / 特許 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 FI分類-C09D 167/00, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 201/10, FI分類-C09K 3/00 R |
2021年10月15日 特許庁 / 特許 | ポリウレタン、ポリウレタンの製造方法、導電性ペースト組成物、導電配線および導電配線の製造方法 FI分類-H01B 7/06, FI分類-C07C 49/82, FI分類-C07C 255/54, FI分類-C07C 311/09, FI分類-C07C 69/675, FI分類-C07D 307/20, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-C07C 43/23 D, FI分類-C08G 18/32 003, FI分類-C08G 18/32 025, FI分類-H01B 13/00 503 D |
2021年10月14日 特許庁 / 特許 | 導電性ペースト組成物用フェノール化合物 FI分類-C07C 69/50, FI分類-C07C 255/54, FI分類-C07F 7/08 G, FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C07C 49/84 E, FI分類-C07C 43/23 CSPC |
2021年10月14日 特許庁 / 特許 | 導電性ペースト組成物、導電性ペースト組成物の製造方法、導電配線及びその製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 5/13, FI分類-H01B 7/06, FI分類-C07C 39/27, FI分類-C08L 75/04, FI分類-C07C 255/50, FI分類-C07C 39/373, FI分類-C07C 69/353, FI分類-C07F 7/08 G, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/14 B, FI分類-C07C 43/23 C, FI分類-C07C 49/76 Z, FI分類-C07C 43/205 C, FI分類-C07F 7/18 CSPX, FI分類-H01B 13/00 503 D |
2021年10月08日 特許庁 / 特許 | 撥水剤組成物及び繊維処理剤 FI分類-D06M 15/643, FI分類-C09K 3/18 104 |
2021年09月17日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ母材の製造方法 FI分類-C03B 37/012 Z |
2021年08月31日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、生体電極の製造方法、及び珪素材料粒子 FI分類-A61B 5/263, FI分類-A61B 5/265, FI分類-A61B 5/268 |
2021年08月26日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、生体電極の製造方法、及び珪素材料粒子 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-A61B 5/265, FI分類-A61B 5/268, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08L 101/02 |
2021年08月26日 特許庁 / 特許 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 FI分類-C01F 17/10, FI分類-C01F 17/34, FI分類-C04B 35/50, FI分類-C04B 35/64, FI分類-G02B 27/28 A |
2021年08月26日 特許庁 / 特許 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 FI分類-C01F 17/10, FI分類-C01F 17/34, FI分類-C04B 35/50, FI分類-C04B 35/64, FI分類-G02B 27/28 A |
2021年08月26日 特許庁 / 特許 | 常磁性ガーネット型透明セラミックス、磁気光学デバイス及び常磁性ガーネット型透明セラミックスの製造方法 FI分類-C01F 17/10, FI分類-C01F 17/34, FI分類-C04B 35/50, FI分類-C04B 35/64, FI分類-G02B 27/28 A |
2021年08月23日 特許庁 / 特許 | 硬化性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 5/524, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2021年08月20日 特許庁 / 特許 | 分子レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C07C 59/84, FI分類-C07C 69/16, FI分類-C07C 317/12, FI分類-C07C 49/17 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 531, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年08月03日 特許庁 / 特許 | シリコーンエマルション組成物及び繊維処理剤 FI分類-C08L 83/08, FI分類-D06M 15/643, FI分類-C08L 63/00 A |
2021年07月20日 特許庁 / 特許 | 再転写方法及びリフト方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-B23K 26/082, FI分類-H01S 3/00 B, FI分類-H01L 21/50 C, FI分類-B23K 26/064 N, FI分類-G02B 26/10 104 Z |
2021年07月20日 特許庁 / 特許 | 不良箇所の除去方法 FI分類-B23K 26/06, FI分類-B23K 26/082, FI分類-H01L 21/52 Z, FI分類-G02B 26/10 104 Z, FI分類-H01L 21/60 311 Z, FI分類-H01L 21/60 321 Z |
2021年07月20日 特許庁 / 特許 | 不良箇所の除去方法、リフト方法、フォトマスク及びリフトシステム FI分類-G03F 1/52, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-B23K 26/351, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 26/10 104 Z |
2021年07月12日 特許庁 / 特許 | 熱ラジカル硬化可能なオルガノポリシロキサン組成物、該組成物で接着、コーティング又はポッティングされた物品、及び該組成物の硬化物を製造する方法 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2021年07月09日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン及びその製造方法 FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08G 77/10 |
2021年07月09日 特許庁 / 特許 | 製膜用霧化装置、製膜装置及び製膜方法 FI分類-B05B 17/06, FI分類-B05D 1/02 Z, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年07月01日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材、及び光ファイバ用ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/012 Z |
2021年06月25日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物を含有する水溶液組成物 FI分類-C09K 3/18 104 |
2021年06月18日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、及び反射型マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 R |
2021年06月15日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 101/10 |
2021年06月09日 特許庁 / 特許 | 2-(1,5,5-トリメチル-2-シクロペンテニル)エチル=アセテートの製造方法 FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 69/145 |
2021年06月03日 特許庁 / 特許 | 付加反応硬化型オルガノポリシロキサン組成物、及び剥離紙並びに剥離フィルム FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-D21H 27/00 A |
2021年06月01日 特許庁 / 特許 | ファラデー回転子モジュール及び光アイソレータ FI分類-G02B 27/28 A |
2021年05月31日 特許庁 / 特許 | 接合部材の解体方法及び接合部材並びに易解体性の液状シリコーン系接着剤 FI分類-C09J 5/06, FI分類-C08J 11/00, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/04 ZAB |
2021年05月25日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09K 5/14 101 E |
2021年05月24日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物の硬化物からなるフィルム、及びそれを有するフレキシブルプリント基板 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 35/00, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C08K 5/3477 |
2021年05月20日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法 FI分類-G03F 1/64, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2021年05月14日 特許庁 / 特許 | ネガ型レジストフィルム積層体及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503 |
2021年05月13日 特許庁 / 特許 | 負極活物質及びその製造方法 FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/38 Z |
2021年05月12日 特許庁 / 特許 | 封止用樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08G 59/40, FI分類-H01L 23/30 R |
2021年05月12日 特許庁 / 特許 | シリコーンハイブリッド樹脂組成物および半導体装置 FI分類-C08G 59/18, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 63/00 A |
2021年05月11日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2021年05月11日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物、その製造方法及び半導体装置 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08K 5/5425 |
2021年04月29日 特許庁 / 特許 | 高熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 101/10 |
2021年04月28日 特許庁 / 特許 | 光アイソレータ FI分類-G02B 5/30, FI分類-G02B 27/28 A |
2021年04月26日 特許庁 / 特許 | 仮接着方法、デバイスウエハ加工方法、仮接着用積層体及びデバイスウエハ加工用積層体 FI分類-C09J 179/08, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01L 21/02 C |
2021年04月23日 特許庁 / 特許 | 光造形用紫外線硬化性シリコーン組成物、その硬化物および硬化物の製造方法 FI分類-B33Y 80/00, FI分類-B29C 64/124, FI分類-B29C 64/314, FI分類-C08F 290/06 |
2021年04月19日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性複合シート及び発熱性電子部品の実装方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/56, FI分類-B32B 7/027, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B32B 27/18 Z, FI分類-B32B 27/00 101 |
2021年04月16日 特許庁 / 特許 | 樹脂コーティングエアーバッグ用基布の製造方法 FI分類-D06M 15/564, FI分類-D06M 15/693, FI分類-D06M 10/00 J |
2021年04月14日 特許庁 / 特許 | (6Z,9Z)-6,9-ドデカジエン-1-イン及びその製造方法 FI分類-C07C 1/32, FI分類-C07C 29/00, FI分類-C07C 29/36, FI分類-C07C 33/02, FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 33/048, FI分類-C07C 69/145, FI分類-C07C 11/28 CSP |
2021年04月14日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61Q 1/06, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 1/14, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-A61Q 19/10 |
2021年04月07日 特許庁 / 特許 | 多孔質ガラス母材製造装置、多孔質ガラス母材の製造方法、および光ファイバ用ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 8/04 C, FI分類-C03B 8/04 D, FI分類-C03B 37/018 C |
2021年04月02日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー及び/又はその部分(加水分解)縮合物を含む表面処理剤及び物品 FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 104 |
2021年03月26日 特許庁 / 特許 | 複合フィルム FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B32B 27/00 101 |
2021年03月25日 特許庁 / 特許 | フレキシブルプリント配線板(FPC)用接着剤組成物、並びに該組成物を含む熱硬化性樹脂フィルム、プリプレグ、及びFPC基板 FI分類-C09J 7/35, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 179/04, FI分類-H05K 1/03 670 |
2021年03月24日 特許庁 / 特許 | 導電性高分子組成物、基板、及び基板の製造方法 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08L 65/00, FI分類-C08L 101/06 |
2021年03月23日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性シトラコンイミド樹脂組成物 FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08K 5/49, FI分類-C08G 59/18, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-C08J 5/24 CER, FI分類-C08J 5/24 CFC, FI分類-C08J 5/24 CFG |
2021年03月22日 特許庁 / 特許 | 成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | 半導体積層体、半導体素子および半導体素子の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 29/48 D, FI分類-H01L 29/80 H, FI分類-H01L 21/208 Z, FI分類-H01L 29/78 652 T, FI分類-H01L 29/78 653 A, FI分類-H01L 29/78 655 A, FI分類-H01L 29/86 301 D |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | シロキサン化合物及びその製造方法 FI分類-A61L 27/18, FI分類-A61L 27/52, FI分類-C08F 20/36, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C07F 7/18 CSPX |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | シロキサン化合物及びその製造方法 FI分類-A61L 27/18, FI分類-A61L 27/52, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C08F 299/08 |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 31/40, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C07C 59/115, FI分類-C07C 69/675, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | 半導体積層体 FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 25/02 Z, FI分類-H01L 29/48 D, FI分類-H01L 29/48 M, FI分類-H01L 29/80 H, FI分類-H01L 29/78 652 T, FI分類-H01L 29/78 653 A, FI分類-H01L 29/78 655 A, FI分類-H01L 29/86 301 D |
2021年03月17日 特許庁 / 特許 | アルケニル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 FI分類-C08G 77/08, FI分類-C08G 77/20 |
2021年03月16日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07D 205/04, FI分類-C07D 211/06, FI分類-C07D 211/46, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 295/088 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年03月15日 特許庁 / 特許 | 剥離紙又は剥離フィルム用オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09K 3/00 R |
2021年03月12日 特許庁 / 特許 | 導電性高分子組成物、基板、及び基板の製造方法 FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08G 61/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08L 101/12, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 D |
2021年03月11日 特許庁 / 特許 | 化粧品組成物 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61K 8/898, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2021年03月08日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61Q 5/12, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C08L 91/00 |
2021年02月26日 特許庁 / 特許 | 機械発泡用硬化性液状シリコーンゴム発泡体組成物及びシリコーンゴム発泡体の製造方法 FI分類-C08J 9/30 CFH |
2021年02月19日 特許庁 / 特許 | シリコーンコーティング剤組成物及び物品 FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C09D 183/06 |
2021年02月18日 特許庁 / 特許 | 表面処理気相法シリカ粒子の製造方法、表面処理気相法シリカ粒子、及び静電荷像現像用トナー外添剤 FI分類-C01B 33/12 E, FI分類-C01B 33/18 C, FI分類-G03G 9/097 371, FI分類-G03G 9/097 375 |
2021年02月16日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ FI分類-G02B 6/036 |
2021年02月16日 特許庁 / 特許 | 環状ポリシロキサンの製造方法 FI分類-C07F 7/21, FI分類-C08G 77/08 |
2021年02月15日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質及びその製造方法並びに非水電解質二次電池 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E |
2021年02月15日 特許庁 / 特許 | 硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び光学部品 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 171/00, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-C09J 183/08 |
2021年02月12日 特許庁 / 特許 | 粘着性シリコーンゲルシート及び物品 FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2021年02月12日 特許庁 / 特許 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 112/08, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年02月12日 特許庁 / 特許 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年02月10日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極及び生体電極の製造方法 FI分類-C08F 12/00, FI分類-C08F 16/12, FI分類-C08F 20/10, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2021年02月10日 特許庁 / 特許 | 乳化組成物及び化粧料 FI分類-A61K 8/31, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/896, FI分類-A61Q 19/00 |
2021年02月09日 特許庁 / 特許 | 硬化性シリコーン組成物及び接着剤 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2021年02月08日 特許庁 / 特許 | 生体電極、生体電極の製造方法及び生体信号の測定方法 FI分類-C08F 220/38, FI分類-A61B 5/04 300 V |
2021年02月04日 特許庁 / 特許 | 成膜用霧化装置およびこれを用いた成膜装置 FI分類-B05B 17/06, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年02月04日 特許庁 / 特許 | 成膜用霧化装置及びこれを用いた成膜装置 FI分類-B05B 17/06, FI分類-B05C 11/10, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365 |
2021年02月04日 特許庁 / 特許 | 半導体膜及び半導体膜の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/00, FI分類-C30B 29/16, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年02月04日 特許庁 / 特許 | 剥離紙又は剥離フィルム製造用シリコーン組成物、及び剥離紙又は剥離フィルム FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09K 3/00 R |
2021年02月03日 特許庁 / 特許 | 血管新生デバイス FI分類-A61K 9/06, FI分類-A61P 3/10, FI分類-A61P 9/14, FI分類-A61K 35/28, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61L 27/14, FI分類-A61L 27/16, FI分類-A61L 27/38, FI分類-A61L 27/44, FI分類-A61L 27/52, FI分類-A61L 27/54 |
2021年02月03日 特許庁 / 特許 | 血管新生デバイス FI分類-A61L 27/14, FI分類-A61L 27/16, FI分類-A61L 27/38, FI分類-A61L 27/40, FI分類-A61L 27/52 |
2021年01月28日 特許庁 / 特許 | 成膜用材料及び成膜用スラリー FI分類-C23C 4/04, FI分類-C01F 17/20, FI分類-C01F 17/212, FI分類-C01F 17/218, FI分類-C01F 17/224, FI分類-C01F 17/265 |
2021年01月28日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の焼結方法 FI分類-C03B 37/014 Z |
2021年01月27日 特許庁 / 特許 | 成膜用ドーピング原料溶液の製造方法、積層体の製造方法、成膜用ドーピング原料溶液及び半導体膜 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/14, FI分類-C30B 29/16, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年01月27日 特許庁 / 特許 | 半導体膜 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/14, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年01月26日 特許庁 / 特許 | 縮合硬化型シリコーン組成物、硬化物及び該硬化物の製造方法 FI分類-C08G 77/08, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/3442 |
2021年01月26日 特許庁 / 特許 | (1RS,2SR)-(2-ヒドロキシ-3,5,5-トリメチル-3-シクロペンテニル)メチル=カルボキシレート化合物の速度論的光学分割反応、及び光学活性なトランス-α-ネクロジル=イソブチレート及びγ-ネクロジル=イソブチレートの製造方法 FI分類-C07C 67/03, FI分類-C07C 67/28, FI分類-C07C 69/28, FI分類-C07B 57/00 340 |
2021年01月26日 特許庁 / 特許 | 低誘電金属張フッ素樹脂基板及びその製造方法 FI分類-B32B 15/082 B, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2021年01月25日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 53/21, FI分類-C07C 63/68, FI分類-C07C 65/10, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07C 61/135, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2021年01月25日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質及び非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 C |
2021年01月20日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性環状イミド樹脂組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08L 53/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 11/08, FI分類-C09J 153/02, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08L 79/08 Z |
2021年01月19日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物の製造方法 FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08K 9/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2021年01月15日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版及び露光方法、並びに半導体又は液晶ディスプレイの製造方法 FI分類-G03F 1/64, FI分類-G03F 7/20 521 |
2021年01月14日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物を含むゴム組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 7/00, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 21/00, FI分類-B60C 1/00 A |
2021年01月13日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08K 5/5419 |
2021年01月13日 特許庁 / 特許 | 溶射材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2021年01月04日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム半導体膜の製造方法及び成膜装置 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/368 Z |
2021年01月04日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム半導体膜の製造方法及び成膜装置 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/368 Z |
2020年12月25日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成材料、パターン形成方法ならびに化合物及び重合体 FI分類-C07D 311/96, FI分類-C08G 8/00 Z, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511 |
2020年12月25日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成材料、ならびにパターン形成方法および重合体 FI分類-C08G 61/12, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511 |
2020年12月23日 特許庁 / 特許 | アルコール化合物、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 69/08, FI分類-C07C 69/44, FI分類-C07C 69/83, FI分類-C07C 43/196, FI分類-C07C 69/773, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 232/08, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 43/23 CSPC |
2020年12月23日 特許庁 / 特許 | 環状イミド樹脂組成物、プリプレグ、銅張積層板およびプリント配線板 FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08L 35/00, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-C08J 5/24 CFG, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2020年12月23日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法及びケイ素化合物 FI分類-C08G 77/14, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年12月22日 特許庁 / 特許 | 粒子状溶射材料及び希土類酸化物溶射材料の製造方法、並びに希土類酸化物溶射膜及びその形成方法 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C04B 41/87 J, FI分類-C04B 41/87 K, FI分類-H01L 21/302 101 H |
2020年12月22日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 311/09, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年12月21日 特許庁 / 特許 | インプリント装置およびインプリント方法 FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2020年12月18日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物 FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2020年12月18日 特許庁 / 特許 | ワタアカミムシの防除方法 FI分類-A01N 31/04, FI分類-A01N 37/02, FI分類-A01N 63/14, FI分類-A01P 19/00, FI分類-A01M 1/02 B, FI分類-A01N 25/00 102 |
2020年12月18日 特許庁 / 特許 | ワタアカミムシ及びオオタバコガ類の同時防除方法 FI分類-A01N 31/04, FI分類-A01N 35/02, FI分類-A01N 37/02, FI分類-A01N 63/14, FI分類-A01P 19/00, FI分類-A01M 1/02 B, FI分類-A01N 25/00 102, FI分類-A01N 25/18 102 D |
2020年12月18日 特許庁 / 特許 | 吸水防止剤及び板紙 FI分類-C09D 5/02, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/26, FI分類-D21H 19/32, FI分類-D21H 21/16, FI分類-C09D 183/08 |
2020年12月17日 特許庁 / 特許 | 硬化型コーティング組成物、及び物品 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09D 183/04 |
2020年12月17日 特許庁 / 特許 | インクジェット用インク FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09D 11/30, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/02 |
2020年12月15日 特許庁 / 特許 | 成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2020年12月15日 特許庁 / 特許 | 成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2020年12月15日 特許庁 / 特許 | 成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368, FI分類-H01L 21/368 Z |
2020年12月15日 特許庁 / 特許 | 結晶性酸化物薄膜 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 |
2020年12月14日 特許庁 / 特許 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 FI分類-C03B 8/04 C, FI分類-C03B 37/018 C |
2020年12月11日 特許庁 / 特許 | ゴム組成物およびタイヤ FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 7/00, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08L 83/04, FI分類-B60C 1/00 A |
2020年12月10日 特許庁 / 特許 | 3-イソプロペニル-6-ヘプテナール化合物及び6-イソプロペニル-3-メチル-3,9-デカジエニル=カルボキシレート化合物の製造方法並びにその中間体 FI分類-C07C 45/41, FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 67/27, FI分類-C07C 69/145, FI分類-C07C 69/587, FI分類-C07C 47/21 CSP |
2020年12月09日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08F 12/02, FI分類-C08F 20/00, FI分類-C08L 25/00, FI分類-C08L 33/00, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/00, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2020年12月09日 特許庁 / 特許 | フッ化イットリウム系溶射皮膜、溶射部材、及びフッ化イットリウム系溶射皮膜の製造方法 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C01F 17/00, FI分類-C23C 4/134 |
2020年12月07日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2020年12月07日 特許庁 / 特許 | 量子ドットの表面処理方法及び表面処理装置 FI分類-F21V 9/30, FI分類-G02B 5/20, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C08F 290/06, FI分類-F21V 11/00 100 |
2020年12月07日 特許庁 / 特許 | 鎖長延長剤とそれを含む脱アルコール型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物、並びにオルガノポリシロキサン化合物及びその製造方法 FI分類-C08G 77/18, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C09D 183/06, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C07B 61/00 300 |
2020年11月30日 特許庁 / 特許 | 含窒素オルガノキシシラン化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 M, FI分類-C07F 7/18 T, FI分類-C07F 7/18 U |
2020年11月27日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 104 |
2020年11月26日 特許庁 / 特許 | 硬化性パーフルオロポリエーテル粘着剤組成物、その硬化物を用いた粘着剤並びに粘着テープ FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 129/10, FI分類-C09J 183/05 |
2020年11月25日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法 FI分類-C07C 69/84, FI分類-C08G 59/40, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年11月25日 特許庁 / 特許 | 硬化性パーフルオロポリエーテル粘着剤組成物及びその硬化物を含む粘着剤 FI分類-C09J 171/00 |
2020年11月20日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物、その加水分解縮合物およびコーティング組成物 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 183/08, FI分類-C07F 7/18 CSPQ |
2020年11月18日 特許庁 / 特許 | シリコーンハイブリッド樹脂組成物、及び半導体装置 FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-H01L 23/30 R |
2020年11月18日 特許庁 / 特許 | 油中水型化粧料 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/31, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61K 8/92, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2020年11月12日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物、並びにその樹脂組成物からなる未硬化樹脂フィルム及び硬化樹脂フィルム FI分類-C08G 73/12, FI分類-C08L 69/00, FI分類-C08L 79/08 Z |
2020年11月12日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物 FI分類-C09J 7/35, FI分類-C08G 73/12, FI分類-C08K 5/3415, FI分類-C09J 179/04, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-C08J 5/24 CER, FI分類-C08J 5/24 CFG, FI分類-H05K 1/03 610 H |
2020年11月12日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物、並びにその樹脂組成物からなる未硬化樹脂フィルム及び硬化樹脂フィルム FI分類-C08G 73/12, FI分類-C08K 5/3415, FI分類-C08L 79/08 Z |
2020年11月10日 特許庁 / 特許 | 低誘電樹脂組成物 FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08K 5/37, FI分類-C08L 79/08 Z |
2020年11月09日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物及び接着助剤 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 201/00, FI分類-C07F 7/08 CSPX |
2020年11月06日 特許庁 / 特許 | 繊維、繊維積層構造体、エレクトロスピニング用紡糸液、並びに繊維の製造方法 FI分類-D01D 5/04, FI分類-C08G 18/61, FI分類-D04H 1/728, FI分類-D01F 6/70 Z, FI分類-D04H 1/4358, FI分類-C08G 18/08 019, FI分類-C08G 18/40 009 |
2020年11月05日 特許庁 / 特許 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 FI分類-C08K 3/34, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/04, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 171/00, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C08L 71/00 A |
2020年11月05日 特許庁 / 特許 | R-Fe-B系焼結磁石 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-H01F 1/057 170, FI分類-C22C 38/00 303 D |
2020年11月02日 特許庁 / 特許 | 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、被膜および物品 FI分類-C09D 4/02, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 183/12 |
2020年11月02日 特許庁 / 特許 | 重希土類元素のリサイクル方法及び希土類磁石のリサイクル方法 FI分類-C22B 9/16, FI分類-C22B 9/20, FI分類-C22B 59/00, FI分類-C22B 7/00 Z |
2020年11月02日 特許庁 / 特許 | 多孔質ガラス母材の製造方法及び製造装置 FI分類-C03B 8/04 D, FI分類-C03B 37/018 Z |
2020年10月30日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスク FI分類-G03F 1/32 |
2020年10月29日 特許庁 / 特許 | 難燃性エアーバッグ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B60R 21/235 |
2020年10月29日 特許庁 / 特許 | 量子ドット、波長変換材料、バックライトユニット、画像表示装置及び量子ドットの製造方法 FI分類-F21V 3/08, FI分類-G02B 5/20, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/56, FI分類-C09K 11/88, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-C01B 19/04 C, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-F21S 2/00 411, FI分類-F21V 3/00 530, FI分類-C09K 11/08 ZNMG |
2020年10月28日 特許庁 / 特許 | オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C07C 25/00, FI分類-C07C 69/90, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07C 69/80 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-C07C 69/92 CSP, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年10月27日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年10月27日 特許庁 / 特許 | プラスチック用離型剤 FI分類-C08K 5/06, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 83/04 |
2020年10月27日 特許庁 / 特許 | 合成石英ガラス基板の加工方法 FI分類-C03B 33/023, FI分類-C03B 20/00 Z |
2020年10月26日 特許庁 / 特許 | 多孔質ガラス母材の製造装置、および製造方法 FI分類-C03B 8/04 A, FI分類-C03B 8/04 E, FI分類-C03B 8/04 Z, FI分類-C03B 37/018 A |
2020年10月26日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2020年10月22日 特許庁 / 特許 | 解重合されたセルロースエーテルの製造方法 FI分類-C08B 11/00, FI分類-C08B 11/02, FI分類-C08B 11/08 |
2020年10月22日 特許庁 / 特許 | 解重合されたセルロースエーテルの製造方法 FI分類-C08B 11/00, FI分類-C08B 11/02, FI分類-C08B 11/08 |
2020年10月21日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年10月15日 特許庁 / 特許 | 耐アルカリ性撥水部材及び該撥水部材の製造方法並びに撥水部材の耐アルカリ性と耐摩耗性の向上方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 5/00 K, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-B32B 27/20 Z, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-B05D 7/24 302 L, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-B05D 7/24 303 B |
2020年10月15日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーンポッティング組成物およびその硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年10月14日 特許庁 / 特許 | ペリクル用粘着剤、粘着剤層付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、半導体の製造方法及び液晶表示板の製造方法 FI分類-G03F 1/62, FI分類-C09J 133/02, FI分類-C09J 133/06, FI分類-C09J 133/14 |
2020年10月13日 特許庁 / 特許 | 樹脂被覆金属粉末およびその製造方法ならびにこれを用いた水性塗料組成物 FI分類-C09C 1/62, FI分類-C09D 5/02, FI分類-C09D 5/08, FI分類-C09D 7/62, FI分類-B22F 1/00 R, FI分類-B22F 1/02 B, FI分類-C09D 163/00 |
2020年10月07日 特許庁 / 特許 | 液状シリコーンゴムスポンジ組成物及び高連泡シリコーンゴムスポンジの製造方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/06, FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08K 13/04, FI分類-C08K 5/053, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08J 9/12 CFH, FI分類-G03G 15/00 550, FI分類-G03G 15/00 551, FI分類-G03G 15/20 515 |
2020年10月07日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス堆積体の製造方法 FI分類-C03B 37/018 A |
2020年10月05日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び有機膜形成用化合物 FI分類-C08F 138/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/312 B, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年10月02日 特許庁 / 特許 | ハロアルケニル=アルコキシメチル=エーテル化合物並びにそれを用いた末端共役アルカジエン-1-イル=アセテート化合物及び末端共役アルカジエン-1-オール化合物の製造方法 FI分類-C07C 43/17, FI分類-C07C 67/28, FI分類-C07C 69/145 CSP |
2020年10月02日 特許庁 / 特許 | 6-ヒドロキシ-3-ヘキセニル=アルコキシメチル=エーテル化合物及びそれを用いた3,13-オクタデカジエン-1-オール化合物の製造方法 FI分類-C07C 29/10, FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 69/145, FI分類-C07C 43/178 C, FI分類-C07C 33/02 CSP |
2020年10月01日 特許庁 / 特許 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネートの製造方法 FI分類-A61K 9/16, FI分類-A61K 47/38, FI分類-C08B 13/00 |
2020年10月01日 特許庁 / 特許 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの製造方法 FI分類-C08B 3/12, FI分類-A61K 47/38, FI分類-C08B 13/00 |
2020年10月01日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー組成物、コーティング剤及び物品 FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09D 171/02, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-C08L 71/00 Y |
2020年10月01日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C09K 5/14 102 E |
2020年09月30日 特許庁 / 特許 | 紫外線発光素子用金属貼り合わせ基板の製造方法、及び紫外線発光素子の製造方法 FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 25/02 Z, FI分類-C30B 29/38 C |
2020年09月28日 特許庁 / 特許 | タンタル酸リチウム単結晶基板の製造方法 FI分類-C30B 33/02, FI分類-C30B 29/30 B |
2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型有機変性シリコーン組成物および硬化物 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C08K 5/5419 |
2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型有機変性シリコーン組成物および硬化物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/16 |
2020年09月24日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年09月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 FI分類-C08G 69/00, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/52, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/037, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/027 514, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G03F 7/075 521 |
2020年09月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-B32B 7/023, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08G 77/48, FI分類-B32B 27/18 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 511 |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 酸化物単結晶ウエハの製造方法 FI分類-C30B 29/30, FI分類-C30B 15/00 Z |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスク FI分類-G03F 1/32 |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 含フッ素硬化性組成物及び物品 FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 71/00 Z |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | コーティング剤組成物、表面処理方法及び物品 FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 171/00, FI分類-C09K 3/18 104 |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | ウエハ加工体、ウエハ加工用仮接着材、及び薄型ウエハの製造方法 FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/07, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2020年09月16日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/014 Z |
2020年09月10日 特許庁 / 特許 | EUVマスクブランク用多層反射膜付き基板、その製造方法及びEUVマスクブランク FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/34, FI分類-C23C 14/06 R, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年09月08日 特許庁 / 特許 | アルコール組成物の製造方法 FI分類-A01P 3/00, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/73, FI分類-A01N 31/02, FI分類-A61K 47/38, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-A61K 31/045, FI分類-A61K 31/047, FI分類-A61P 17/00 101 |
2020年09月07日 特許庁 / 特許 | アルコキシシリル基を有するポリシロキサザン化合物およびその製造方法、並びにこれを含む組成物および硬化物 FI分類-C08G 77/54, FI分類-C08G 77/392, FI分類-C08G 77/452, FI分類-B01J 31/22 Z, FI分類-C07B 61/00 300 |
2020年09月07日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法、並びに半導体装置、半導体装置の熱伝導性充填剤層の耐ポンプアウト性を改善する方法 FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/06 |
2020年09月04日 特許庁 / 特許 | 繊維処理剤 FI分類-A01P 1/00, FI分類-C07F 7/10 C, FI分類-D06M 13/463, FI分類-D06M 13/513, FI分類-A01N 55/10 100 |
2020年09月04日 特許庁 / 特許 | 成膜方法及び成膜装置 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/448, FI分類-C23C 16/458, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2020年09月02日 特許庁 / 特許 | ファラデー回転子及び光アイソレータの製造方法 FI分類-G02B 27/28 A, FI分類-H01L 21/78 F |
2020年09月01日 特許庁 / 特許 | 耐熱コート部材包装体および耐熱コート部材の包装方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-B65D 81/20 C, FI分類-B65D 81/20 F, FI分類-B65D 81/24 F, FI分類-C04B 41/87 M |
2020年09月01日 特許庁 / 特許 | フィルム成形用組成物及びフィルム FI分類-A61K 47/36, FI分類-A61K 47/38 |
2020年08月28日 特許庁 / 特許 | パワーモジュールの製造方法 FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/28 K |
2020年08月28日 特許庁 / 特許 | ポリビニルアルコール含有造粒物及び固形製剤 FI分類-A61K 9/14, FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/26, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61K 47/36, FI分類-A61K 47/38, FI分類-A61P 25/00, FI分類-A61K 31/167 |
2020年08月27日 特許庁 / 特許 | 基板の欠陥検査方法および欠陥検査装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A |
2020年08月27日 特許庁 / 特許 | シリコーン変性ポリイミド樹脂組成物 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 5/3475, FI分類-C09D 179/08, FI分類-C09J 179/08, FI分類-C08L 79/08 Z |
2020年08月21日 特許庁 / 特許 | 固形化粧料 FI分類-A61K 8/31, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61K 8/39, FI分類-A61K 8/60, FI分類-A61K 8/86, FI分類-A61K 8/92, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61Q 19/00 |
2020年08月20日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、その硬化物、シート、及び光学部品 FI分類-C08K 3/10, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年08月20日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性樹脂組成物、コーティング剤、接着剤及びシーリング剤、並びに物品 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08L 101/10, FI分類-C09D 183/08, FI分類-C09D 201/10, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-B32B 27/00 101 |
2020年08月20日 特許庁 / 特許 | 基板から受板へのレーザリフトオフを用いた(LED)ダイスの製造方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 33/48, FI分類-H01L 21/78 S, FI分類-H01L 21/78 V, FI分類-H01L 21/78 Y, FI分類-H01L 21/304 611 Z |
2020年08月19日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材の延伸方法 FI分類-C03B 37/012 Z |
2020年08月14日 特許庁 / 特許 | シリコーン接着剤組成物、及びシリコーンゴム硬化物 FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-H01L 21/68 R |
2020年08月12日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム膜の製造方法および縦型半導体装置の製造方法 FI分類-C30B 25/02, FI分類-C30B 29/16, FI分類-C30B 33/02 |
2020年08月07日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07F 9/06, FI分類-C07J 9/00, FI分類-C07C 39/27, FI分類-C07C 205/22, FI分類-C07C 279/26, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C07D 295/215, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年08月06日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/19, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年08月06日 特許庁 / 特許 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C08K 5/5445 |
2020年08月06日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性2液付加硬化型シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2020年08月06日 特許庁 / 特許 | エアーバッグ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物及びエアーバッグ FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/06, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-D06M 11/79, FI分類-D06M 15/53, FI分類-B60R 21/235, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/07, FI分類-D06M 13/513, FI分類-D06M 15/643 |
2020年08月05日 特許庁 / 特許 | ミラブル型シリコーンゴム組成物、シリコーンゴム硬化物及び電力ケーブル接続用電気絶縁部材 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/3472, FI分類-H01B 17/56 J |
2020年08月04日 特許庁 / 特許 | ポジ型感光性樹脂組成物、ポジ型感光性ドライフィルム、ポジ型感光性ドライフィルムの製造方法、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/40, FI分類-C08F 20/26, FI分類-C08F 20/54, FI分類-C08G 69/00, FI分類-C08G 73/08, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512 |
2020年08月04日 特許庁 / 特許 | 硬化性フルオロポリエーテル系接着剤組成物及び光学部品 FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 171/00, FI分類-C09J 183/05 |
2020年08月03日 特許庁 / 特許 | 両末端シラノール変性パーフルオロポリエーテル化合物およびその製造方法 FI分類-C08G 65/336, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/12 CSPX |
2020年08月03日 特許庁 / 特許 | 両末端アミン変性パーフルオロポリエーテル化合物およびその製造方法並びにこれを含む撥液性組成物、硬化物および被覆基材 FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08G 65/333, FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09D 183/12, FI分類-C09K 3/18 104 |
2020年07月30日 特許庁 / 特許 | 含フッ素有機ケイ素化合物の薄膜の光学定数計測方法 FI分類-G02B 1/18, FI分類-C08G 65/00, FI分類-G01N 21/41 Z, FI分類-G01N 21/49 Z |
2020年07月29日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月28日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 53/16, FI分類-C07C 53/19, FI分類-C07C 53/21, FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 279/04, FI分類-C07F 9/24 F, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年07月28日 特許庁 / 特許 | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 FI分類-C08G 77/16, FI分類-B32B 27/20 Z, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-C09K 3/18 103, FI分類-B32B 27/00 101 |
2020年07月27日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08K 3/34, FI分類-C08L 33/16, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08F 220/38, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2020年07月27日 特許庁 / 特許 | 第1級アミノシロキサン化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/10 CSPW |
2020年07月22日 特許庁 / 特許 | 3,3-ジメチル-1-ブテン-1,4-ジカルボキシレート化合物及び1,3,3-トリメチル-1-ブテン-1,4-ジカルボキシレート化合物、並びに、これらを用いた5,5-ジメチル-2-オキソ-3-シクロペンテン-1-カルボキシレート化合物及び3,5,5-トリメチル-2-オキソ-3-シクロペンテン-1-カルボキシレート化合物の製造方法 FI分類-C07C 67/317, FI分類-C07C 69/757 B, FI分類-C07C 69/602 CSP |
2020年07月21日 特許庁 / 特許 | 白金族金属系触媒及び硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート FI分類-C09D 4/02, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09D 183/04 |
2020年07月20日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09K 3/18 104 |
2020年07月17日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08F 226/06, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月17日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08F 226/06, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月17日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08F 226/06, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月14日 特許庁 / 特許 | 親水性基変性オルガノポリシロキサン及びその製造方法 FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08G 77/46 |
2020年07月13日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、積層体及びパターン形成方法 FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 511 |
2020年07月10日 特許庁 / 特許 | 環状シラザン構造を有する有機ケイ素化合物、これを含む組成物およびその製造方法 FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/18 CSPT |
2020年07月08日 特許庁 / 特許 | 1液型硬化性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 FI分類-C08K 3/16, FI分類-C08K 5/524, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年07月07日 特許庁 / 特許 | 重合体、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 73/14, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2020年07月07日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 39/24, FI分類-C07C 39/27, FI分類-C07C 219/04, FI分類-C07C 229/48, FI分類-C08F 222/00, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月07日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 39/24, FI分類-C07C 39/27, FI分類-C07J 43/00, FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 217/08, FI分類-C07C 219/04, FI分類-C07C 327/30, FI分類-C07D 209/08, FI分類-C07D 233/06, FI分類-C07D 235/08, FI分類-C07D 251/04, FI分類-C07D 295/03, FI分類-C08F 220/00, FI分類-C07D 295/088, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月03日 特許庁 / 特許 | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜の製造方法 FI分類-C30B 19/04, FI分類-C30B 29/28, FI分類-G02B 27/28 A |
2020年07月02日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造装置 FI分類-C01B 33/035 |
2020年07月01日 特許庁 / 特許 | 1,3-ジヒドロキシ-1,1,3,3-テトラ-tert-ブトキシジシロキサンの製造方法 FI分類-C07F 7/04 N |
2020年06月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスクブランク FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2020年06月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/82, FI分類-C23C 14/06 P |
2020年06月30日 特許庁 / 特許 | 低誘電樹脂基板 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08J 5/04 CEZ, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2020年06月26日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5445 |
2020年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 31/00, FI分類-C07D 285/16, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月24日 特許庁 / 特許 | (9Z,11E)-9,11-ヘキサデカジエナールの製造方法 FI分類-C07F 9/54, FI分類-C07C 41/48, FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 47/21, FI分類-C07C 43/303 |
2020年06月24日 特許庁 / 特許 | III-V族化合物結晶用ベース基板及びその製造方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/38, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/31 C |
2020年06月23日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 9/00, FI分類-C07C 53/16, FI分類-C07C 53/19, FI分類-C07C 53/23, FI分類-C07F 17/02, FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 217/08, FI分類-C07C 219/28, FI分類-C07C 327/30, FI分類-C07D 209/08, FI分類-C07D 233/06, FI分類-C07D 235/08, FI分類-C07D 251/04, FI分類-C07D 295/03, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C08F 228/02, FI分類-C07D 295/088, FI分類-C07D 295/096, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月23日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月23日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月22日 特許庁 / 特許 | 含フッ素アクリル化合物、含フッ素活性エネルギー線硬化性組成物、並びに物品 FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08G 65/331, FI分類-C08G 65/336 |
2020年06月19日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性環状イミド樹脂組成物 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 73/12, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09D 179/08, FI分類-C09J 179/08, FI分類-H01L 23/30 D |
2020年06月19日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び物品 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/20, FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5425 |
2020年06月19日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン組成物、分散液、酸化チタン組成物を表面層に有する部材 FI分類-C01B 33/40, FI分類-C01B 39/24, FI分類-A61L 9/00 C, FI分類-C01G 23/053 |
2020年06月18日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物、及び高熱伝導性を有する熱伝導性シリコーン硬化物 FI分類-C08K 3/20, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2020年06月17日 特許庁 / 特許 | アニールド石英ガラスクロスとその製造方法 FI分類-C03C 25/68, FI分類-C03C 25/002, FI分類-D03D 1/00 A, FI分類-D03D 15/12 A |
2020年06月16日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物、その硬化物、及び放熱シート FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/20, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/36 D |
2020年06月15日 特許庁 / 特許 | エポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-H01L 23/30 R |
2020年06月15日 特許庁 / 特許 | 量子ドットの製造方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C01G 21/00, FI分類-C01G 19/00 A, FI分類-C09K 11/08 ZNMA |
2020年06月15日 特許庁 / 特許 | シリコーンゴムスポンジ組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 7/22, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08J 9/32 CFH |
2020年06月15日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08G 77/14, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521 |
2020年06月12日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜材料、パターン形成方法、及びレジスト下層膜形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501 |
2020年06月12日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン組成物およびその硬化物 FI分類-C08L 83/07 |
2020年06月11日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型液状導電性シリコーンゴム組成物及び電子写真式画像形成部材 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 5/435, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-G03G 15/00 551, FI分類-G03G 15/00 552, FI分類-G03G 15/08 235 |
2020年06月11日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有テトラカルボン酸二無水物、その製造方法およびポリイミド樹脂 FI分類-C08G 73/14, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/08 CSPW |
2020年06月11日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月11日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月11日 特許庁 / 特許 | パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法 FI分類-C08G 77/46 |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | デバイス基板用仮接着剤、デバイス基板積層体及びデバイス基板積層体の製造方法 FI分類-B32B 7/12, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ母材 FI分類-C03B 37/018 A |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン化合物、該化合物を含む組成物及びそれらの製造方法 FI分類-C09D 183/06, FI分類-C09D 183/08, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/08, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C07F 7/18 CSPX |
2020年06月09日 特許庁 / 特許 | マスクブランクス用ガラス基板 FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 19/00 Z |
2020年06月08日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性エポキシ樹脂組成物、熱硬化性エポキシ樹脂シート、及びその硬化物 FI分類-C08G 59/32 |
2020年06月08日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/02, FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08K 5/33, FI分類-C08K 5/49, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年06月08日 特許庁 / 特許 | 高熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 7/18, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2020年06月05日 特許庁 / 特許 | 加水分解性オルガノシラン化合物及び室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の架橋剤 FI分類-C07F 7/18 CSPJ |
2020年06月05日 特許庁 / 特許 | 積層構造体及び積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/368 |
2020年06月04日 特許庁 / 特許 | 光酸発生剤、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 25/02, FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 309/07 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月04日 特許庁 / 特許 | オニウム塩、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 25/02, FI分類-C07C 211/63, FI分類-C07C 309/42, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年06月03日 特許庁 / 特許 | 導電性配線材料組成物、導電配線基板および導電配線基板の製造方法 FI分類-H01B 7/06, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/14 B, FI分類-H05K 1/09 D, FI分類-H01B 13/00 503 D |
2020年06月02日 特許庁 / 特許 | 低誘電シリカ粉体の製造方法 FI分類-C01B 33/18 Z |
2020年06月01日 特許庁 / 特許 | カテコール官能性オルガノポリシロキサン、その製造方法及び粉体処理剤 FI分類-A61K 8/29, FI分類-A61K 8/92, FI分類-A61K 8/893, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08L 83/06 |
2020年05月29日 特許庁 / 特許 | 表面処理無機粒子の製造方法 FI分類-C09C 1/36, FI分類-C09C 3/12, FI分類-C01G 23/00 C |
2020年05月27日 特許庁 / 特許 | 剥離シート用光硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 5/20, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08K 5/5435, FI分類-C09D 183/07, FI分類-B32B 27/00 L |
2020年05月26日 特許庁 / 特許 | 個体認証方法 FI分類-B42D 25/36, FI分類-C03C 15/00 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G06K 19/08 060, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2020年05月26日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2020年05月26日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー及びその製造方法 FI分類-C08G 65/331 |
2020年05月26日 特許庁 / 特許 | 含フッ素硬化性組成物及び物品 FI分類-C08F 290/06 |
2020年05月25日 特許庁 / 特許 | 量子ドット含有重合体とその製造方法 FI分類-G02B 5/20, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/56, FI分類-C09K 11/70, FI分類-C09K 11/88, FI分類-C09K 11/02 Z, FI分類-C09K 11/08 G, FI分類-C09K 11/00 ZNMZ |
2020年05月25日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性付加硬化型シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年05月22日 特許庁 / 特許 | 乳化剤及び乳化剤を含む乳化組成物 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-B01F 17/54, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 293/00, FI分類-B01J 13/00 A |
2020年05月22日 特許庁 / 特許 | ジブロック型共重合体、ジブロック型共重合体の製造方法及びジブロック型共重合体の使用 FI分類-C09C 3/10, FI分類-C09C 3/12, FI分類-C09D 7/62, FI分類-C09D 11/00, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 293/00, FI分類-C09D 201/00 |
2020年05月21日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン、およびそれを含有する組成物 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C09D 183/04 |
2020年05月20日 特許庁 / 特許 | 洗浄剤組成物、基板の洗浄方法及び支持体又は基板の洗浄方法 FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/32, FI分類-C11D 7/34, FI分類-C11D 7/50, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2020年05月19日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物並びにこれを用いた接着剤、基板材料、プライマー、コーティング材及び半導体装置 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 35/02, FI分類-C08F 299/02, FI分類-C09D 179/04, FI分類-C08L 79/00 B, FI分類-C09J 179/04 B, FI分類-H05K 1/03 610 H |
2020年05月18日 特許庁 / 特許 | 液状シリコーンゴムコーティング剤組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08K 5/29, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08L 83/04, FI分類-B60R 21/235, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09D 183/04 |
2020年05月18日 特許庁 / 特許 | シリコーンコーティングエアーバッグ基布の製造方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08K 5/29, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/04, FI分類-D06M 11/79, FI分類-D06M 13/51, FI分類-B60R 21/235, FI分類-C09D 183/04, FI分類-D06M 13/203, FI分類-D06M 15/643, FI分類-D06M 10/00 J |
2020年05月18日 特許庁 / 特許 | 繊維処理剤 FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08G 77/388, FI分類-D06M 15/643 |
2020年05月15日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び物品 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08L 71/12, FI分類-C08L 101/10, FI分類-C09D 171/12, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09J 171/12, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-F16J 15/14 C |
2020年05月15日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性シリコーン組成物、シート、及びシリコーン硬化物 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/07 |
2020年05月15日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物 FI分類-C07F 7/18 CSPX |
2020年05月14日 特許庁 / 特許 | 微小構造体の移載用基板およびその製造方法 FI分類-H01L 21/02 A, FI分類-H01L 21/02 C |
2020年05月13日 特許庁 / 特許 | ガラス母材の絞り加工方法 FI分類-C03B 23/047, FI分類-C03B 37/012 Z |
2020年05月13日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61K 8/90, FI分類-A61Q 1/00 |
2020年05月12日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン生ゴムの製造方法、及び、その生ゴムを用いたシリコーンゴム組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08G 77/06, FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08L 83/07 |
2020年05月11日 特許庁 / 特許 | サファイア基板の研削方法 FI分類-B24B 1/00 B, FI分類-B24B 7/04 B, FI分類-H01L 21/304 631 |
2020年05月11日 特許庁 / 特許 | 光硬化性シリコーン組成物、接着剤、シリコーン硬化物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2020年05月11日 特許庁 / 特許 | 離型フィルムおよび半導体部品の封止方法、樹脂成型物の製造方法 FI分類-B29C 33/68, FI分類-B32B 27/00 L, FI分類-H01L 21/56 R |
2020年05月11日 特許庁 / 特許 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 FI分類-C08G 77/14, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/06, FI分類-C09D 183/08 |
2020年05月08日 特許庁 / 特許 | 絶縁放熱シートの製造方法 FI分類-C08K 3/38, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年05月08日 特許庁 / 特許 | 圧電体複合基板およびその製造方法 FI分類-H03H 3/08, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/312, FI分類-H03H 9/25 C, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C |
2020年05月08日 特許庁 / 特許 | 圧電性単結晶膜を備えた複合基板の製造方法 FI分類-H03H 3/08, FI分類-H01L 41/31, FI分類-H01L 41/187 |
2020年05月08日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2020年05月07日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置用ダイアタッチ材 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 21/52 E |
2020年05月01日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン粒子、その分散液、光触媒薄膜、光触媒薄膜を表面に有する部材及び酸化チタン粒子分散液の製造方法 FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-C01G 23/04 Z, FI分類-B01J 23/745 M, FI分類-B01J 23/835 M, FI分類-B01J 23/847 M, FI分類-B01J 23/881 M, FI分類-B01J 23/888 M, FI分類-B01J 37/04 102 |
2020年05月01日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン粒子、その分散液、光触媒薄膜、光触媒薄膜を表面に有する部材及び酸化チタン粒子分散液の製造方法 FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-C01G 23/04 Z, FI分類-B01J 23/887 M, FI分類-B01J 23/889 M, FI分類-B01J 37/04 102 |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 複合基板の製造方法および複合基板 FI分類-H03H 3/08, FI分類-C30B 33/00, FI分類-C30B 33/06, FI分類-C30B 33/10, FI分類-C30B 33/12, FI分類-H03H 9/25 C, FI分類-C30B 29/30 A, FI分類-C30B 29/30 B, FI分類-H01L 21/02 B |
2020年04月29日 特許庁 / 特許 | プラスチック用離型剤 FI分類-C08K 5/42, FI分類-B29C 33/64, FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08J 7/04 Z, FI分類-C09K 3/00 R |
2020年04月28日 特許庁 / 特許 | ポリエーテル/ポリシロキサン架橋ゴム球状粒子及びこれを製造する方法、並びにポリエーテル/ポリシロキサン架橋複合粒子及びこれを製造する方法 FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/05 |
2020年04月28日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク用膜付き基板及び反射型マスクブランク FI分類-G03F 1/24 |
2020年04月27日 特許庁 / 特許 | 液状付加硬化型シリコーンゴム組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年04月27日 特許庁 / 特許 | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 FI分類-C08G 65/336, FI分類-C08L 101/10, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-B32B 27/00 101 |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08G 59/62, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08G 59/62, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | 平坦性制御方法、塗膜の形成方法、平坦性制御装置、及び塗膜形成装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | マイクロエマルション組成物並びにそれを含んだ化粧料 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/86, FI分類-A61Q 1/14, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 19/10 |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | シリコーン複合防汚シートおよびそれを用いた落書き防止施工方法 FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09J 7/38, FI分類-B32B 7/022, FI分類-E04H 17/00, FI分類-C09D 183/00, FI分類-C09J 183/04, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/00 101 |
2020年04月24日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物、シリコーンゴム及び物品 FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09D 183/04 |
2020年04月23日 特許庁 / 特許 | 高硬度皮膜形成用コーティング剤組成物 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/62, FI分類-C09D 183/16 |
2020年04月22日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサンを含有する組成物の製造方法、硬化膜の製造方法および被覆物品の製造方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C09D 183/04 |
2020年04月22日 特許庁 / 特許 | 密着性組成物、被覆基材および硬化物 FI分類-C07F 7/21, FI分類-C09D 7/20, FI分類-C07F 7/18 W, FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 183/08, FI分類-B32B 27/00 101 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | (ポリ)チオフェン-(ポリ)シロキサンブロックコポリマー及びその製造方法 FI分類-C08G 77/08, FI分類-C08G 77/42, FI分類-C08G 77/48 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン酸、2-イソプロペニル-5-メチル-4-ヘキセン-1-オール及びそのカルボン酸エステルの製造方法 FI分類-C07C 33/02, FI分類-C07C 51/09, FI分類-C07C 57/03, FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 67/10, FI分類-C07C 67/14, FI分類-C07C 29/147, FI分類-C07C 69/587 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、及び有機膜の形成方法 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 73/12, FI分類-C09D 179/08 Z, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 578, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 6-イソプロペニル-3-メチル-9-デセニル=アセテートの製造方法及びその中間体 FI分類-C07C 21/19, FI分類-C07C 17/263, FI分類-C07C 69/587, FI分類-C07C 67/08 CSP |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 被膜の耐候性を評価する方法、該被膜の製膜方法及び該被膜を有する物品 FI分類-C08G 65/00, FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09K 3/18 104 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 球状窒化アルミニウム粉末の製造方法 FI分類-C01B 21/072 G |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶、ファラデー回転子、光アイソレータ、およびビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法 FI分類-C01G 55/00, FI分類-C30B 19/04, FI分類-C30B 29/28, FI分類-G02F 1/09 501 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶、ファラデー回転子、光アイソレータ、およびビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法 FI分類-C01G 55/00, FI分類-C30B 19/04, FI分類-C30B 29/28, FI分類-G02F 1/09 501 |
2020年04月21日 特許庁 / 特許 | 半透複合膜及び半透複合膜の製造方法 FI分類-B01D 69/00, FI分類-B01D 69/02, FI分類-B01D 69/10, FI分類-B01D 69/12, FI分類-B01D 71/10, FI分類-B01D 71/56 |
2020年04月17日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08K 3/38, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09K 5/14 E |
2020年04月17日 特許庁 / 特許 | エポキシ樹脂組成物 FI分類-C08K 5/37, FI分類-C08G 59/66, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 63/02 |
2020年04月16日 特許庁 / 特許 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年04月15日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年04月15日 特許庁 / 特許 | ペリクル用粘着剤、ペリクル、ペリクル付露光原版、半導体装置の製造方法、液晶表示板の製造方法、露光原版の再生方法及び剥離残渣低減方法 FI分類-G03F 1/62, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | 自己接着ミラブル型シリコーンゴム組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08K 5/5435, FI分類-C08K 5/5465, FI分類-C09J 183/07 |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | 圧粉体および圧粉体の製造方法 FI分類-C09K 21/02, FI分類-C09K 21/04, FI分類-C09K 21/06, FI分類-C09K 21/12 |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | シリル化イソシアヌレート化合物の混合物及び金属腐食防止剤 FI分類-C23F 11/00 B |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | 硬化性有機ケイ素樹脂組成物 FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-H01L 23/30 F |
2020年04月13日 特許庁 / 特許 | 水性固体ゲル球状粒子の分散体及びその製造方法 FI分類-A61K 8/04, FI分類-A61K 8/25, FI分類-A61K 8/92, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61K 8/894 |
2020年04月10日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、その製造方法及び反射型マスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 R |
2020年04月10日 特許庁 / 特許 | 透明シリカガラス用組成物、及び透明シリカガラスの製造方法 FI分類-C03B 20/00 E |
2020年04月09日 特許庁 / 特許 | ポリシラザン化合物含有組成物 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C08K 5/1545 |
2020年04月08日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年04月08日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物、及び、光学素子 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2020年04月08日 特許庁 / 特許 | ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 21/52 E |
2020年04月06日 特許庁 / 特許 | シリカ被覆粒子及びその製造方法 FI分類-C09C 1/00, FI分類-C09C 3/06, FI分類-C09C 3/08, FI分類-C08G 77/42, FI分類-C01G 23/047, FI分類-C01G 23/04 B, FI分類-C08J 3/12 CEZ, FI分類-C08J 3/12 CERZ |
2020年04月03日 特許庁 / 特許 | 溶射材料、その製造方法、及び溶射皮膜の形成方法 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C01F 17/34, FI分類-C23C 4/134, FI分類-C01F 17/218, FI分類-C04B 41/87 K, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2020年04月03日 特許庁 / 特許 | 複合基板およびその製造方法 FI分類-H01L 21/02 B |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン接着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C09J 183/06 |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | シリコーン化合物の製造方法 FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C07F 7/08 X |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | ジメチルシクロブタン環を有するジエステル化合物及びその製造方法、並びにそれから誘導されるジメチルシクロブタン化合物の製造方法 FI分類-C07C 69/74 A, FI分類-C07C 67/313 CSP |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | ジメチルシクロブタノン化合物、ジメチルシクロブタン化合物及びそれらの製造方法 FI分類-C07C 69/14, FI分類-C07C 29/147, FI分類-C07D 309/12, FI分類-C07C 33/05 A, FI分類-C07C 43/178 C, FI分類-C07C 69/734 Z, FI分類-C07C 41/26 CSP |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | 複合基板およびその製造方法 FI分類-H01L 21/02 B |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/895, FI分類-A61Q 15/00, FI分類-A61Q 19/00 |
2020年04月01日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/06 |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | 徐放性フェロモン製剤及びこれを用いた害虫の防除方法 FI分類-A01M 29/12, FI分類-A01N 31/02, FI分類-A01P 19/00, FI分類-A01N 25/18 102 A |
2020年03月30日 特許庁 / 特許 | 量子ドットの製造方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C01B 19/04 A, FI分類-C01B 19/04 C, FI分類-C01B 25/08 A, FI分類-C01G 15/00 B, FI分類-C09K 11/08 G, FI分類-C09K 11/08 J, FI分類-C09K 11/08 ZNMA |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | 自己接着性シリコーンゲル組成物及びその硬化物からなるシリコーンゲル FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | 両末端ラクタートシリル変性オルガノポリシロキサン及びその製造方法 FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08G 77/50 |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | オイルシール用室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び自動車用部品 FI分類-C09K 3/10 G |
2020年03月25日 特許庁 / 特許 | 剥離シート用シリコーン組成物及び剥離シート FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09K 3/00 R |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 熱軟化性付加硬化型熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/14, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-B01J 31/12 Z |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | 加水分解性含フッ素有機ケイ素化合物の薄膜の品質評価方法及び品質管理方法 FI分類-C07F 7/18 F, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-G01B 11/06 Z |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサンおよびそれを含有する硬化性組成物 FI分類-C07F 7/18 CSPX, FI分類-C08G 18/32 053, FI分類-C08G 18/38 093 |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | 化粧料及び化粧料の製造方法 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/19, FI分類-A61K 8/29, FI分類-A61K 8/31, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/06, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61K 8/892, FI分類-A61K 8/894 |
2020年03月18日 特許庁 / 特許 | 反射防止膜付き合成石英ガラス基板、窓材、光学素子パッケージ用リッド、光学素子パッケージおよび光照射装置 FI分類-G02B 1/115, FI分類-H01L 33/60, FI分類-C03C 17/34 Z |
2020年03月17日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 101/10 |
2020年03月16日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び有機膜形成用化合物 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-H01L 21/312 B |
2020年03月16日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、パターン形成方法、及び有機膜形成用化合物 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-H01L 21/312 B |
2020年03月13日 特許庁 / 特許 | ケチミン構造を有する有機ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 P |
2020年03月13日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 8/04 D, FI分類-C03B 8/04 F, FI分類-C03B 37/018 A, FI分類-C03B 37/018 C, FI分類-C03B 37/018 Z |
2020年03月13日 特許庁 / 特許 | フィルム成形用組成物及びフィルム FI分類-A61K 9/36, FI分類-A61K 9/48, FI分類-C08L 1/28, FI分類-A61K 47/38 |
2020年03月12日 特許庁 / 特許 | エアーバッグ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物及びエアーバッグ FI分類-D06M 15/643 |
2020年03月11日 特許庁 / 特許 | シリコーン、及びその製造方法 FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/08 |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | ベースプレートの汚染防止方法 FI分類-C01B 33/037 |
2020年03月09日 特許庁 / 特許 | イソシアネート基含有有機ケイ素化合物及びイソシアネート基含有有機ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/10 CSPW |
2020年03月05日 特許庁 / 特許 | 塗布型有機膜形成用組成物、パターン形成方法、重合体および重合体の製造方法 FI分類-G03F 7/09, FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08G 61/00, FI分類-C08G 61/12, FI分類-C08L 65/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 578 |
2020年03月03日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/34 U |
2020年03月03日 特許庁 / 特許 | 二成分型室温縮合硬化性オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08L 83/06 |
2020年03月02日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成材料、有機膜形成方法、パターン形成方法及び化合物 FI分類-C07C 233/07, FI分類-C07C 233/64, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-C07C 69/40 CSP, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 1/06, FI分類-A61Q 1/08, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 3/02, FI分類-A61Q 5/12, FI分類-A61Q 15/00, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-C08L 83/04 |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | イソシアネート基含有有機ケイ素化合物及びイソシアネート基含有有機ケイ素化合物の製造方法 FI分類-B01J 23/42 Z, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/10 CSPW |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | ジブロック型オリゴ糖及びそれを含む界面活性剤 FI分類-B01F 17/56, FI分類-C07H 15/04 CSPA |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び物品 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09J 183/04 |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | 吸湿性シリコーン樹脂組成物、有機EL素子用透明封止材、有機EL素子用透明乾燥材、およびこれらの使用方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08K 5/5445 |
2020年02月25日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着剤組成物 FI分類-C09J 7/30, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/08, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-C09J 201/00 |
2020年02月20日 特許庁 / 特許 | コンクリート組成物の製造方法 FI分類-B28C 7/04, FI分類-C08L 1/26, FI分類-C04B 28/02, FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08K 5/521, FI分類-C08L 71/00, FI分類-C08L 93/00, FI分類-C04B 22/16 A, FI分類-C04B 24/06 A, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/26 H, FI分類-C04B 24/38 D, FI分類-C04B 24/38 Z |
2020年02月19日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年02月19日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料およびパターン形成方法 FI分類-C08G 8/10, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年02月18日 特許庁 / 特許 | 片末端重合性ポリオルガノシロキサン及びその製造方法 FI分類-C08G 77/388 |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランクス、その製造方法及び位相シフトマスク FI分類-G03F 1/32 |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物、熱硬化性接着剤、熱硬化性樹脂フィルム並びに前記熱硬化性樹脂組成物を用いた積層板、プリプレグ、及び回路基板 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 5/34, FI分類-C09J 7/35, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 71/12, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C08F 212/34, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-C08J 5/24 CEZ, FI分類-H05K 1/03 610 H |
2020年02月14日 特許庁 / 特許 | 透明低誘電ガラスプリプレグ、透明低誘電ガラスフィルムおよび透明低誘電ガラス基板並びにこれらの製造方法 FI分類-C08J 5/24 CEZ |
2020年02月14日 特許庁 / 特許 | 半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 59/18, FI分類-H01L 25/08 B, FI分類-H01L 21/60 311 S |
2020年02月13日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年02月13日 特許庁 / 特許 | 硬化触媒の拡散距離を測定する方法 FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08J 5/18 CFH, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 501, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年02月12日 特許庁 / 特許 | 押出成形用水硬性組成物、押出成形体の製造方法及び押出成形体 FI分類-C08K 7/02, FI分類-C08L 1/08, FI分類-C04B 28/04, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 95/00, FI分類-B28B 3/20 K, FI分類-C04B 16/02 Z, FI分類-C04B 16/06 A, FI分類-C04B 20/06 Z, FI分類-C04B 22/14 D, FI分類-C04B 24/38 B |
2020年02月12日 特許庁 / 特許 | 1成分型ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/02, FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08K 5/33, FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/524, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 量子ドット、波長変換材料、バックライトユニット、画像表示装置及び量子ドットの製造方法 FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/56, FI分類-C09K 11/62, FI分類-C09K 11/70, FI分類-C09K 11/88, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 ZNMG |
2020年02月07日 特許庁 / 特許 | ビスマレイミド化合物及びその製造方法 FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C07D 519/00 311, FI分類-C07D 519/00 CSP |
2020年02月05日 特許庁 / 特許 | 活性エネルギー線硬化性組成物、コーティング剤、および被膜物品 FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/02, FI分類-C09D 183/07 |
2020年02月05日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物及びその使用 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 35/06, FI分類-C08F 212/34, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C08F 290/06, FI分類-H05K 3/46 G, FI分類-H05K 3/46 S, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2020年02月03日 特許庁 / 特許 | 複合基板の製造方法 FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/313, FI分類-H01L 41/337 |
2020年02月03日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 7/20, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 9/02, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質、非水電解質二次電池用負極材、及び、リチウムイオン二次電池 FI分類-H01M 4/40, FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/36 C |
2020年01月24日 特許庁 / 特許 | 徐放性フェロモン製剤並びにこれを用いたクワコナカイガラムシ及びマツモトコナカイガラムシの同時防除方法 FI分類-A01N 37/02, FI分類-A01P 19/00, FI分類-A01M 1/02 B |
2020年01月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08L 61/14, FI分類-C08L 83/10, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2020年01月24日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/62, FI分類-C08G 77/50, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511 |
2020年01月24日 特許庁 / 特許 | ラジカル硬化型組成物及び硬化物 FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08G 77/52, FI分類-C08F 299/02 |
2020年01月22日 特許庁 / 特許 | 含フッ素硬化性組成物及び物品 FI分類-C08F 290/06 |
2020年01月21日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン接着剤組成物 FI分類-C09J 9/00, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07 |
2020年01月21日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーンポッティング組成物およびその硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H05K 7/20 A, FI分類-H01L 23/36 M, FI分類-C08J 5/00 CFH |
2020年01月20日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/52, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-H05K 3/28 F, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年01月16日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2020年01月16日 特許庁 / 特許 | 高熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08K 3/38, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/14 |
2020年01月16日 特許庁 / 特許 | 耐シリコーンオイル性に優れた自動車クーラントシール用室温硬化性組成物、及び自動車用クーラントシール材 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C08L 71/00 Y |
2020年01月15日 特許庁 / 特許 | 低誘電樹脂組成物 FI分類-C08G 73/12, FI分類-C08G 75/045 |
2020年01月10日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリル官能性オルガノポリシロキサンの製造方法、硬化性組成物およびインクジェット用インク FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08G 77/10, FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B41M 5/00 120 |
2020年01月10日 特許庁 / 特許 | III族窒化物基板の製造方法及びIII族窒化物基板 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C30B 25/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/38 D |
2020年01月07日 特許庁 / 特許 | 型取り用シリコーンゴム組成物およびシリコーンゴム型 FI分類-C08K 3/36, FI分類-B29C 33/40, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2020年01月07日 特許庁 / 特許 | 1,1,3,3-テトラアルコキシジシロキサン-1,3-ジオールの製造方法 FI分類-C07F 7/04 N |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | シリコーン弾性体粒子及び空隙を有するシリコーンエラストマー粒子、ならびにこれらの製造方法 FI分類-C08K 7/16, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08J 3/16 CFH |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | シリコーン弾性体及びその製造方法、シリコーンエラストマー多孔体の製造方法 FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08J 9/26 102, FI分類-C08J 9/26 CFH |
2019年12月26日 特許庁 / 特許 | 導電性ポリマー用高分子化合物及びその製造方法 FI分類-C08F 8/36, FI分類-C08F 212/00, FI分類-C08F 220/10 |
2019年12月26日 特許庁 / 特許 | 下層膜形成材料、下層膜の形成方法、及びパターン形成方法 FI分類-C07C 69/94, FI分類-C07D 233/74, FI分類-C07D 239/62, FI分類-C07D 307/88, FI分類-C07D 311/82, FI分類-C07D 251/34 G, FI分類-C07D 493/10 C, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 578, FI分類-C07D 487/04 136, FI分類-C07C 69/732 CSPZ |
2019年12月26日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン樹脂組成物 FI分類-C01F 5/02, FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C01F 7/02 D, FI分類-C09K 5/14 E |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 末端三重結合を有するアルコキシメチル=アルキニル=エーテル化合物の製造方法 FI分類-C07C 41/52, FI分類-C07C 43/30, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 剥離紙又は剥離フィルム用オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-D21H 19/32, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-B32B 27/00 L, FI分類-D21H 19/10 Z, FI分類-D21H 19/20 A, FI分類-D21H 27/00 A |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 9/00, FI分類-C07C 23/18, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07D 205/04, FI分類-C07D 207/08, FI分類-C07D 207/12, FI分類-C07D 211/22, FI分類-C07D 211/42, FI分類-C07D 211/48, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 405/12, FI分類-C08F 212/02, FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/02, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 9/00, FI分類-C07C 25/18, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07D 205/04, FI分類-C07D 207/08, FI分類-C07D 207/12, FI分類-C07D 211/22, FI分類-C07D 211/42, FI分類-C07D 211/48, FI分類-C07D 285/01, FI分類-C07D 291/06, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 405/12, FI分類-C08F 212/02, FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/06 |
2019年12月20日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物、半導体装置及びその製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/36 D |
2019年12月18日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物及びその使用 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 7/35, FI分類-C08F 36/20, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-H05K 3/46 T, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-C08J 5/24 CER |
2019年12月18日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、半導体積層体、半導体積層体の製造方法、半導体装置及び半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 59/14, FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 59/62, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年12月17日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性ケイ素含有化合物、ケイ素含有膜形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/00, FI分類-G03F 7/42, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年12月13日 特許庁 / 特許 | 希土類焼結磁石 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-C22C 38/00 304, FI分類-H01F 1/057 170, FI分類-C22C 38/00 303 D |
2019年12月13日 特許庁 / 特許 | ポリオルガノシロキサンのカチオン系エマルション組成物及びその製造方法 FI分類-A61K 8/04, FI分類-A61K 8/41, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-C08K 5/19, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/892, FI分類-A61K 8/893, FI分類-C08G 77/06, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-D06M 13/463, FI分類-D06M 15/643, FI分類-C09K 3/18 104 |
2019年12月12日 特許庁 / 特許 | オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C07C 59/64, FI分類-C07C 317/14, FI分類-C07C 59/135, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07C 69/76 Z, FI分類-C07C 69/757 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月12日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成材料、有機膜の形成方法、パターン形成方法、および化合物 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08F 26/04, FI分類-C08G 65/38, FI分類-C07D 403/14, FI分類-C08F 238/00, FI分類-C09D 139/04, FI分類-C09D 149/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-C07D 209/48 CSP, FI分類-C07D 487/04 136 |
2019年12月12日 特許庁 / 特許 | 4-メチル-5-ノナノン及び4-メチル-5-ノナノールの製造方法 FI分類-C07B 49/00, FI分類-C07C 45/48, FI分類-C07C 29/143, FI分類-C07C 31/125, FI分類-C07C 49/04 A |
2019年12月11日 特許庁 / 特許 | 新規オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 22/10, FI分類-C07D 327/06, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 495/08, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/00 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月10日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月10日 特許庁 / 特許 | 付加硬化性シリコーンゴム組成物及びその製造方法 FI分類-C08L 5/16, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池負極用添加剤、及び、非水電解質二次電池用水系負極スラリー組成物 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/62 Z |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | 活性エネルギー線硬化性組成物、コーティング剤および被覆物品 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/06, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 183/08 |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/70 |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | シリコーン粒子の製造方法 FI分類-C08F 299/08, FI分類-C08J 3/16 CFH |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | 親水性シリコーン粒子の製造方法 FI分類-C08F 2/24 A, FI分類-C08F 299/08 |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | 低誘電材料用ガラスクロス、プリプレグ、及びプリント配線基板 FI分類-C03C 25/32, FI分類-C03C 25/40, FI分類-C03C 25/1095, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80 |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | 基板の接着方法 FI分類-C09J 5/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | 希土類焼結磁石 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-C22C 38/00 304, FI分類-H01F 1/057 170, FI分類-C22C 38/00 303 D |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | 溶射用粒子の製造方法 FI分類-C23C 4/10, FI分類-C04B 35/16, FI分類-C04B 35/50 |
2019年12月03日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、パターン形成方法及び発光素子 FI分類-G02B 5/20, FI分類-C08G 77/50, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年12月02日 特許庁 / 特許 | 補強層含有熱伝導性シリコーン複合シートの製造方法 FI分類-B32B 7/027, FI分類-C08L 83/04, FI分類-B32B 5/00 A, FI分類-H01L 23/36 D, FI分類-B32B 27/00 101 |
2019年12月02日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン組成物およびその硬化物 FI分類-C08F 290/14 |
2019年11月29日 特許庁 / 特許 | コアシェル型量子ドットの製造方法 FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/56, FI分類-C09K 11/70, FI分類-C09K 11/88, FI分類-C01B 25/08 A, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 G |
2019年11月28日 特許庁 / 特許 | 発泡性シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム発泡体 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C08J 9/02 CFH |
2019年11月28日 特許庁 / 特許 | イソシアネート基のブロック剤、及び該ブロック剤で保護されたイソシアネート FI分類-C08G 18/80 090 |
2019年11月28日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用材料、パターン形成方法、及び重合体 FI分類-C08G 65/34, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 578 |
2019年11月27日 特許庁 / 特許 | 感光性ポリイミド樹脂組成物、パターン形成方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2019年11月27日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及び半導体装置 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/105, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/36 D |
2019年11月26日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月25日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/34, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月25日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/34, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月22日 特許庁 / 特許 | キーパッド作製用シリコーンゴム組成物及びキーパッド FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/057, FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C08K 5/5445 |
2019年11月21日 特許庁 / 特許 | 表面処理された光学部材 FI分類-G02B 1/18, FI分類-C09K 3/18 104 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | ポリエーテル変性シロキサン、塗料添加剤、塗料組成物、コーティング剤、コーティング層、及びポリエーテル変性シロキサンの製造方法 FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09D 7/65, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08G 81/00, FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09D 133/00, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 175/04, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/00 112 F |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 水系塗料添加剤、水系塗料組成物およびコーティング剤 FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09D 7/65, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08G 81/00, FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09D 201/00 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の塗膜形成方法 FI分類-C08K 3/011, FI分類-C08L 27/12, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/05, FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-C08J 7/04 CEZ, FI分類-C08J 7/04 CERA, FI分類-B05D 7/24 301 T, FI分類-B05D 7/24 302 L |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/07 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/07, FI分類-B32B 27/00 101 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/07 |
2019年11月14日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサンおよびそれを含有するコーティング用組成物 FI分類-C08K 5/17, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09D 183/06 |
2019年11月14日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及び熱伝導性シリコーンシート FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年11月11日 特許庁 / 特許 | 表面処理剤およびこれを用いた表面処理方法 FI分類-C09D 201/10, FI分類-C09K 3/18 104 |
2019年11月11日 特許庁 / 特許 | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶膜基板の製造方法 FI分類-B24B 7/20, FI分類-B24B 37/08, FI分類-C30B 29/28, FI分類-C30B 33/00, FI分類-B24B 27/06 M, FI分類-B24B 37/30 C, FI分類-C30B 19/00 Z |
2019年11月11日 特許庁 / 特許 | パーフルオロポリエーテル系ゴム組成物とその硬化物及びそれを含む製品 FI分類-C08L 71/00, FI分類-C08G 65/325, FI分類-C08G 65/333 |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基を有する有機ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/12 J, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/00, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/54, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | エポキシ変性シリコーン微粒子及びその製造方法、並びに該微粒子を含有する熱硬化性樹脂組成物及び封止材 FI分類-C08G 59/30 |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | 赤外線透過性硬化型組成物、その硬化物および光半導体装置 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物、活性エネルギー線硬化性組成物および被膜物品 FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/54, FI分類-C07F 7/10 CSPW |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネートの製造方法 FI分類-C08B 3/06, FI分類-C08B 3/12, FI分類-C08B 3/16, FI分類-C08B 3/28, FI分類-C08B 13/00, FI分類-C08B 17/02, FI分類-B01F 7/30 Z |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレートの製造方法 FI分類-B01F 7/24, FI分類-C08B 13/00, FI分類-B01F 7/16 F, FI分類-B01F 7/16 G, FI分類-B01F 7/18 B, FI分類-B01F 7/30 Z |
2019年10月31日 特許庁 / 特許 | 低誘電樹脂組成物 FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08L 35/02, FI分類-C08L 61/18, FI分類-C08L 83/05 |
2019年10月31日 特許庁 / 特許 | 単結晶インゴットの製造方法及び単結晶ウエハの製造方法 FI分類-C30B 15/36, FI分類-C30B 29/30 A, FI分類-C30B 29/30 B |
2019年10月30日 特許庁 / 特許 | シロイチモジヨトウの防除方法 FI分類-A01N 31/02, FI分類-A01N 31/08, FI分類-A01N 37/06, FI分類-A01P 19/00, FI分類-A01M 1/02 B, FI分類-A01N 43/647 |
2019年10月30日 特許庁 / 特許 | アミノ変性シリコーンのエマルジョン、毛髪化粧料および繊維処理剤 FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/36, FI分類-A61K 8/45, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-C08K 3/20, FI分類-C08K 5/09, FI分類-A61K 8/365, FI分類-A61K 8/898, FI分類-C08K 5/053, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/08, FI分類-D06M 15/643 |
2019年10月29日 特許庁 / 特許 | 塗料添加剤、塗料組成物、及びコーティング層 FI分類-C08K 5/06, FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09D 7/65, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C09D 201/00 |
2019年10月29日 特許庁 / 特許 | 水系塗料用添加剤、水系塗料組成物、及びコーティング層 FI分類-C08K 5/06, FI分類-C09D 5/16, FI分類-C09D 7/65, FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C09D 201/00 |
2019年10月29日 特許庁 / 特許 | 液状シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴムスポンジ FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/053, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 101/00 |
2019年10月25日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/00, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/07 |
2019年10月24日 特許庁 / 特許 | ガリウム前駆体の製造方法およびこれを用いた積層体の製造方法 FI分類-C30B 29/16, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-C01G 15/00 J, FI分類-C30B 25/02 Z, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年10月24日 特許庁 / 特許 | ロングライフクーラントシール用室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び冷却クーラントオイルシール用シリコーンゴム硬化物並びに冷却クーラントオイルシール FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09K 3/10 G |
2019年10月24日 特許庁 / 特許 | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及び光学部品 FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08L 71/00 B |
2019年10月18日 特許庁 / 特許 | 透明シリカガラス基板用組成物、透明シリカガラス基板及びその製造方法 FI分類-C03C 3/06, FI分類-C03B 20/00 E, FI分類-C03B 20/00 F |
2019年10月16日 特許庁 / 特許 | プリプレグ、及びプリント配線基板 FI分類-B29B 11/16, FI分類-C03C 25/002, FI分類-D03D 1/00 A, FI分類-D06C 7/00 Z, FI分類-D03D 15/00 A, FI分類-H05K 1/03 610 T |
2019年10月16日 特許庁 / 特許 | 2-(1,2,2-トリメチル-3-シクロペンテニル)-2-オキソエチル=2-メチルブチレート、それを含むフェロモン剤及びフェロモン製剤、並びにエアリアル=ルート=ミーリーバグの管理方法 FI分類-A01N 37/12, FI分類-A01P 19/00, FI分類-C07C 69/24, FI分類-C07C 67/10 CSP |
2019年10月16日 特許庁 / 特許 | 2-(1,2,2-トリメチル-3-シクロペンテニル)-2-オキソエチル=カルボキシレート化合物及びヒドロキシメチル=1,2,2-トリメチル-3-シクロペンテニル=ケトンの製造方法、並びにハロメチル=(1,2,2-トリメチル-3-シクロペンテニル)=ケトン化合物 FI分類-C07C 67/10, FI分類-C07C 69/24, FI分類-C07C 69/78, FI分類-C07C 49/567 CSP |
2019年10月16日 特許庁 / 特許 | プリプレグ用シリカガラスクロス FI分類-D02G 3/18, FI分類-D02G 3/26, FI分類-D03D 15/41, FI分類-C03C 25/002, FI分類-D03D 1/00 A, FI分類-D03D 15/267 |
2019年10月15日 特許庁 / 特許 | 水分散型エマルション組成物及びその製造方法、エマルション付加硬化組成物、及び化粧料 FI分類-A61K 8/04, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-B01F 17/30, FI分類-B01F 17/38, FI分類-B01F 17/54, FI分類-C08K 5/053, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年10月11日 特許庁 / 特許 | 表面処理シリカ粒子及びその分散体、並びに表面処理シリカ粒子粉体の製造方法 FI分類-C09C 1/30, FI分類-C09C 3/12, FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/62, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C01B 33/18 C |
2019年10月09日 特許庁 / 特許 | ペリクルとその専用ペリクルケースからなるアセンブリ FI分類-G03F 1/62, FI分類-G03F 1/66, FI分類-H01L 21/68 U |
2019年10月09日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法、及び基板の製造方法 FI分類-B29C 65/50, FI分類-B32B 27/38, FI分類-B32B 27/42, FI分類-B32B 37/06, FI分類-B32B 27/00 101 |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着剤用プライマー組成物 FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 7/50, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/06, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、その硬化物、及び半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、その硬化物、及び半導体装置 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08L 83/10, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、その硬化物、及び半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 C, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年10月07日 特許庁 / 特許 | 酸素硬化性シリコーン組成物およびその硬化物 FI分類-C08F 299/08 |
2019年10月04日 特許庁 / 特許 | 単結晶育成装置 FI分類-C30B 29/30, FI分類-C30B 15/00 Z |
2019年10月04日 特許庁 / 特許 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/36, FI分類-C08G 77/24, FI分類-C08L 83/08, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年10月04日 特許庁 / 特許 | 伸縮性膜及びその形成方法 FI分類-B32B 3/30, FI分類-B29C 41/12, FI分類-B32B 27/40, FI分類-B32B 37/26, FI分類-B32B 15/095, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08J 5/18 CEY, FI分類-C08J 5/18 CFH, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-C08G 18/38 093, FI分類-C08G 18/67 010, FI分類-C08J 7/04 CFFB |
2019年10月04日 特許庁 / 特許 | 伸縮性配線膜の形成方法 FI分類-B32B 3/30, FI分類-B32B 27/40, FI分類-B32B 7/025, FI分類-H05K 1/02 A, FI分類-C08J 7/04 CFH, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-C08J 7/04 CFFD, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 3/12 610 A |
2019年10月04日 特許庁 / 特許 | ヨウ素含有熱硬化性ケイ素含有材料、これを含むEUVリソグラフィー用レジスト下層膜形成用組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/24, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年10月03日 特許庁 / 特許 | 負極活物質、負極及び負極活物質の製造方法 FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/485, FI分類-H01M 4/36 C |
2019年10月03日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/62 Z |
2019年10月02日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン粒子、酸化チタン粒子分散液及び酸化チタン粒子分散液の製造方法 FI分類-C01G 23/053, FI分類-C01G 23/00 C |
2019年10月02日 特許庁 / 特許 | シリコーンゴム球状粒子、シリコーン複合粒子及びこれらの製造方法 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/14 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | III族化合物基板の製造方法及びその製造方法により製造した基板 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/38, FI分類-H01L 21/205 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ母材の測定方法 FI分類-C03B 37/018 A |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | ハーフトーン位相シフト型フォトマスクブランク、その製造方法、及びハーフトーン位相シフト型フォトマスク FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/58 A |
2019年09月26日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 希土類磁石の製造方法 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-B22F 3/24 K, FI分類-B22F 3/24 L, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-H01F 41/02 G, FI分類-H01F 1/057 170, FI分類-C22C 38/00 303 D |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 化粧料のソフトフォーカス効果を評価する方法 FI分類-A61K 8/02, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-G01N 21/47 B |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | LEDヘッドランプ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物及びLEDヘッドランプ FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08F 287/00, FI分類-C08K 5/3492 |
2019年09月18日 特許庁 / 特許 | 複合伸縮性膜及びその形成方法 FI分類-B32B 27/36, FI分類-B32B 27/40, FI分類-C08G 18/42, FI分類-C08G 18/44, FI分類-C08G 18/61, FI分類-C08G 18/67, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-B32B 27/36 102, FI分類-C08G 18/40 009, FI分類-A61B 5/04 300 V |
2019年09月17日 特許庁 / 特許 | 構造シーラント吐出装置 FI分類-B05C 17/01, FI分類-E04G 21/16, FI分類-E04F 21/12 T |
2019年09月17日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物およびその硬化物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-B33Y 70/00, FI分類-B29C 64/106, FI分類-C08F 290/06, FI分類-B41M 5/00 120 |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | 硬化性シリコーンゲル組成物及びシリコーンゲル硬化物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | マイクロディスプレイ基板の製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 310, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリル基含有オルガノポリシロキサンの製造方法 FI分類-C08G 77/10 |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | 重合性官能基含有オルガノシロキサン及び光硬化性組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08F 30/08 |
2019年09月09日 特許庁 / 特許 | エアーバッグ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物及びエアーバッグ FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/29, FI分類-C08K 13/02, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B60R 21/235, FI分類-C08K 5/5465 |
2019年09月06日 特許庁 / 特許 | 環状ポリシロキサンの製造方法 FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年09月06日 特許庁 / 特許 | アルキニル基含有環状オルガノポリシロキサン及びヒドロシリル化反応制御剤 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C07F 7/21 CSP |
2019年09月06日 特許庁 / 特許 | アルキニル基含有オルガノポリシロキサン及びヒドロシリル化反応制御剤 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C07F 7/18 CSPX |
2019年09月05日 特許庁 / 特許 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及びその硬化物、並びにミラブル型シリコーンゴム組成物用シリコーンゴムコンパウンド FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/04 |
2019年09月04日 特許庁 / 特許 | 4-ペンテン-2-イナールの製造方法 FI分類-C07C 41/50, FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 43/303, FI分類-C07C 47/222, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年09月04日 特許庁 / 特許 | ジアルコキシアルカジエンイン化合物及びその製造方法並びにジエンイナール化合物の製造方法 FI分類-C07C 41/50, FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 43/303, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07C 47/222 CSP |
2019年09月04日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクの欠陥分類方法及び欠陥分類システム並びにフォトマスクブランクの選別方法及び製造方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 A |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | マレイミド樹脂フィルム及びマレイミド樹脂フィルム用組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C08L 79/08 Z |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | ガラス微粒子堆積体の製造方法 FI分類-C03B 8/04 F, FI分類-C03B 37/018 A, FI分類-C03B 37/018 C, FI分類-G02B 6/02 356 A |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | 積層構造体及び半導体装置並びに積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | 積層構造体、半導体装置及び半導体システム FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | 積層構造体及び半導体装置並びに積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年09月03日 特許庁 / 特許 | 積層構造体の製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 29/24, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z, FI分類-H01L 29/86 301 D, FI分類-H01L 29/86 301 F, FI分類-H01L 29/86 301 M, FI分類-H01L 29/86 301 P |
2019年09月02日 特許庁 / 特許 | オニウム塩、レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C07C 25/02, FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 317/12, FI分類-C07D 333/46, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 335/02, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年09月02日 特許庁 / 特許 | 金属膜形成方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/285 C, FI分類-H01L 21/285 301, FI分類-H01L 21/28 301 R |
2019年09月02日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び光半導体装置用ダイアタッチ材 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2019年09月02日 特許庁 / 特許 | 積層構造体、半導体装置及び半導体システム FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | タンタル酸リチウム単結晶の製造方法 FI分類-C30B 33/02, FI分類-C30B 33/04, FI分類-C30B 15/00 Z, FI分類-C30B 29/30 B |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 29/24, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 29/91 B, FI分類-H01L 29/91 F, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 49/92, FI分類-C07C 69/72, FI分類-G03F 7/004, FI分類-C07F 7/00 A, FI分類-C07F 7/00 Z, FI分類-C07F 7/22 U, FI分類-C07F 7/28 F, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物及び光学素子 FI分類-C08G 77/52, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 積層構造体及び半導体装置並びに積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 積層構造体、半導体装置及び結晶性酸化膜の成膜方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/477, FI分類-H01L 21/208 Z |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5419 |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2019年08月28日 特許庁 / 特許 | 積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 618 F, FI分類-H01L 29/78 626 C |
2019年08月28日 特許庁 / 特許 | 結晶性酸化物膜 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 29/24, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 618 F, FI分類-H01L 29/78 626 C |
2019年08月27日 特許庁 / 特許 | 篩分け低置換度ヒドロキシプロピルセルロースの製造方法 FI分類-C08B 11/08, FI分類-B07B 1/00 B, FI分類-B07B 1/28 Z |
2019年08月27日 特許庁 / 特許 | 微小構造体の実装方法 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 5/00, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/60 311 Q, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年08月27日 特許庁 / 特許 | 微小構造体が実装された回路基板の製造方法 FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/60 311 Q, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | 伸縮性膜及び伸縮性膜の形成方法 FI分類-B32B 27/40, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-A61B 5/04 300 C, FI分類-A61B 5/04 300 M |
2019年08月22日 特許庁 / 特許 | ガラス・オン・シリコン基板およびその製造方法 FI分類-C03C 27/02 Z, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 27/12 B |
2019年08月21日 特許庁 / 特許 | 透明液状シリコーンゴム組成物及び硬化物 FI分類-C08K 9/04, FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08J 5/18 CFH |
2019年08月21日 特許庁 / 特許 | シリコーン樹脂とポリオレフィン系樹脂との接着用プライマー組成物、及びシリコーン樹脂とポリオレフィン系樹脂との接着方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09J 5/02, FI分類-C09D 143/04, FI分類-C09D 5/00 D |
2019年08月20日 特許庁 / 特許 | セルロース組成物、セルロース成形体及びセルロース組成物の製造方法、並びにセルロース成形体の靭性を改善する方法 FI分類-C08L 1/02, FI分類-C08L 1/26, FI分類-C08J 3/21 CEP |
2019年08月19日 特許庁 / 特許 | 口腔内崩壊錠用組成物及びその製造方法並びにこれを用いた口腔内崩壊錠及びその製造方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 47/22, FI分類-A61K 47/26, FI分類-A61K 47/38 |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 低置換度ヒドロキシプロピルセルロース及び固形製剤 FI分類-A61K 47/38, FI分類-C08B 11/08 |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 分散性粉体及び化粧料 FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61K 8/39, FI分類-A61K 8/60, FI分類-A61K 8/73, FI分類-A61K 8/81, FI分類-A61K 8/84, FI分類-A61K 8/85, FI分類-A61K 8/86, FI分類-A61K 8/87, FI分類-A61K 8/88, FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61K 8/96, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 5/12, FI分類-A61K 8/892, FI分類-A61K 8/895, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2019年08月15日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性樹脂組成物、コーティング剤、接着剤及びシーリング剤、並びに物品 FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08L 101/10, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 201/10, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 201/10, FI分類-C09K 3/10 G |
2019年08月09日 特許庁 / 特許 | 縮合硬化型シリコーン水分散物及びその製造方法、並びにシリコーン皮膜 FI分類-C08K 5/04, FI分類-C09D 5/02, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C09D 183/14 |
2019年08月09日 特許庁 / 特許 | 減水剤組成物及びその製造方法、並びに水硬性組成物及びその製造方法 FI分類-C08L 1/26, FI分類-C08L 1/28, FI分類-C08L 5/00, FI分類-C04B 28/04, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 101/14, FI分類-C04B 24/22 C, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/38 D, FI分類-C04B 24/38 Z |
2019年08月09日 特許庁 / 特許 | ホイップクリーム用水中油型組成物 FI分類-A23L 9/20, FI分類-A23C 13/14, FI分類-A23D 7/00 508 |
2019年08月09日 特許庁 / 特許 | エアゾール食品用組成物、ヒドロキシプロピルメチルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースの製造方法 FI分類-A23C 9/12, FI分類-A23C 13/00, FI分類-A23L 23/00, FI分類-A23C 19/068, FI分類-A23L 5/00 Z, FI分類-A23L 27/00 D, FI分類-A23L 27/50 C, FI分類-A23L 27/60 A |
2019年08月06日 特許庁 / 特許 | 溶射材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C01F 17/265, FI分類-H01L 21/68 R |
2019年08月06日 特許庁 / 特許 | 溶射材料 FI分類-C23C 4/04, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2019年08月05日 特許庁 / 特許 | オルガノハイドロジェンポリシロキサンのエマルション、及びこれを用いた付加硬化型シリコーンエマルション組成物 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年08月02日 特許庁 / 特許 | サスペンションプラズマ溶射用スラリー及び溶射皮膜の形成方法 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C23C 4/134 |
2019年08月02日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年08月02日 特許庁 / 特許 | 積層体、半導体膜、半導体装置、半導体システム及び積層体の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-H01L 21/365 |
2019年08月02日 特許庁 / 特許 | 希土類酸化物粒子 FI分類-C23C 4/11, FI分類-C23C 4/134, FI分類-C01F 17/206, FI分類-C01F 17/218 |
2019年08月01日 特許庁 / 特許 | GaN積層基板の製造方法 FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/34, FI分類-C30B 33/06, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/38 D, FI分類-H01L 21/02 B |
2019年08月01日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン化合物を含有する組成物、その製造方法、コーティング剤及び被覆物品 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09D 183/06 |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08F 20/20, FI分類-C08L 33/04, FI分類-C07C 219/14, FI分類-C07D 207/08, FI分類-C07D 211/22, FI分類-C07D 235/12, FI分類-C07D 451/06, FI分類-C07D 451/12, FI分類-C07D 453/02, FI分類-C07D 295/088, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性マレイミド樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 7/18, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-H05K 3/18 B, FI分類-H01L 23/30 D, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 1/03 610 R |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | 水溶性セルロースエーテルの製造方法 FI分類-A23L 29/20, FI分類-C08B 11/00, FI分類-C08B 11/08 |
2019年07月25日 特許庁 / 特許 | 反応性シリル基を有するパーフルオロオキシアルキレン基含有ポリマーの製造方法 FI分類-C08G 65/329, FI分類-C08G 65/336 |
2019年07月25日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造装置 FI分類-C01B 33/035 |
2019年07月23日 特許庁 / 特許 | 合成石英ガラスキャビティ、合成石英ガラスキャビティリッド、光学素子パッケージ及びこれらの製造方法 FI分類-H01L 33/48, FI分類-H01L 23/02 D, FI分類-H01L 23/02 F, FI分類-H01L 23/08 B |
2019年07月22日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/07 |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 芳香族ビスマレイミド化合物及びその製造方法 FI分類-C08G 73/10 |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | プラスチック積層体及びその製造方法 FI分類-G02B 1/14, FI分類-B32B 7/022, FI分類-B32B 9/00 A |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着剤組成物及びこれを用いた粘着テープ又は粘着フィルム FI分類-C09J 7/35, FI分類-C09J 11/00, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | 複合基板の製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 27/12 B, FI分類-B23K 20/00 310 L |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | トリアリルシアヌレート含有付加硬化型シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08K 5/3492, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-B65D 65/02 E |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン粘着剤組成物およびその硬化物 FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C09J 133/04, FI分類-C09J 183/07 |
2019年07月16日 特許庁 / 特許 | 組成物 FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 91/00, FI分類-C08F 220/12 |
2019年07月16日 特許庁 / 特許 | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 FI分類-C08L 27/22, FI分類-B05D 5/00 H, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-B05D 7/24 302 L, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2019年07月12日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、パターン形成方法及び重合体 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 61/02, FI分類-C09D 165/00, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年07月12日 特許庁 / 特許 | シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-H01L 25/04 C |
2019年07月11日 特許庁 / 特許 | 基板加工用仮接着材料及び積層体の製造方法 FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2019年07月10日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/68, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511 |
2019年07月10日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂皮膜、感光性ドライフィルム、及びブラックマトリックス FI分類-C08G 59/20, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511 |
2019年07月10日 特許庁 / 特許 | 親油性基含有オルガノシラン化合物、表面処理剤及び物品 FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-B05D 5/06 C, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/18 CSPW, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-B05D 7/24 302 Z |
2019年07月10日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性ポリブタジエン樹脂組成物、その製造方法及び実装回路基板 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 18/69, FI分類-C08L 75/14, FI分類-C09D 109/00, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-H05K 3/28 G |
2019年07月09日 特許庁 / 特許 | 11-ハロ-3-ウンデセン化合物及びその製造方法、並びに9-ドデセナール化合物の製造方法 FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 47/21 |
2019年07月09日 特許庁 / 特許 | 8-ウンデセニル求核試薬及びその製造方法、並びに9-ドデセナール化合物の製造方法 FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 47/21, FI分類-C07F 3/02 B |
2019年07月08日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム膜の製造方法 FI分類-C30B 7/04, FI分類-C30B 29/16, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年07月05日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用組成物、半導体装置製造用基板、有機膜の形成方法、及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年07月05日 特許庁 / 特許 | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08G 59/62, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-H01L 23/00 C, FI分類-H01L 23/28 F, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年07月05日 特許庁 / 特許 | 重合体 FI分類-C08G 61/12, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511 |
2019年07月03日 特許庁 / 特許 | 伸縮性膜及びその形成方法 FI分類-C08G 18/67, FI分類-C08J 5/18 CEY, FI分類-C08G 18/38 002, FI分類-C08G 18/38 093, FI分類-C08G 18/65 011 |
2019年07月03日 特許庁 / 特許 | プライマー組成物及びこれを用いた光半導体装置 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 5/07, FI分類-C08L 33/04, FI分類-H01L 33/54, FI分類-H01L 33/56, FI分類-C08F 220/12, FI分類-C08F 220/26 |
2019年07月02日 特許庁 / 特許 | 成膜用粉末、皮膜の形成方法、及び成膜用粉末の製造方法 FI分類-C01B 11/24, FI分類-C23C 24/04 |
2019年07月02日 特許庁 / 特許 | 成膜用粉末、及び皮膜の形成方法 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 4/11, FI分類-C23C 24/04, FI分類-C01F 17/259 |
2019年07月01日 特許庁 / 特許 | ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド構造を含む重合体、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、感光性ドライフィルム及び電気・電子部品保護用皮膜 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512 |
2019年07月01日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物を含有する接着剤組成物 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C07F 7/18 Z, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 175/04, FI分類-C09J 201/00 |
2019年06月26日 特許庁 / 特許 | 表面弾性波デバイス用複合基板及びその製造方法 FI分類-H03H 3/08, FI分類-H01L 41/31, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/337, FI分類-H03H 9/25 C |
2019年06月26日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及び熱伝導性シート FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04 |
2019年06月24日 特許庁 / 特許 | ラジカル硬化型シリコーン組成物及び硬化物 FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C09K 11/02 Z, FI分類-C09K 11/70 ZNM |
2019年06月21日 特許庁 / 特許 | 剥離紙又は剥離フィルム用オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09K 3/00 R |
2019年06月20日 特許庁 / 特許 | 酸化物半導体膜及び半導体装置 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365 |
2019年06月19日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性複合シリコーンゴムシート FI分類-C09J 7/25, FI分類-C09J 7/38, FI分類-B32B 25/20, FI分類-B32B 7/022, FI分類-B32B 7/027, FI分類-C09J 183/04 |
2019年06月19日 特許庁 / 特許 | 塩化ビニル系重合体の製造方法 FI分類-C08F 2/20, FI分類-C08F 14/06 |
2019年06月19日 特許庁 / 特許 | 塩化ビニル系重合体の製造方法 FI分類-C08F 2/20, FI分類-C08F 14/06 |
2019年06月18日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーンコーティング組成物、シリコーン硬化物及び光半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年06月18日 特許庁 / 特許 | ゴム物品及びゴム製品の製造方法 FI分類-C08K 5/14, FI分類-B32B 25/20, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 27/12 |
2019年06月18日 特許庁 / 特許 | 撥水剤組成物 FI分類-C07F 9/54, FI分類-C09D 4/02, FI分類-C08G 77/22, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08G 77/382, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09K 3/18 104 |
2019年06月17日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンロッドの製造方法 FI分類-C01B 33/035 |
2019年06月14日 特許庁 / 特許 | 酸化物半導体膜の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年06月14日 特許庁 / 特許 | エステル基含有(加水分解性)オルガノシラン化合物、表面処理剤及び物品、並びに物品の指紋低視認性を向上する方法 FI分類-C08G 77/14, FI分類-C07F 7/18 W, FI分類-C09D 183/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C07F 7/18 CSPJ |
2019年06月11日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造装置および製造方法 FI分類-C03B 8/04 J, FI分類-C03B 37/018 Z, FI分類-G02B 6/02 356 A |
2019年06月11日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 8/04 J, FI分類-C03B 37/018 Z |
2019年06月07日 特許庁 / 特許 | 繊維処理剤 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C08G 59/50, FI分類-C08G 73/02, FI分類-C08L 63/00, FI分類-C08L 83/12, FI分類-D06M 15/65 |
2019年06月06日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08L 61/06, FI分類-C08L 79/04, FI分類-C08K 5/3445, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年06月06日 特許庁 / 特許 | シロキサン及びその製造方法 FI分類-C08K 5/10, FI分類-A61L 27/16, FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C07F 7/08 CSPX |
2019年06月06日 特許庁 / 特許 | シロキサンの製造方法 FI分類-C07F 7/08 X, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年06月06日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷を行う錠剤向けのコーティング用組成物、これを用いた水性インクによる印字を有する錠剤及びその製造方法 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61K 47/38, FI分類-C09D 11/54, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120, FI分類-B41M 5/00 132 |
2019年06月05日 特許庁 / 特許 | 嵩高い置換基を有するオルガノシラン化合物およびその製造方法 FI分類-C07F 7/12 L, FI分類-C07F 7/12 CSPD |
2019年06月05日 特許庁 / 特許 | 希土類炭酸塩微粒子の製造方法及び希土類炭酸塩微粒子 FI分類-C01F 17/00 Z |
2019年06月05日 特許庁 / 特許 | オルガノシラン、表面処理剤、コーティング組成物および被膜物品 FI分類-C08G 77/28, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C07F 7/18 CSPQ |
2019年06月05日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサンおよびそれを含む活性エネルギー線硬化性組成物 FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08G 77/28, FI分類-C08F 299/08 |
2019年06月04日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用組成物、パターン形成方法及び重合体 FI分類-C08G 61/00, FI分類-C08L 65/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年06月03日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型自己接着性シリコーンゴム組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2019年06月03日 特許庁 / 特許 | イミノ基含有オルガノキシシラン化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 P |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 化合物及び有機膜形成用組成物 FI分類-C08F 38/00, FI分類-C07D 221/16, FI分類-C07C 43/23 D, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-C07C 43/20 CSPD |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/82 |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 錠剤の製造方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/26, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61K 47/36, FI分類-A61K 47/38, FI分類-A61P 11/00, FI分類-A61P 25/00, FI分類-A61K 31/167, FI分類-A61K 31/522 |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法並びに該組成物の硬化物を用いた部品及び構造体 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09K 3/10 G |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、該組成物の製造方法、及び光半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 21/52 B, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年05月28日 特許庁 / 特許 | コンクリート組成物用混和剤及びコンクリート組成物 FI分類-C04B 20/12, FI分類-C04B 24/02, FI分類-C04B 24/04, FI分類-C04B 28/02, FI分類-C04B 24/26 B, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/26 F, FI分類-C04B 24/26 H, FI分類-C04B 24/38 D, FI分類-C04B 24/38 Z |
2019年05月28日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/14 |
2019年05月28日 特許庁 / 特許 | シリコーン樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料 FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61Q 15/00, FI分類-A61Q 17/00, FI分類-A61Q 19/00, FI分類-C08G 77/04 |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物、半導体装置及びその製造方法 FI分類-C08K 3/11, FI分類-C08K 3/105, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | 分子レジスト組成物及びこれを用いるパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 531 |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-A61L 15/26, FI分類-A61L 15/42, FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08L 75/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08G 77/392, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | 型取り用シリコーンゴム組成物およびシリコーンゴム型 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | III族化合物基板の製造方法及びIII族化合物基板 FI分類-C30B 25/12, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C23C 16/458, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/38 D |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | オニウム塩化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/42, FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08L 33/06, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 220/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、硬化物および光半導体素子 FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08G 77/52, FI分類-C08L 83/14, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年05月23日 特許庁 / 特許 | 剥離紙又は剥離フィルム用樹脂組成物、剥離紙及び剥離フィルム FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08K 5/3492 |
2019年05月22日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン生ゴムの製造方法 FI分類-C08G 77/06 |
2019年05月22日 特許庁 / 特許 | 基板用仮接着剤の洗浄液、基板の洗浄方法および支持体または基板の洗浄方法 FI分類-C11D 1/62, FI分類-C11D 3/43, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2019年05月22日 特許庁 / 特許 | 非粘着熱伝導性シリコーンゴムシートの製造方法 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H05K 7/20 F, FI分類-H01L 23/36 D, FI分類-H01L 23/36 M, FI分類-C08J 7/00 305, FI分類-C08J 7/00 CFH |
2019年05月21日 特許庁 / 特許 | ダイボンディング用シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/48, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-H01L 21/52 E |
2019年05月17日 特許庁 / 特許 | シリコーンゴム組成物からなるマーキングインク FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年05月17日 特許庁 / 特許 | 化学気相成長装置および被膜形成方法 FI分類-C23C 16/458 |
2019年05月17日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 75/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08G 77/392, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年05月16日 特許庁 / 特許 | (7Z)-7-トリコセンの製造方法 FI分類-C07C 2/56, FI分類-C07C 11/107, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年05月16日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用組成物、パターン形成方法及び重合体 FI分類-C08G 61/00, FI分類-C08L 65/00, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 574, FI分類-H01L 21/30 578 |
2019年05月13日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/38, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年05月10日 特許庁 / 特許 | 半導体封止用熱硬化性マレイミド樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08L 35/00, FI分類-C08L 63/00 Z |
2019年05月10日 特許庁 / 特許 | 放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物並びに剥離シート FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08F 290/14, FI分類-B32B 27/00 101 |
2019年05月10日 特許庁 / 特許 | ヒプロメロースフタル酸エステル及びその製造方法 FI分類-C08B 13/00 |
2019年05月08日 特許庁 / 特許 | 有機膜形成用組成物、パターン形成方法及び重合体 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08G 61/10, FI分類-C08L 65/00, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 574, FI分類-H01L 21/30 578 |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | ガラス用型取り剤 FI分類-C08L 83/07 |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 型取り用シリコーンゴム組成物およびシリコーンゴム型 FI分類-C08L 83/07 |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | ポリシロキサン骨格含有ポリマー、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法 FI分類-C08G 59/18, FI分類-C08G 59/20, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | イソシアヌル酸骨格及びポリエーテル骨格を含むシロキサンポリマー、感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法 FI分類-C08G 59/18, FI分類-C08G 59/20, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年04月24日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性複合テープ FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05 |
2019年04月24日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物の製造方法 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2019年04月24日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその製造方法、並びに熱伝導性シリコーン硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年04月23日 特許庁 / 特許 | 正極材の製造方法及びリチウムイオン二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-C01B 33/12 A |
2019年04月23日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有化合物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/34 |
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | ジクロロシランの精製方法 FI分類-C01B 33/107 B |
2019年04月19日 特許庁 / 特許 | シリコン芯線 FI分類-C01B 33/035, FI分類-C01B 33/02 E |
2019年04月19日 特許庁 / 特許 | 溶射材料、及び溶射部材の製造方法 FI分類-C23C 4/04, FI分類-C23C 4/11, FI分類-C23C 4/134, FI分類-C01F 17/00 A, FI分類-C01F 17/00 D, FI分類-C01F 17/00 Z |
2019年04月19日 特許庁 / 特許 | ポリシラザン硬化被膜のパターニング方法 FI分類-B05D 1/32 A, FI分類-C09D 183/16, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2019年04月18日 特許庁 / 特許 | 親水性シリコーン樹脂製マイクロ流路 FI分類-B81B 1/00, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/08, FI分類-B01J 19/00 321, FI分類-G01N 37/00 101 |
2019年04月17日 特許庁 / 特許 | アルコキシシリル基含有有機シラザン化合物及びその製造方法並びにこれを含む組成物及び硬化物 FI分類-C07F 7/18 M, FI分類-C07F 7/18 W, FI分類-C08K 5/5445, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年04月17日 特許庁 / 特許 | ビスシリルアミノ基含有有機ポリシラザン化合物及びその製造方法並びにこれを含む組成物及び硬化物 FI分類-C08K 3/10, FI分類-C08K 5/54, FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08G 77/62, FI分類-C08K 5/057, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/16 |
2019年04月17日 特許庁 / 特許 | カチオン重合性オルガノポリシロキサン、剥離性放射線硬化型シリコーン組成物及び剥離シートの製造方法 FI分類-C08G 59/02, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09K 3/00 R |
2019年04月16日 特許庁 / 特許 | 活性エネルギー線硬化性組成物 FI分類-C08L 5/16, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 71/02 |
2019年04月15日 特許庁 / 特許 | ポジ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法、硬化被膜形成方法、層間絶縁膜、表面保護膜、及び電子部品 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 73/14, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年04月15日 特許庁 / 特許 | タイヤ成型用離型剤組成物の製造方法 FI分類-B29C 33/02, FI分類-B29C 33/64, FI分類-B29C 35/02, FI分類-B29L 30:00 |
2019年04月12日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム半導体膜の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/365 |
2019年04月12日 特許庁 / 特許 | 酸化ガリウム半導体膜及び原料溶液 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | ポリシラザン含有組成物 FI分類-B01J 31/28 M, FI分類-H01L 21/312 C, FI分類-H01L 21/316 H |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 表面処理アルミナ粉末の製造方法 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C01F 7/02 E |
2019年04月10日 特許庁 / 特許 | 低誘電放熱フィルム用組成物及び低誘電放熱フィルム FI分類-C08F 4/00, FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-H01B 3/30 D, FI分類-H01B 3/30 Z, FI分類-C01B 21/064 M |
2019年04月09日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の硬化時間の測定方法 FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/06 |
2019年04月09日 特許庁 / 特許 | エマルション撥水剤組成物 FI分類-C09K 3/18 104 |
2019年04月08日 特許庁 / 特許 | 焼結用セラミックス成形体の作製方法及びセラミックス焼結体の製造方法 FI分類-B29C 43/12, FI分類-B29C 71/02, FI分類-C04B 35/638, FI分類-B28B 3/00 102, FI分類-C04B 35/634 040, FI分類-C04B 35/634 160, FI分類-C04B 35/634 200, FI分類-C04B 35/636 500, FI分類-C04B 35/645 500 |
2019年04月08日 特許庁 / 特許 | 焼結用セラミックス成形体の作製方法及びセラミックス焼結体の製造方法 FI分類-B28B 1/26, FI分類-B28B 3/00, FI分類-C04B 35/638, FI分類-C04B 35/626 300, FI分類-C04B 35/634 160, FI分類-C04B 35/634 200, FI分類-C04B 35/636 500, FI分類-C04B 35/645 500 |
2019年04月08日 特許庁 / 特許 | 付加硬化性液状シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム成形体 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年04月05日 特許庁 / 特許 | スルホニウム化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C07D 317/22, FI分類-C07D 321/06, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 319/06 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年04月04日 特許庁 / 特許 | 腸溶性コーティング用組成物及び固形製剤の製造方法 FI分類-A61K 9/14, FI分類-A61K 9/36, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/04, FI分類-A61K 47/10, FI分類-A61K 47/14, FI分類-A61K 47/18, FI分類-A61K 47/38, FI分類-A61K 47/44 |
2019年04月03日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 101/02, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年04月03日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/34, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 101/02, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年04月02日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン接着剤組成物 FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07 |
2019年04月01日 特許庁 / 特許 | 異方性フィルム FI分類-C09J 7/10, FI分類-C09J 7/35, FI分類-H01B 5/16, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H01B 1/22 B, FI分類-H01R 11/01 501 A, FI分類-H01R 11/01 501 C |
2019年04月01日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物、その製造方法及び半導体装置 FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/06, FI分類-H01L 23/36 D, FI分類-H01L 23/36 M |
2019年04月01日 特許庁 / 特許 | 成型可能な透明シリカガラス用組成物、透明シリカガラス及びその製造方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/00, FI分類-C03B 20/00 E, FI分類-C03B 20/00 F |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 疎水性セルロースナノファイバー、該疎水性セルロースナノファイバーの有機溶媒分散液、及び疎水性セルロースナノファイバーの製造方法 FI分類-C08B 15/04, FI分類-C08G 81/00 ZBP, FI分類-C08G 81/00 ZNM |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | III族窒化物基板の製造装置及び製造方法 FI分類-C30B 25/20, FI分類-C30B 29/38 D |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物及び繊維処理剤 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08L 83/12, FI分類-D06M 15/53, FI分類-D06M 13/217, FI分類-D06M 15/643, FI分類-D06M 15/647, FI分類-C08L 71/00 Z |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 消臭性・抗菌性の表面層を有する内装材及びその製造方法 FI分類-C09D 7/61, FI分類-A61L 9/00 C, FI分類-A61L 9/01 B, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C08J 7/06 CEZ, FI分類-C08J 7/06 CERZ |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 光触媒転写フィルム及びその製造方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-B01J 23/89 M, FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-B32B 27/32 Z, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-C08J 7/04 CESZ, FI分類-B01J 37/02 301 Z |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 光触媒転写フィルム及びその製造方法 FI分類-B01J 23/66 M, FI分類-B01J 23/89 M, FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-C08J 7/04 CEZ, FI分類-B01J 37/02 301, FI分類-C08J 7/04 CERZ |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン接着剤組成物 FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07 |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 積層体の製造方法 FI分類-C08K 5/07, FI分類-C09J 7/30, FI分類-G02B 1/04, FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 光酸発生剤、化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07D 495/08, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/20, FI分類-C08F 32/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-C07C 63/70, FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 69/76, FI分類-C07C 271/28, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C07C 235/16 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 接着剤、接着剤の製造方法、及びその使用方法 FI分類-C09J 5/06, FI分類-C09J 7/35, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08F 283/12, FI分類-C09J 183/04 |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | エアーバッグ用付加硬化型液状シリコーンゴム組成物及びエアーバッグ FI分類-C09D 7/62, FI分類-D06M 13/50, FI分類-B60R 21/235, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/07, FI分類-D06M 13/513, FI分類-D06M 15/643 |
2019年03月14日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | 自動車オイルシール用室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C09K 3/10 Q, FI分類-C09K 3/10 Z |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | 硬化性有機ケイ素樹脂組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-C08K 5/1539, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年03月11日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、その硬化物、及び光半導体素子 FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年03月11日 特許庁 / 特許 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/098, FI分類-C08L 49/00, FI分類-C08L 79/02, FI分類-C08L 101/14, FI分類-H01B 1/12 G, FI分類-H01B 1/20 A, FI分類-H01B 5/14 Z, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01B 13/00 503 D |
2019年03月08日 特許庁 / 特許 | ウェハーレベル光半導体デバイス用樹脂組成物、及び光半導体デバイス FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/14, FI分類-H01L 33/56, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年03月08日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08K 5/5445 |
2019年03月06日 特許庁 / 特許 | 硬化性有機ケイ素樹脂組成物 FI分類-C08K 3/10, FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年03月06日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性樹脂積層体、及びパターン形成方法 FI分類-B32B 27/24, FI分類-C08G 73/10, FI分類-B32B 27/20 A, FI分類-B32B 27/20 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 504 |
2019年03月06日 特許庁 / 特許 | エポキシ化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 303/02 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月06日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 12/00, FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン微粒子混合物、その分散液、光触媒薄膜、光触媒薄膜を表面に有する部材及び酸化チタン微粒子分散液の製造方法 FI分類-B01J 37/10, FI分類-C01G 39/02, FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-C01B 33/12 A, FI分類-C01G 23/00 C, FI分類-C01G 41/00 A, FI分類-B01J 23/835 M, FI分類-B01J 23/887 M, FI分類-B01J 23/888 M |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | 酸化チタン微粒子、その分散液、及び分散液の製造方法 FI分類-B01J 37/10, FI分類-C01G 39/02, FI分類-C01G 23/053, FI分類-B01J 35/02 J, FI分類-C01B 33/12 A, FI分類-C01G 23/04 Z, FI分類-C01G 41/00 A, FI分類-B01J 23/835 M, FI分類-B01J 23/887 M, FI分類-B01J 23/888 M |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材の延伸方法 FI分類-C03B 37/027 Z, FI分類-G02B 6/02 356 A |
2019年03月01日 特許庁 / 特許 | ビニル系重合体の製造方法 FI分類-C08F 2/20, FI分類-C08F 14/06 |
2019年02月28日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61K 8/891 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びにパワーモジュール FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-H01L 25/04 C |
2019年02月25日 特許庁 / 特許 | 有機ケイ素化合物、その製造方法および硬化性組成物 FI分類-C09D 7/48, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C08G 77/388, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09J 183/04 |
2019年02月25日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、光反射材用シリコーン硬化物、光反射材及び光半導体装置 FI分類-C08K 9/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/60, FI分類-C08K 5/5435 |
2019年02月22日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、硬化物及び光半導体素子 FI分類-C08K 5/541, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年02月20日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造装置 FI分類-F27D 9/00, FI分類-F27D 11/10, FI分類-C01B 33/035, FI分類-F27D 7/06 B |
2019年02月20日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 31/00, FI分類-C07J 43/00, FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C07D 313/06, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 311/51 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年02月20日 特許庁 / 特許 | 生体電極組成物、生体電極、及び生体電極の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08G 77/28, FI分類-C08L 33/04, FI分類-C08L 75/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/08, FI分類-A61B 5/04 300 W |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 封止材、該封止材により封止されている半導体装置及び該封止材を有する半導体パッケージの製造方法 FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 21/78 A, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年02月18日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性シリコーン組成物およびその硬化物 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08F 230/08, FI分類-C08F 290/06 |
2019年02月18日 特許庁 / 特許 | 含フッ素コーティング剤組成物、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 77/42, FI分類-C08G 77/62, FI分類-C09D 183/08, FI分類-C09D 183/14 |
2019年02月15日 特許庁 / 特許 | ゴム組成物及び有機ケイ素化合物 FI分類-C08F 8/42, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 9/00, FI分類-C08L 15/00, FI分類-C08L 21/00, FI分類-B60C 1/00 A |
2019年02月15日 特許庁 / 特許 | ウェハーレベル光半導体デバイス用樹脂組成物及び該組成物を用いたウェハーレベル光半導体デバイス FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年02月14日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造装置 FI分類-C01B 33/035 |
2019年02月14日 特許庁 / 特許 | 透明複合酸化物焼結体の製造方法、透明複合酸化物焼結体並びに磁気光学デバイス FI分類-C04B 35/505, FI分類-G02B 27/28 A, FI分類-G02F 1/09 501 |
2019年02月13日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/018 Z |
2019年02月13日 特許庁 / 特許 | 成膜方法及び成膜装置 FI分類-C23C 18/12, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2019年02月12日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08G 79/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 505, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2019年02月12日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/018 A |
2019年02月12日 特許庁 / 特許 | 微小構造体移載装置、スタンプヘッドユニット、微小構造体移載用スタンプ部品及び微小構造体集積部品の移載方法 FI分類-H01L 21/68 B, FI分類-H01L 33/00 L |
2019年02月12日 特許庁 / 特許 | ダイボンディング用有機変性シリコーン樹脂組成物、その硬化物及び光半導体素子 FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08K 5/549, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/48, FI分類-C08K 5/5435, FI分類-H01L 21/52 E |
2019年02月08日 特許庁 / 特許 | 導電性ポリマー組成物及び基板 FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08L 25/18, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 65/00, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/28, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08L 101/12, FI分類-H01B 1/12 E, FI分類-H01B 1/12 F, FI分類-H01B 1/12 G, FI分類-H01B 1/12 Z, FI分類-H01B 1/20 Z, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 D |
2019年02月08日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリルシリコーン化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C07B 61/00 300 |
2019年02月08日 特許庁 / 特許 | 導電性ポリマー複合体及び基板 FI分類-C09D 5/24, FI分類-C08L 25/18, FI分類-C08L 33/16, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08L 101/12, FI分類-C09D 125/18, FI分類-C09D 133/16, FI分類-C09D 153/00, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09D 201/02, FI分類-H01B 1/12 E, FI分類-H01B 1/12 F, FI分類-H01B 1/12 Z |
2019年02月07日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、該組成物の硬化物、及び光学素子 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年02月07日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性粘着層を有する熱伝導性シリコーンゴムシート FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C09J 7/26, FI分類-C09J 7/38, FI分類-B32B 25/08, FI分類-B32B 25/20, FI分類-B32B 7/027, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09K 5/14 E, FI分類-H05K 7/20 F, FI分類-H05K 7/20 Z, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/20 Z, FI分類-H01L 23/36 D, FI分類-H01L 23/36 M, FI分類-B32B 27/00 101 |
2019年02月07日 特許庁 / 特許 | 剥離性シリコーンゲル組成物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2019年02月07日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性粘着層を有する熱伝導性シリコーンゴムシート FI分類-C09J 7/38, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 183/04 |
2019年02月05日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年02月05日 特許庁 / 特許 | 酸性スラリーの製造方法及び希土類元素の回収方法 FI分類-C22B 3/06, FI分類-C22B 3/08, FI分類-C22B 3/10, FI分類-C22B 3/22, FI分類-C22B 59/00, FI分類-C22B 7/00 G, FI分類-B09B 5/00 ZABC, FI分類-B09B 3/00 304 J |
2019年02月05日 特許庁 / 特許 | 酸性スラリーの製造方法及び希土類元素の回収方法 FI分類-C22B 3/06, FI分類-C22B 3/08, FI分類-C22B 3/10, FI分類-C22B 59/00, FI分類-C22B 3/44 101 A |
2019年02月01日 特許庁 / 特許 | 硬化型シリコーン組成物 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08L 83/14 |
2019年02月01日 特許庁 / 特許 | 硬化型シリコーン組成物 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08L 83/04 |
2019年02月01日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、マスク粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 FI分類-G03F 1/64 |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 赤外線透過性硬化型組成物、その硬化物および光半導体装置 FI分類-C08G 77/60, FI分類-C08L 83/16 |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 剥離剤組成物及び剥離シート FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/56, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 5/00 Z, FI分類-C09K 3/00 R |
2019年01月30日 特許庁 / 特許 | 硬化性シリコーン樹脂組成物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年01月29日 特許庁 / 特許 | ポリシロキサザン化合物およびその製造方法並びにこれを含む組成物および硬化物 FI分類-C07F 7/21, FI分類-C08G 77/54, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C07F 7/10 X |
2019年01月29日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物及び光学素子 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/08, FI分類-H01L 23/30 F |
2019年01月24日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン化合物を含有する組成物 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/05 |
2019年01月21日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、半導体積層体、半導体積層体の製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 59/62, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 63/00 B, FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年01月21日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、半導体積層体、半導体積層体の製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/62, FI分類-C08G 77/52, FI分類-C08K 5/5415, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年01月21日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂フィルム、半導体積層体、半導体積層体の製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-C08G 59/02, FI分類-C08G 59/62, FI分類-H01L 23/30 R |
2019年01月18日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン棒、多結晶シリコンロッドおよびその製造方法 FI分類-C01B 33/035, FI分類-C30B 29/06 D |
2019年01月18日 特許庁 / 特許 | 無溶剤型シリコーン剥離剤組成物、剥離シート及びその製造方法 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/14, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09K 3/00 R |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | 伸縮性膜材料組成物、伸縮性膜、及びその形成方法 FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08G 65/333 |
2019年01月16日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質及び非水電解質二次電池、並びに、非水電解質二次電池用負極材の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-C01B 33/113 A |
2019年01月16日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極及びその製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C |
2019年01月15日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質及びその製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-C01B 33/113 A |
2019年01月15日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着剤組成物、粘着フィルムおよび粘着テープ FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2019年01月10日 特許庁 / 特許 | 伸縮性膜及びその形成方法 FI分類-B32B 27/40, FI分類-C08G 18/61, FI分類-C08G 18/67, FI分類-C08G 18/38 093, FI分類-A61B 5/04 300 M, FI分類-A61B 5/04 300 V |
2019年01月10日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/04 |
2019年01月10日 特許庁 / 特許 | ポリシロキサンの製造方法 FI分類-C08G 77/06, FI分類-C08G 77/20 |
2019年01月09日 特許庁 / 特許 | 分散性粉体及び化粧料 FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2019年01月08日 特許庁 / 特許 | 酸化物半導体膜、積層体及び酸化物半導体膜の製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/208 Z |
2019年01月08日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2019年01月08日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性薄膜状硬化物及びその製造方法、ならびに熱伝導性部材 FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2019年01月07日 特許庁 / 特許 | アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 M |
2019年01月07日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン架橋物と(メタ)アクリル重合体からなる相互侵入網目重合体及びその製造方法 FI分類-C08L 33/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 283/12, FI分類-C08F 20/00 510 |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | ポリフェニレンエーテル樹脂組成物およびシラン変性共重合体 FI分類-C08C 19/25, FI分類-C08L 15/00, FI分類-C08L 71/12, FI分類-C08F 236/10 |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 撥水性被膜形成用組成物及び撥水性被膜 FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 7/62, FI分類-C09D 183/14 |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、積層体、及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/20, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | シリコーン剥離剤組成物、剥離紙及び剥離フィルム FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 7/40, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-B32B 27/00 L, FI分類-B32B 27/00 101 |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 4-メチル-5-ノナノン及び4-メチル-5-ノナノールの製造方法 FI分類-C07C 45/45, FI分類-C07C 29/143, FI分類-C07C 31/125, FI分類-C07C 49/04 A |
2018年12月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 77/60, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2018年12月19日 特許庁 / 特許 | マイクロエマルション組成物及びその硬化物、並びに、それを含んだ化粧料 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/64, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/895, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2018年12月19日 特許庁 / 特許 | 半導体膜、成膜方法及び成膜装置 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/14, FI分類-C30B 29/24, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年12月18日 特許庁 / 特許 | 金属含有膜の成膜方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年12月18日 特許庁 / 特許 | ガリウム含有膜の成膜方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年12月13日 特許庁 / 特許 | 帯電防止性シリコーンゴム組成物及び帯電防止キャリアプレート FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/14 |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 B, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-C23C 14/08 G, FI分類-H01L 21/302 104 Z |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、及びフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80 |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | 焼結用ガーネット型複合酸化物粉末の製造方法、及び透明セラミックスの製造方法 FI分類-C04B 35/44, FI分類-C04B 35/626 |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | 硬化性オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08G 77/52, FI分類-C08L 83/14 |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | 積層基板、積層基板の製造方法及び自立基板の製造方法 FI分類-C23C 16/01, FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/27, FI分類-C30B 25/18, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 C |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物の硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 3/28, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2018年12月04日 特許庁 / 特許 | 積層基板、積層基板の製造方法及び自立基板の製造方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-C30B 29/04 M |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 FI分類-G03F 1/62 |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | ペリクルの製造方法、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体デバイスの製造方法、液晶ディスプレイの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法。 FI分類-G03F 1/62 |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | コーティング剤組成物、該組成物を含む表面処理剤、及び該表面処理剤で表面処理された物品 FI分類-C09D 183/08, FI分類-C09K 3/18 104 |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | ペリクルの製造方法、ペリクル付フォトマスクの製造方法、露光方法、半導体デバイスの製造方法、液晶ディスプレイの製造方法及び有機ELディスプレイの製造方法 FI分類-G03F 1/62, FI分類-C08J 7/00 301, FI分類-C08J 7/00 CEP, FI分類-C08J 7/00 CEW |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレームおよびペリクル FI分類-G03F 1/64 |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | エポキシ樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いて製造された接着フィルム、プリプレグ、多層プリント配線板、及び半導体装置 FI分類-C08G 59/18 |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | エポキシ樹脂組成物、多層プリント配線板、及び半導体装置 FI分類-C08G 59/18 |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | 有機基変性有機ケイ素樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料 FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 1/06, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 3/02, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61Q 5/06, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 15/00, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-C08G 77/46 |
2018年11月28日 特許庁 / 特許 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、及び眼鏡型ディスプレイ FI分類-G02B 1/118, FI分類-G02B 13/16, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-G02B 25/00 Z, FI分類-H05B 33/14 A |
2018年11月28日 特許庁 / 特許 | 負極活物質及びその製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z |
2018年11月28日 特許庁 / 特許 | 室温湿気硬化型シリコーンゲル組成物及びその硬化物並びに物品 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C08K 5/17, FI分類-C08K 5/31, FI分類-C08K 5/56, FI分類-C08K 5/57, FI分類-C08L 83/06 |
2018年11月28日 特許庁 / 特許 | 負極及びその製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 含窒素環状オルガノキシシラン化合物およびその製造方法 FI分類-C07F 7/18 CSPU |
2018年11月26日 特許庁 / 特許 | 吸湿性シリコーン樹脂組成物、有機EL用透明封止材、有機EL用透明乾燥材、及びその使用方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A |
2018年11月22日 特許庁 / 特許 | カルビノール変性オルガノシロキサンの製造方法 FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08L 83/05 |
2018年11月22日 特許庁 / 特許 | オルガノシロキサン化合物及び表面処理剤 FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07F 7/18 CSPX |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/018 A |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | 反射防止膜、反射防止膜の製造方法、及び眼鏡型ディスプレイ FI分類-G02B 1/118, FI分類-C08F 220/18, FI分類-G02B 5/00 B, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年11月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び反射防止膜 FI分類-C08K 7/26, FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年11月16日 特許庁 / 特許 | 導電性シリコーン組成物、硬化物、積層体、及び、電子回路 FI分類-C08K 3/08, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/14 Z |
2018年11月16日 特許庁 / 特許 | 光アイソレータの製造方法及びファラデー回転子の製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C30B 29/16, FI分類-G02B 27/28 A, FI分類-G02F 1/09 501 |
2018年11月15日 特許庁 / 特許 | 新規塩化合物、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年11月14日 特許庁 / 特許 | サイズ排除クロマトグラフィ法による化合物の分子量分析方法および分離精製方法 FI分類-G01N 30/26 A, FI分類-G01N 30/88 P, FI分類-G01N 30/88 X |
2018年11月14日 特許庁 / 特許 | テトラアルケニルシランの製造方法 FI分類-C07F 7/08 C |
2018年11月12日 特許庁 / 特許 | ヨウ素含有ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 E |
2018年11月12日 特許庁 / 特許 | 重合性官能基を有する有機ケイ素化合物およびそれを含む活性エネルギー線硬化性組成物 FI分類-C07F 7/10 CSPM |
2018年11月09日 特許庁 / 特許 | 反射防止積層膜、反射防止積層膜の形成方法、及び眼鏡型ディスプレイ FI分類-G02C 7/00, FI分類-G02C 7/10, FI分類-G02B 1/111, FI分類-G02B 1/118, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-G02F 1/1335, FI分類-G02B 27/02 Z, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 505, FI分類-G09F 9/00 313 |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | 負極活物質、混合負極活物質、水系負極スラリー組成物、及び、負極活物質の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/1393, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/38 512, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | 化粧料 FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 1/06, FI分類-A61Q 1/08, FI分類-A61Q 1/10, FI分類-A61Q 1/12, FI分類-A61Q 5/12, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2018年11月06日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、波長変換材料、波長変換フィルム、LED素子、バックライトユニット及び画像表示装置 FI分類-C08K 3/08, FI分類-F21V 9/30, FI分類-G02B 5/20, FI分類-C08L 27/12, FI分類-H01L 33/50, FI分類-F21Y 115:10 |
2018年11月06日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5475 |
2018年11月05日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 65/48, FI分類-C08G 65/331, FI分類-C09K 3/18 104 |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | 重合体の製造方法、及び重合体 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年11月01日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物及び感光性ドライフィルム FI分類-C08K 5/1515, FI分類-C08L 101/06, FI分類-H05K 3/46 T, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-H05K 1/03 610 L |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 放射線硬化性有機ケイ素樹脂組成物 FI分類-C08K 3/01, FI分類-B82Y 30/00, FI分類-C08L 43/04, FI分類-C08F 130/08, FI分類-C08K 5/5415 |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 合成石英ガラス基板の研磨用研磨粒子の製造方法、並びに合成石英ガラス基板の研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-H01L 21/304 622 B |
2018年10月30日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物、その硬化物、及び光半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/48, FI分類-C09J 183/06 |
2018年10月29日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリロイル基含有オルガノシロキサン FI分類-C07F 7/18 X, FI分類-C07F 7/18 CSPK |
2018年10月29日 特許庁 / 特許 | シリコーンエマルジョン組成物 FI分類-C09D 5/02, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5435, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/07 |
2018年10月26日 特許庁 / 特許 | ペリクルの剥離方法及びペリクルの剥離装置 FI分類-G03F 1/64, FI分類-H01L 21/68 N |
2018年10月26日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/5415 |
2018年10月25日 特許庁 / 特許 | オニウム塩、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/24, FI分類-C08F 20/30, FI分類-C07C 381/12, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 311/48 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年10月25日 特許庁 / 特許 | ハスモンヨトウの防除方法 FI分類-A01N 37/06, FI分類-A01P 19/00 |
2018年10月25日 特許庁 / 特許 | 固形製剤用組成物並びに固形製剤及びその製造方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 47/38 |
2018年10月24日 特許庁 / 特許 | 新規オニウム塩、化学増幅レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C07D 207/28, FI分類-C07D 209/94, FI分類-C07D 207/273, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年10月24日 特許庁 / 特許 | 水中油型乳化組成物及びその製造方法、ならびに化粧料 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/86, FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61K 8/92, FI分類-A61Q 1/00 |
2018年10月23日 特許庁 / 特許 | 光アイソレータ FI分類-G02B 5/30, FI分類-G02B 27/28 A |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリレート化合物、それを含むコーティング組成物および被覆物品 FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/62, FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C07F 7/10 X, FI分類-C08F 230/08, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C09D 183/07, FI分類-B32B 27/30 A |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物、シリコーン硬化物、及び、光学素子 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08K 5/3435 |
2018年10月18日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/07 |
2018年10月16日 特許庁 / 特許 | ケイ素化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 J |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/68, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 511 |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | 複合材料の製造方法 FI分類-C08J 3/16 CEP, FI分類-C08J 3/20 CEQ |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着剤組成物、粘着テープ、粘着シート、及び両面粘着シート FI分類-C09J 7/38, FI分類-C09J 7/40, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/00 101 |
2018年10月10日 特許庁 / 特許 | 炭化タンタル被覆炭素材料及び半導体単結晶製造装置用部材 FI分類-C01B 32/00, FI分類-C23C 16/32, FI分類-C30B 23/06, FI分類-C30B 25/20, FI分類-C01B 32/914, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/62 J |
2018年10月09日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 212/04, FI分類-C08F 220/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年10月09日 特許庁 / 特許 | ガラス繊維含有波長変換シリコーンシート及びそれを用いた光半導体装置 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 7/14, FI分類-G02B 5/20, FI分類-B32B 27/12, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/50, FI分類-B32B 5/02 B, FI分類-C08J 5/24 CFH, FI分類-B32B 27/00 101 |
2018年10月09日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン組成物、並びに有機ケイ素化合物及びその製造方法 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C07F 7/18 CSPK |
2018年10月04日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 FI分類-C03B 37/012 Z, FI分類-C03B 37/018 C |
2018年10月04日 特許庁 / 特許 | 希土類焼結磁石 FI分類-H01F 41/02 G, FI分類-H01F 1/057 170 |
2018年10月03日 特許庁 / 特許 | 高分子重合開始剤及び高分子重合開始剤の製造方法 FI分類-C08F 4/00, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08G 77/48 |
2018年10月03日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリルグラフトシリコーン及びその製造方法 FI分類-C08F 4/00, FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C08F 290/14 |
2018年10月02日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化型シリコーン接着剤組成物および積層体の製造方法 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07 |
2018年09月28日 特許庁 / 特許 | ラジカル重合性オルガノポリシロキサンの製造方法、放射線硬化性オルガノポリシロキサン組成物、及び剥離シート FI分類-C08F 299/08, FI分類-C08G 77/382 |
2018年09月27日 特許庁 / 特許 | 積層体、半導体装置、ミストCVD装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C30B 25/14, FI分類-C30B 29/16, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年09月26日 特許庁 / 特許 | 親油性基含有オルガノシラン化合物、表面処理剤及び物品 FI分類-G02B 1/18, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-C07F 7/18 CSPW |
2018年09月25日 特許庁 / 特許 | 室温硬化性組成物、シーリング材及び物品 FI分類-C08L 71/02, FI分類-C08L 81/04, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C08K 5/5425, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C09K 3/10 Z |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 封止用組成物 FI分類-B22F 1/00 K, FI分類-B22F 1/02 B, FI分類-B22F 9/30 Z, FI分類-C22C 1/05 S |
2018年09月13日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/11, FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511 |
2018年09月12日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂フィルム及び半導体装置 FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08L 35/00, FI分類-C08L 63/00 A |
2018年09月11日 特許庁 / 特許 | ヨードニウム塩、レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 59/115 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年09月11日 特許庁 / 特許 | 撥水撥油部材及び撥水撥油部材の製造方法 FI分類-C08L 83/12, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-B32B 27/00 101 |
2018年09月11日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、及びパターン形成方法 FI分類-C07C 25/00, FI分類-C07C 59/115, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年09月07日 特許庁 / 特許 | 水中油型乳化組成物の製造方法及び化粧料の製造方法 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/86, FI分類-A61K 8/89, FI分類-A61Q 1/04, FI分類-A61Q 19/00 |
2018年09月06日 特許庁 / 特許 | 多孔質シリコーンゴム球状粒子、多孔質シリコーン複合粒子、及びそれら粒子の製造方法 FI分類-C08J 3/12 Z, FI分類-C08J 9/26 CFH |
2018年09月05日 特許庁 / 特許 | スルホニウム化合物、ポジ型レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/30, FI分類-C08F 32/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年09月04日 特許庁 / 特許 | シラン変性共重合体の製造方法およびそれを含む組成物 FI分類-C08F 8/42 |
2018年09月04日 特許庁 / 特許 | 分子鎖末端にシクロシロキサン構造を有するオルガノポリシロキサンの製造方法 FI分類-C08G 77/06 |
2018年09月03日 特許庁 / 特許 | 薄型ウエハの製造方法 FI分類-C08G 8/04, FI分類-C09J 7/30, FI分類-C09J 109/00, FI分類-C09J 123/00, FI分類-C09J 125/04, FI分類-C09J 183/00, FI分類-C09J 183/04, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | ウレタン樹脂、伸縮性膜及びその形成方法 FI分類-C07F 7/08 Z, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08F 299/06, FI分類-C07F 7/08 CSPX, FI分類-C08G 18/38 093 |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | (メタ)アクリロイル化合物及びその製造方法 FI分類-C08F 20/40 |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物及び半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン組成物及び半導体装置 FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 重合性官能基を有するオルガノポリシロキサン化合物を含む活性エネルギー線硬化性組成物 FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C07F 7/18 K, FI分類-C07F 7/18 N, FI分類-C08F 230/08, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C09D 183/07 |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 成膜装置、成膜基体の製造方法、半導体膜の製造装置及び半導体膜の製造方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 成膜装置 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年08月24日 特許庁 / 特許 | 温度センサ FI分類-C01B 32/159, FI分類-G01K 7/16 ZNMS |
2018年08月23日 特許庁 / 特許 | 光ファイバ用多孔質ガラス母材の製造方法および製造装置 FI分類-C03B 37/018 Z |
2018年08月22日 特許庁 / 特許 | (E2)-cis-6,7-エポキシ-2-ノネナールの製造方法 FI分類-C07C 45/29, FI分類-C07C 47/21, FI分類-C07D 301/03, FI分類-C07D 303/32 |
2018年08月15日 特許庁 / 特許 | 重合性単量体、重合体、レジスト材料、及びパターン形成方法 FI分類-C07C 39/27, FI分類-C08F 12/22, FI分類-C07C 43/247, FI分類-C07C 43/225 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年08月15日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、該組成物の硬化物、及び該硬化物を用いた半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 23/30 F |
2018年08月14日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサン組成物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08K 5/5419, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06 |
2018年08月10日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性フルオロポリエーテル系組成物の硬化物からなる封止層を有するウェアラブルセンサーデバイス用半導体装置 FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/12, FI分類-C08L 71/00 B, FI分類-H01L 23/30 R |
2018年08月10日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08F 2/44 A, FI分類-H01L 23/30 R |
2018年08月10日 特許庁 / 特許 | 半導体封止用熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08K 5/544, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-H01L 23/30 R |
2018年08月09日 特許庁 / 特許 | 半導体封止用熱硬化性樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08G 59/14, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-H01L 23/30 R |
2018年08月02日 特許庁 / 特許 | ジエン系ゴムとシリコーンゴムとの接着方法 FI分類-B32B 25/16, FI分類-B32B 25/20, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/04 |
2018年07月31日 特許庁 / 特許 | 付加硬化型シリコーン樹脂組成物及び半導体装置 FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F, FI分類-H01L 21/312 C |
2018年07月30日 特許庁 / 特許 | 基板の欠陥検査方法およびフォトマスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/26 H, FI分類-G01N 21/956 A |
2018年07月26日 特許庁 / 特許 | 硬質ポリ塩化ビニル系成形品及びその製造方法 FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 9/04, FI分類-B29C 45/00, FI分類-B29C 47/00, FI分類-C08L 27/06 |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | ヒプロメロースフタル酸エステルの製造方法 FI分類-C08B 13/00 |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | ヒプロメロース酢酸エステルコハク酸エステルの製造方法 FI分類-C08B 3/06, FI分類-C08B 3/12, FI分類-C08B 3/16 |
2018年07月24日 特許庁 / 特許 | 粘着性基材、粘着性基材を有する転写装置及び粘着性基材の製造方法 FI分類-B32B 3/30, FI分類-C09J 7/22, FI分類-C09J 7/38, FI分類-B05D 1/04 F, FI分類-C09J 201/00, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-H01L 21/52 E |
2018年07月20日 特許庁 / 特許 | オルガノポリシロキサンエマルション組成物 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C08L 83/14 |
2018年07月17日 特許庁 / 特許 | 皮膚貼付用付加反応硬化型シリコーン粘着剤組成物及び皮膚貼付用粘着テープ FI分類-A61K 9/70, FI分類-C09J 7/20, FI分類-C09J 7/38, FI分類-A61K 47/34, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/06, FI分類-C09J 183/07 |
2018年07月12日 特許庁 / 特許 | 加水分解性基含有シリコーン樹脂を含むコーティング組成物、コーティング被膜、および該被膜を有する物品 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09D 183/04 |
2018年07月11日 特許庁 / 特許 | 架橋型有機ケイ素樹脂及びその製造方法、ならびに化粧料 FI分類-A61Q 1/02, FI分類-A61Q 5/00, FI分類-A61K 8/893, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-C08G 77/50 |
2018年07月09日 特許庁 / 特許 | レジスト多層膜付き基板及びパターン形成方法 FI分類-C08G 8/04, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物、剥離シート、剥離フィルム、及び、剥離シート及び剥離フィルムの製造方法 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C09D 5/20, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-B05D 5/00 A, FI分類-C09D 123/00, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/05, FI分類-C09D 183/06, FI分類-B32B 27/00 L, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | ミラブル型シリコーンゴム組成物及び電界緩和層 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/36, FI分類-H01B 3/28, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H02G 15/064, FI分類-H02G 15/103, FI分類-H02G 15/184 |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | 成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | 成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | シリコーン粘着グリース組成物及びその製造方法 FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C10N 20:02, FI分類-C10N 30:08, FI分類-C10N 50:10, FI分類-C10M 107/50, FI分類-C10M 155/02, FI分類-C08J 5/18 CEV |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | 成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/365, FI分類-H01L 21/368 Z |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 C |
2018年06月25日 特許庁 / 特許 | リフト装置及び使用方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H05B 33/14 A |
2018年06月25日 特許庁 / 特許 | リフト装置及びレセプター基板の製造方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A |
2018年06月19日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク関連基板の表面状態の評価方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A |
2018年06月07日 特許庁 / 特許 | 水溶性セルロースエーテルの製造方法 FI分類-C08B 11/02, FI分類-C08B 11/08 |
2018年06月05日 特許庁 / 特許 | エポキシ基含有イソシアヌル酸変性シリコーン樹脂、感光性樹脂組成物、感光性ドライフィルム、積層体、及びパターン形成方法 FI分類-B32B 27/38, FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08G 77/54, FI分類-B32B 15/092, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-B32B 27/00 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/075 511 |
2018年06月04日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンロッドの選別方法 FI分類-C30B 13/00, FI分類-C01B 33/035, FI分類-C30B 29/06 D |
2018年06月04日 特許庁 / 特許 | 薄型基板の製造方法 FI分類-C09J 7/20, FI分類-C09J 7/38, FI分類-C08G 77/48, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 183/14, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 622 J, FI分類-H01L 21/304 622 Q |
2018年06月04日 特許庁 / 特許 | ポリシロキサンモノマー及びその製造方法 FI分類-G02C 7/04, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C07F 7/10 W, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08G 77/388, FI分類-C08G 77/392, FI分類-C08J 3/24 CFH |
2018年06月01日 特許庁 / 特許 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2018年06月01日 特許庁 / 特許 | 熱可塑性エラストマー及びその成形体 FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 23/10, FI分類-C08L 23/16, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 91/00, FI分類-C08J 3/24 CES |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及びフォトマスク FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/32 |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | オニウム塩、化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/73 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | アミノ酸N-カルボキシ無水物の精製方法 FI分類-C07D 263/44, FI分類-C07D 265/06, FI分類-C07D 267/06, FI分類-C07F 7/18 U |
2018年05月23日 特許庁 / 特許 | 活性エネルギー線硬化性組成物 FI分類-C07F 7/21, FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 77/46 |
2018年05月21日 特許庁 / 特許 | 含フッ素有機ケイ素化合物及びその製造方法、室温硬化性含フッ素ゴム組成物及びその硬化物並びに物品 FI分類-C08G 81/00, FI分類-C08K 3/011, FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/12, FI分類-C08K 5/5419 |
2018年05月21日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターン形成方法、及び光半導体素子の製造方法 FI分類-C08G 59/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 511 |
2018年05月08日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月08日 特許庁 / 特許 | インプリントモールド用合成石英ガラス基板 FI分類-B29C 33/38, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年05月07日 特許庁 / 特許 | 半導体用基板およびその製造方法 FI分類-B24B 1/00 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-H01L 21/304 621 B, FI分類-H01L 21/304 622 T |
2018年05月02日 特許庁 / 特許 | シリコーンゴム組成物及びシリコーンゴム FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 9/06, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08F 299/08, FI分類-C08K 5/3472 |
2018年05月01日 特許庁 / 特許 | 石英ガラス繊維含有基板 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 35/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08J 5/24 CEY, FI分類-C08J 5/24 CFC, FI分類-C08J 5/24 CFG, FI分類-C08J 5/24 CFH |
2018年04月27日 特許庁 / 特許 | 異方性を有する樹脂成形体の製造方法 FI分類-B29B 13/08, FI分類-B29C 31/00, FI分類-B29C 39/26, FI分類-B29C 70/62, FI分類-C08J 5/00 CFC, FI分類-C08J 5/00 CFH |
2018年04月27日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C08F 20/24, FI分類-C08F 20/38, FI分類-C08F 28/02, FI分類-C08F 212/12, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年04月23日 特許庁 / 特許 | 粘着性膜、粘着性膜の形成方法、及びウレタンポリマー FI分類-C09J 4/02, FI分類-C08G 18/72, FI分類-C09J 175/04, FI分類-C09J 175/16, FI分類-C08G 18/32 003 |
2018年04月20日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性有機ケイ素化合物、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 59/02, FI分類-C08G 65/336, FI分類-C09D 201/04, FI分類-C09D 201/06 |
2018年04月18日 特許庁 / 特許 | (9E,11Z)-9,11-ヘキサデカジエナールの製造方法 FI分類-C07C 45/42, FI分類-C07C 47/21 |
2018年04月18日 特許庁 / 特許 | (9E,11Z)-9,11-ヘキサデカジエニル=アセテートの製造方法 FI分類-C07C 21/19, FI分類-C07C 67/10, FI分類-C07C 17/263, FI分類-C07C 69/145 |
2018年04月17日 特許庁 / 特許 | 反応性ケイ素含有基を有するポリマーおよびその製造方法 FI分類-C08F 8/42, FI分類-C07F 7/18 W, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/07 |
2018年04月16日 特許庁 / 特許 | 回路付基板加工体及び回路付基板加工方法 FI分類-C09J 7/35, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-B24B 7/22 Z, FI分類-C09J 183/04, FI分類-C09J 183/05, FI分類-C09J 183/07, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2018年04月09日 特許庁 / 特許 | ファラデー回転子の製造方法 FI分類-G02B 27/28 A, FI分類-G02F 1/09 501 |
2018年04月09日 特許庁 / 特許 | 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物 FI分類-C08K 3/013, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2018年04月03日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、及びペリクルフレームの製造方法 FI分類-G03F 1/64, FI分類-C23C 28/00 Z, FI分類-C25D 13/00 N, FI分類-C25D 11/18 305, FI分類-C25D 11/20 304 Z |
2018年04月03日 特許庁 / 特許 | 剥離性放射線硬化性シリコーン組成物及び剥離シート FI分類-C09D 4/02, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09D 183/08, FI分類-C09D 5/00 Z, FI分類-C09K 3/00 R |
2018年04月03日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/64, FI分類-C25D 11/04 304, FI分類-C25D 11/18 306 Z |
2018年04月03日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/64 |
2018年03月30日 特許庁 / 特許 | レジストフィルム積層体及びパターン形成方法 FI分類-C08G 59/30, FI分類-C08G 77/50, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 512, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2018年03月24日 特許庁 / 特許 | 赤色フッ化物蛍光体及びその母体結晶の製造方法 FI分類-C01B 33/10, FI分類-C09K 11/61, FI分類-C09K 11/08 A |
2018年03月24日 特許庁 / 特許 | 赤色フッ化物蛍光体の製造方法 FI分類-C01B 33/10, FI分類-C09K 11/61, FI分類-C09K 11/08 A |
2018年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板製造方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-H01L 21/304 611 Z |
2018年03月08日 特許庁 / 特許 | 反射防止部材及びその製造方法 FI分類-C09D 1/00, FI分類-G02B 1/18, FI分類-G02B 1/115, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-C09D 5/00 Z, FI分類-C08L 71/00 Y, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-B32B 27/00 101 |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | オニウム塩 FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C07F 9/54 CSP, FI分類-C09K 3/16 109, FI分類-C09K 3/16 104 E, FI分類-C09K 3/16 105 D, FI分類-C09K 3/16 107 D |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 2成分型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の混合状態の評価方法 FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08K 5/5415 |
2018年02月20日 特許庁 / 特許 | 高誘電絶縁性シリコーンゴム組成物及び電界緩和層 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08K 5/14, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05 |
2018年02月20日 特許庁 / 特許 | 高誘電絶縁性シリコーンゴム組成物及び電界緩和層 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/05, FI分類-H01B 3/46 Z |
2018年02月14日 特許庁 / 特許 | 難燃薬剤、これを用いた難燃材料および難燃材料の製造方法 FI分類-C09K 21/02, FI分類-C09K 21/14, FI分類-B27K 3/52 B |
2018年02月13日 特許庁 / 特許 | リードフレーム、樹脂付きリードフレーム、樹脂付きリードフレームの製造方法および半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 23/50 A |
2018年02月07日 特許庁 / 特許 | 繊維処理剤及びその製造方法 FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08G 77/46, FI分類-C08G 77/385, FI分類-D06M 15/643 |
2018年01月24日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07J 9/00, FI分類-C07C 25/02, FI分類-C07C 25/13, FI分類-C08F 20/12, FI分類-C07C 229/60, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/46, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 335/12, FI分類-C07D 339/08, FI分類-C07D 295/155, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | 合成石英ガラス基板 FI分類-C03B 20/00 E, FI分類-C03B 20/00 F |
2018年01月10日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクの製造方法、及びフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54 |
2017年12月26日 特許庁 / 特許 | ジヒドロキシナフタレンの精製方法 FI分類-C07C 37/82, FI分類-C07C 39/14 |
2017年12月26日 特許庁 / 特許 | ジヒドロキシナフタレン縮合物の製造方法及びジヒドロキシナフタレン縮合物 FI分類-C08G 8/04, FI分類-C08G 8/00 A |
2017年12月25日 特許庁 / 特許 | 化学増幅ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/24, FI分類-C08F 20/30, FI分類-C08F 212/02, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/12, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08F 232/08, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月25日 特許庁 / 特許 | 化学増幅ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/00, FI分類-C08F 20/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年12月07日 特許庁 / 特許 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 FI分類-C08G 73/02, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08L 79/00 A, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 P |
2017年12月07日 特許庁 / 特許 | 導電性高分子組成物、被覆品、及びパターン形成方法 FI分類-C08F 12/30, FI分類-C08F 20/22, FI分類-C08L 25/18, FI分類-C08L 33/16, FI分類-C08L 101/12, FI分類-C08L 79/00 A, FI分類-G03F 7/11 501 |
2017年11月17日 特許庁 / 特許 | 合成石英ガラス基板用の研磨剤及び合成石英ガラス基板の研磨方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2017年11月10日 特許庁 / 特許 | 付加硬化性液状シリコーンゴム組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2017年11月10日 特許庁 / 特許 | 化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年11月10日 特許庁 / 特許 | 付加硬化性液状シリコーンゴム組成物 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2017年10月20日 特許庁 / 特許 | シリコーン組成物、シリコーンゴム硬化物、及び電力ケーブル FI分類-C08K 3/24, FI分類-C08K 3/36, FI分類-H01B 3/28, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/07, FI分類-C08L 83/08, FI分類-H01B 3/46 D, FI分類-H01B 9/00 A |
2017年10月18日 特許庁 / 特許 | ポリシラザン化合物を用いた撥水処理剤および撥水処理方法 FI分類-C08G 77/48, FI分類-C09K 3/18 104 |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | ポリ塩化ビニル系樹脂成形品及びその製造方法 FI分類-B29B 7/16, FI分類-C08K 3/26, FI分類-B29K 27:06, FI分類-C08L 27/06, FI分類-B29C 47/40 Z, FI分類-C08J 5/00 CEV |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | ポリ塩化ビニル系樹脂成形品及びその製造方法 FI分類-C08J 5/00 CEV |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | ポリ塩化ビニル系樹脂成形品及びその製造方法 FI分類-B29B 7/14, FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08L 23/28, FI分類-C08L 27/06, FI分類-C08J 5/00 CEV |
2017年10月10日 特許庁 / 特許 | EUV用ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付露光原版、露光方法、及び半導体の製造方法 FI分類-G03F 1/62, FI分類-G03F 1/64, FI分類-H01L 21/68 U |
2017年10月10日 特許庁 / 特許 | EUV用ペリクルフレームの通気構造、EUV用ペリクル、EUV用ペリクル付露光原版、露光方法及び半導体の製造方法 FI分類-G03F 1/64, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年09月12日 特許庁 / 特許 | シーリング材及びシーリング方法 FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C09K 3/10 G, FI分類-C09K 3/10 Q, FI分類-C09K 3/10 Z |
2017年09月07日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物及び樹脂フィルム FI分類-C08G 59/20, FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 163/04, FI分類-C09J 183/10, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-H01L 23/30 R |
2017年08月07日 特許庁 / 特許 | ペリクルフレーム及びペリクル FI分類-G03F 1/62, FI分類-G03F 1/64 |
2017年07月24日 特許庁 / 特許 | ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクブランク FI分類-G03F 1/20, FI分類-C08F 12/24, FI分類-C08F 20/30, FI分類-C07D 279/36, FI分類-C07D 327/06, FI分類-C07D 327/08, FI分類-C07D 333/02, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 335/02, FI分類-C07D 335/12, FI分類-C07D 335/18, FI分類-C07D 339/08, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年07月14日 特許庁 / 特許 | 機能剤含有繊維及びその製造方法 FI分類-D06M 15/03, FI分類-D06M 15/15, FI分類-D06M 13/152, FI分類-D06M 13/184, FI分類-D06M 15/643, FI分類-D06M 10/00 J |
2017年07月10日 特許庁 / 特許 | ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 FI分類-G03F 1/62, FI分類-C09J 133/00, FI分類-C09J 133/06, FI分類-C09J 201/00 |
2017年07月10日 特許庁 / 特許 | 粘着剤付ペリクルフレーム、ペリクル、ペリクル付フォトマスク、露光方法、半導体の製造方法及び液晶ディスプレイの製造方法 FI分類-C09J 7/38, FI分類-G03F 1/62, FI分類-C09J 201/00 |
2017年06月16日 特許庁 / 特許 | 水硬性組成物 FI分類-C04B 14/28, FI分類-C04B 14/36, FI分類-C04B 28/02, FI分類-C04B 18/08 Z, FI分類-C04B 18/14 A, FI分類-C04B 18/14 Z, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/38 D |
2017年06月14日 特許庁 / 特許 | シリコーンが固着された繊維及びその製造方法 FI分類-D06M 14/20, FI分類-D06M 101:00, FI分類-D06M 15/356, FI分類-D06M 15/643 |
2017年06月09日 特許庁 / 特許 | 外周切断刃の製造方法 FI分類-B24D 3/06 B, FI分類-B24D 5/12 Z, FI分類-B24D 3/00 340 |
2017年06月06日 特許庁 / 特許 | オルガノシリコーンエマルジョン組成物 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 83/06, FI分類-C08L 83/12, FI分類-C08G 65/336 |
2017年05月24日 特許庁 / 特許 | 粘着剤組成物 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 77/50, FI分類-C09J 133/04, FI分類-C09J 183/14, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-G02F 1/1335 510 |
2017年05月24日 特許庁 / 特許 | 粘着剤組成物 FI分類-C09J 7/38, FI分類-G02B 5/30, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C07F 7/08 Y, FI分類-C09J 133/04, FI分類-C09J 201/00 |
2017年05月10日 特許庁 / 特許 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー、表面処理剤及び物品 FI分類-C08G 65/329, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-C09K 3/18 102, FI分類-C09K 3/18 103, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-B32B 27/00 101 |
2017年04月28日 特許庁 / 特許 | 化粧料組成物 FI分類-A61K 8/06, FI分類-A61K 8/29, FI分類-A61K 8/37, FI分類-A61Q 1/00, FI分類-A61K 8/891, FI分類-A61K 8/894, FI分類-A61Q 17/04 |
2017年04月27日 特許庁 / 特許 | 流動性の高いコンクリート FI分類-C04B 28/02, FI分類-C04B 103:32, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/38 D, FI分類-C04B 24/38 Z |
2017年04月27日 特許庁 / 特許 | 流動性の高いコンクリート FI分類-C04B 28/02, FI分類-C04B 24/26 E, FI分類-C04B 24/38 D, FI分類-E21D 11/10 Z |
2017年04月12日 特許庁 / 特許 | シリコーン樹脂フィルムおよびその製造方法、並びに半導体デバイスの製造方法 FI分類-C08G 77/08, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 F, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-C08J 5/18 CFH |
2017年04月10日 特許庁 / 特許 | ポリシロキサンモノマー及びその製造方法 FI分類-G02C 7/04, FI分類-C08F 30/08, FI分類-C08G 65/48, FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08G 81/00, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C08J 3/075 CER |
2017年04月10日 特許庁 / 特許 | リチウムイオン二次電池用負極活物質、リチウムイオン二次電池用混合負極活物質材料、リチウムイオン二次電池用負極、リチウムイオン二次電池、リチウムイオン二次電池用負極活物質の製造方法、リチウムイオン二次電池用負極の製造方法、及びリチウムイオン二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 4/48, FI分類-C01B 33/32, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E |
2017年04月10日 特許庁 / 特許 | リチウムイオン二次電池、モバイル端末、自動車及び電力貯蔵システム FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E |
2017年04月04日 特許庁 / 特許 | 負極活物質、混合負極活物質材料、及び負極活物質の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/485, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-C01B 33/12 A, FI分類-C01B 33/113 A |
2017年03月15日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクス基板収納容器、フォトマスクブランクス基板の保管方法、及びフォトマスクブランクス基板の輸送方法 FI分類-H01L 21/68 T |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 P |
2017年02月06日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C30B 25/18, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 C |
2017年02月06日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド製膜用下地基板及びそれを用いたダイヤモンド基板の製造方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C30B 25/18, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 A, FI分類-C30B 29/04 P |
2016年10月06日 特許庁 / 特許 | レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07C 53/15, FI分類-C07C 53/16, FI分類-C07C 53/18, FI分類-C07C 61/15, FI分類-C07C 61/40, FI分類-C07C 63/06, FI分類-C07C 63/70, FI分類-C08F 12/14, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 311/09, FI分類-C07C 59/115, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | R-Fe-B系焼結磁石 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-C21D 6/00 B, FI分類-C22C 38/00 304, FI分類-H01F 1/057 170, FI分類-C22C 38/00 303 D |
2016年04月26日 特許庁 / 特許 | 光アイソレータ FI分類-G02B 5/30, FI分類-G02B 27/28 A |
2016年04月06日 特許庁 / 特許 | 負極活物質、混合負極活物質材料、及び負極活物質の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E |
2016年02月29日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド基板 FI分類-C30B 25/18, FI分類-C30B 29/04 Q |
2016年02月15日 特許庁 / 特許 | 負極活物質及びリチウムイオン二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/66 A |
2016年02月05日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド電子素子及びダイヤモンド電子素子の製造方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/503, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 C, FI分類-H01L 29/48 D, FI分類-H01L 29/86 301 D, FI分類-H01L 29/86 301 P |
2016年02月05日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド電子素子及びダイヤモンド電子素子の製造方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-H01L 21/20, FI分類-C23C 16/511, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 C, FI分類-H01L 29/48 D, FI分類-H01L 29/48 M, FI分類-H01L 29/86 301 D, FI分類-H01L 29/86 301 P |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池負極の製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 B, FI分類-H01M 4/36 C, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-C01B 33/113 Z |
2015年09月17日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンの収容治具および多結晶シリコンの製造方法 FI分類-C01B 33/037, FI分類-C01B 33/02 E, FI分類-G01N 27/62 C, FI分類-G01N 27/62 V |
2015年09月15日 特許庁 / 特許 | 樹脂材料、ビニール製袋、多結晶シリコン棒、多結晶シリコン塊 FI分類-C01B 33/035, FI分類-C08L 101/00, FI分類-B65D 65/00 A |
2015年09月15日 特許庁 / 特許 | 樹脂材料、ビニール製袋、多結晶シリコン棒、多結晶シリコン塊 FI分類-B65D 65/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C01B 33/02 E, FI分類-C30B 29/06 D |
2015年08月10日 特許庁 / 特許 | シリコン粉塵の空気輸送方法、捕集方法、および処理方法 FI分類-B01D 45/08 B, FI分類-B01D 47/06 Z, FI分類-B65G 53/04 Z, FI分類-B01D 50/00 501 G, FI分類-B01D 50/00 501 L |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | コンクリート構造物の防水工法 FI分類-E03B 11/14, FI分類-E04B 1/66 A |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | コンクリート構造物の防水工法 FI分類-E03B 11/14, FI分類-E04B 1/66 A |
信越化学工業株式会社の商標情報(39件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年02月13日 特許庁 / 商標 | フジコナコン 05類 |
2022年11月07日 特許庁 / 商標 | アワ キャッチャー 01類 |
2022年10月07日 特許庁 / 商標 | Sicle 01類, 02類, 16類 |
2022年05月23日 特許庁 / 商標 | シンエツ プロテクトシート 17類, 19類 |
2022年05月23日 特許庁 / 商標 | シンエツ プロテクトテープ 17類, 19類 |
2021年10月05日 特許庁 / 商標 | AllRoundPatch 01類 |
2021年09月22日 特許庁 / 商標 | EZ‐PETAMP 07類 |
2021年03月11日 特許庁 / 商標 | SEルアー 05類 |
2021年03月11日 特許庁 / 商標 | SEトラップ 21類 |
2021年01月19日 特許庁 / 商標 | E-MAP 01類, 17類 |
2019年09月11日 特許庁 / 商標 | SICOAT 01類 |
2018年11月20日 特許庁 / 商標 | SQY 21類, 24類 |
2018年11月20日 特許庁 / 商標 | SQX 09類, 17類, 21類, 24類 |
2018年10月05日 特許庁 / 商標 | SLK 01類, 09類, 17類 |
2018年10月05日 特許庁 / 商標 | LMC 01類, 17類 |
2018年07月30日 特許庁 / 商標 | KGC 01類, 02類, 17類 |
2018年07月03日 特許庁 / 商標 | コン柱キャップ 19類 |
2017年10月12日 特許庁 / 商標 | SHIN-ETSU SUBELYN 01類, 02類 |
2017年09月05日 特許庁 / 商標 | Y-MEISTER 01類 |
2017年08月30日 特許庁 / 商標 | Shin-Etsu Silicone 02類 |
2017年08月30日 特許庁 / 商標 | 信越シリコーン 02類 |
2017年08月30日 特許庁 / 商標 | §ShinEtsu 05類, 07類, 35類, 36類, 37類, 39類, 40類, 45類 |
2017年08月30日 特許庁 / 商標 | Shin-Etsu 05類, 07類 |
2016年12月27日 特許庁 / 商標 | 信越石英 07類, 09類, 11類, 21類, 24類 |
2016年12月27日 特許庁 / 商標 | Shin-Etsu Quartz 07類, 09類, 11類, 21類, 24類 |
2016年09月20日 特許庁 / 商標 | Shin-Etsu Sealing Sheet 01類, 17類 |
2016年09月20日 特許庁 / 商標 | シンエツ シーリングシート 01類, 17類 |
2016年01月13日 特許庁 / 商標 | イヌバテープ 19類 |
2016年01月13日 特許庁 / 商標 | シンエツ パッチテープ 19類 |
2016年01月13日 特許庁 / 商標 | パッチシールクロス 19類 |
2015年05月07日 特許庁 / 商標 | BIOsil 01類 |
2015年03月24日 特許庁 / 商標 | アグリパッチシール 17類 |
2014年12月17日 特許庁 / 商標 | シンエツ セルフロックバンデージ 17類 |
2014年05月21日 特許庁 / 商標 | Aquasolais 01類, 02類, 03類, 05類, 06類, 17類, 19類 |
2014年05月21日 特許庁 / 商標 | Scutum 01類, 02類 |
2014年05月21日 特許庁 / 商標 | Tersus 01類, 02類 |
2014年05月13日 特許庁 / 商標 | ISOTRAIL 05類 |
2014年04月23日 特許庁 / 商標 | SMARTEX 01類 |
2014年04月21日 特許庁 / 商標 | SHIL-SKIN 18類, 24類 |
信越化学工業株式会社の意匠情報(46件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2022年11月04日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用リリース基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用リリース基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用レセプター基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | 微小構造体移載用スタンプ部品 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | ハンドリング用キャリア基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | ハンドリング用キャリア基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | ハンドリング用キャリア基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | ハンドリング用キャリア基板 意匠新分類-K0790 |
2021年10月15日 特許庁 / 意匠 | ハンドリング用キャリア基板 意匠新分類-K0790 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
2021年05月28日 特許庁 / 意匠 | 害虫防除剤放散器 意匠新分類-C4311 |
信越化学工業株式会社の職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | 塩化ビニル、シリコーン、半導体シリコン、レア・アース・マグネット、合成石英、セルロース誘導体等の製造・販売 |
企業規模 | 3,481人 男性 3,335人 / 女性 345人 |
平均勤続年数 範囲 対象とする労働者すべて | 男性 20.4年 / 女性 17.7年 |
女性労働者の割合 範囲 正社員 | 14.3% |
管理職全体人数 | 1,156人 男性 1,133人 / 女性 23人 |
役員全体人数 | 13人 男性 10人 / 女性 3人 |
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