株式会社リガク

株式会社リガクとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社リガクの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社リガク
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	リガク
法人番号	5012801002680
会社法人等番号	0128-01-002680
登記所	東京法務局立川出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T5012801002680 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒196-0003 ※地方自治体コードは 13207
国内所在地（都道府県）都道府県	東京都 ※東京都の法人数は 1,319,965件
国内所在地（市区町村）市区町村	昭島市 ※昭島市の法人数は 3,665件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	松原町3丁目9番12号
国内所在地（1行表示）1行表示	東京都昭島市松原町3丁目9番12号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	-
英語表記	Rigaku Corporation
国内所在地（英語表示）英語表示	3-9-12, Matsubara-cho, Akishima shi, Tokyo
代表者	代表取締役 川上 潤
設立日	1951年12月06日
従業員数	738人
更新年月日更新日	2022年07月25日
変更年月日変更日	2022年07月01日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	立川労働基準監督署 〒190-8516 東京都立川市緑町4-2立川地方合同庁舎3階

株式会社リガクの場所

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株式会社リガクの登録履歴

日付	内容
2022年07月01日	【吸収合併】 令和4年7月1日山梨県北杜市須玉町若神子字大小久保4495番地8株式会社リガク山梨(1090001011722)を合併
2022年01月11日	【吸収合併】 令和4年1月1日東京都昭島市松原町三丁目9番12号理学メカトロニクス株式会社(1012801002684)を合併 令和4年1月1日大阪府高槻市赤大路町14番8号理学サービス株式会社(9120901012296)を合併
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社リガク」で、「東京都昭島市松原町3丁目9番12号」に新規登録されました。

株式会社リガクの法人活動情報

株式会社リガクの調達情報(12件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2023年02月16日 警察庁	X線回折装置改修用品 31,174,000円
2022年09月06日 警察庁	蛍光X線分析装置 26,796,000円
2021年07月13日 防衛省	X線回析装置修理 1,815,000円
2020年11月10日 防衛省	X線回折装置修理 1,540,000円
2020年01月16日 警察庁	X線回折装置の改修 1式 2,387,000円
2019年11月01日 防衛省	蛍光X線分析装置 14,520,000円
2019年01月22日 防衛省	X線回析装置修理 1,458,000円
2019年01月16日 防衛省	結晶構造測定装置修理 1,261,440円
2018年10月01日 警察庁	X線回折装置 160,509,600円
2018年06月13日 環境省	平成30年度試料水平型X線回折装置用 制御・解析PCシステム一式の購入 3,328,560円
2017年09月05日 宮内庁	携帯型成分分析計の購入 6,156,000円
2017年07月10日 国家公安委員会（警察庁）	爆発エネルギー測定装置 13,176,000円

株式会社リガクの表彰情報(3件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2020年10月13日 経済産業省	地域未来牽引企業 2020
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社リガクの届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 川上 潤 全省庁統一資格 / -

株式会社リガクの特許情報(145件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年06月13日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2022年01月13日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01M 3/32 A, FI分類-G01N 23/223
2021年11月24日 特許庁 / 特許	構造情報取得方法及び構造情報取得装置 FI分類-G01N 23/041
2021年10月28日 特許庁 / 特許	ピーク同定解析プログラム及び蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2021年08月24日 特許庁 / 特許	X線分析装置及び波高値予測プログラム FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/36 D
2021年06月24日 特許庁 / 特許	情報処理装置、情報処理方法及びプログラム FI分類-G01N 23/046, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 7/00 A, FI分類-G06T 1/00 510, FI分類-G01N 23/04 340
2021年06月08日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2021年05月17日 特許庁 / 特許	X線画像生成装置 FI分類-G01N 23/041
2021年03月22日 特許庁 / 特許	放射線測定装置 FI分類-G01N 23/20, FI分類-G01N 23/20008
2020年12月11日 特許庁 / 特許	混合物の回折パターン分析方法、装置、プログラム及び情報記憶媒体 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/2055 320
2020年12月01日 特許庁 / 特許	全反射蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2020年11月30日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 B, FI分類-G01N 23/2209
2020年11月30日 特許庁 / 特許	エネルギー分散型蛍光X線分析装置、評価方法及び評価プログラム FI分類-G01N 23/223
2020年11月24日 特許庁 / 特許	層厚解析方法 FI分類-G01N 23/041, FI分類-G01B 15/02 H
2020年10月30日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2020年10月30日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2020年09月28日 特許庁 / 特許	加圧分析用構造体、X線回折装置及び加圧分析システム FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/0562, FI分類-H01M 10/0585, FI分類-H01M 10/48 A, FI分類-G01N 23/20025
2020年09月11日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置用のガラスビードを作製する方法 FI分類-G01N 1/28 S, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2202, FI分類-G01N 1/00 102 B
2020年09月03日 特許庁 / 特許	全反射蛍光X線分析装置及び推定方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G06N 20/00 130
2020年08月11日 特許庁 / 特許	発生ガス分析装置とオリフィス位置決め方法 FI分類-G01N 1/22 R, FI分類-G01N 25/02 A, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/14 700, FI分類-G01N 1/00 101 T
2020年06月19日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置、判定方法及び判定プログラム FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2020年06月15日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置、及び、蛍光X線分析装置の制御方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2020年05月18日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2020年03月30日 特許庁 / 特許	電池分析用構造体およびX線回折装置 FI分類-G01N 23/20025
2020年02月12日 特許庁 / 特許	定量分析方法、定量分析プログラム及び蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2020年02月07日 特許庁 / 特許	X線管球、X線分析装置及びX線管球におけるターゲットの冷却方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-H01J 35/12, FI分類-H05G 1/02 P
2020年01月15日 特許庁 / 特許	X線分析装置、X線分析方法、及びX線分析プログラム FI分類-G01N 23/2055 320
2020年01月08日 特許庁 / 特許	透過型小角散乱装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01N 23/20016, FI分類-G01N 23/20025
2020年01月08日 特許庁 / 特許	透過型小角散乱装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/66 P, FI分類-G01N 23/20025
2020年01月08日 特許庁 / 特許	透過型小角散乱装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01B 15/00 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/66 P, FI分類-G01N 23/20025
2019年12月27日 特許庁 / 特許	散乱測定解析方法、散乱測定解析装置、及び散乱測定解析プログラム FI分類-G01N 23/201
2019年12月13日 特許庁 / 特許	制御装置、システム、方法およびプログラム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008, FI分類-G01N 23/20016
2019年11月28日 特許庁 / 特許	測定用気密ボックス、気密装置、測定システムおよび測定装置 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008, FI分類-G01N 23/20016, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置と方法、及び、そのための試料ホルダユニット FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析システム FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置および試料ホルダ取り付け装置 FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置と方法、そのための試料ホルダ及びアプリケータ FI分類-G01N 1/28 Z, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置とそのための方法 FI分類-G01N 1/10 Z, FI分類-G01N 1/28 Z, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析試料の吸蔵装置及び吸蔵方法 FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置および試料ホルダ FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20016, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析用試料の吸蔵装置と吸蔵方法 FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置用試料ホルダ、試料ホルダユニットおよび吸蔵方法 FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置用試料ホルダユニット FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月21日 特許庁 / 特許	単結晶X線構造解析装置用試料ホルダユニット FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20025
2019年11月20日 特許庁 / 特許	熱分析装置と電気炉の制御方法 FI分類-G01N 5/04 A, FI分類-G01N 25/00 P
2019年10月24日 特許庁 / 特許	処理装置、システム、X線測定方法およびプログラム FI分類-G01T 1/24, FI分類-G01T 1/17 A, FI分類-G01T 1/17 B
2019年10月03日 特許庁 / 特許	X線測定装置およびシステム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008
2019年09月26日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2019年09月20日 特許庁 / 特許	定量分析方法、定量分析プログラム、及び、蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2019年08月26日 特許庁 / 特許	ガラスビード作製装置に用いられる試料カップ及び試料カップセット FI分類-G01N 1/28 S, FI分類-G01N 1/28 W
2019年08月16日 特許庁 / 特許	X線分析用試料保持装置 FI分類-G01N 23/20025
2019年07月22日 特許庁 / 特許	エリア検出器の保護方法、エリア検出器用保護デバイス、並びに当該保護デバイスを有するX線検出器システム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01T 1/17 D, FI分類-G01T 7/00 A, FI分類-G01N 23/20008
2019年05月10日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2019年04月22日 特許庁 / 特許	微細構造の解析方法、装置およびプログラム FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01B 15/04 A, FI分類-G01N 23/2055 310
2019年04月22日 特許庁 / 特許	微細構造の解析方法、装置およびプログラム FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01B 15/04 A, FI分類-G01N 23/2055 310
2019年04月12日 特許庁 / 特許	X線解析、X線回折データを処理する方法及び装置 FI分類-G01N 23/2055 310
2019年04月11日 特許庁 / 特許	投影像の撮影方法、制御装置、制御プログラム、処理装置および処理プログラム FI分類-G01N 23/046
2019年03月29日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G04F 10/00 Z
2019年03月26日 特許庁 / 特許	多結晶金属材料の劣化診断方法、装置およびシステム FI分類-G01N 17/00, FI分類-G01N 23/2055 320
2019年03月26日 特許庁 / 特許	ニッケル基超合金の劣化診断方法、装置およびシステム FI分類-G01N 23/2055
2019年03月19日 特許庁 / 特許	X線分析装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008
2019年03月04日 特許庁 / 特許	放射線検出器および放射線検出方法 FI分類-G01N 23/04, FI分類-G01T 7/00 A
2019年02月26日 特許庁 / 特許	グラフェン前駆体の判別方法、判別装置および判別プログラム FI分類-C01B 32/184, FI分類-G01N 23/207
2018年12月06日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2018年11月27日 特許庁 / 特許	X線信号処理装置及びX線分析装置 FI分類-G01T 1/24, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/36 D
2018年09月28日 特許庁 / 特許	測定装置、プログラム及び測定装置の制御方法 FI分類-G01N 23/223
2018年09月26日 特許庁 / 特許	X線発生装置、及びX線分析装置 FI分類-H01J 35/14, FI分類-H01J 35/18, FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01N 23/207, FI分類-G21K 5/02 X, FI分類-H05G 1/00 E, FI分類-H05G 1/52 A, FI分類-H05G 1/52 B, FI分類-H05G 1/70 A, FI分類-H01J 35/08 C
2018年09月05日 特許庁 / 特許	X線検査装置 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008
2018年08月09日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2018年07月09日 特許庁 / 特許	X線分析システム、X線分析装置及び気相分解装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01B 15/02 A, FI分類-G01B 15/02 D, FI分類-G01N 23/20 400
2018年07月02日 特許庁 / 特許	X線検出器及び当該X線検出器の制御方法 FI分類-G01N 23/207
2018年06月29日 特許庁 / 特許	X線分析装置及びその光軸調整方法 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008
2018年06月28日 特許庁 / 特許	バックグラウンド除去方法及び蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2018年06月21日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析システム FI分類-G01N 23/223
2018年06月06日 特許庁 / 特許	X線回折装置及びアタッチメント装置 FI分類-G01N 23/205, FI分類-G01N 23/20033, FI分類-G01N 23/20041
2018年05月18日 特許庁 / 特許	結晶相定量分析装置、結晶相定量分析方法、及び結晶相定量分析プログラム FI分類-G01N 23/2055 320
2018年04月02日 特許庁 / 特許	非晶質相の定量分析装置、非晶質相の定量分析方法、及び非晶質相の定量分析プログラム FI分類-G01N 23/2055 320
2018年03月20日 特許庁 / 特許	X線回折装置 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/20008
2018年03月14日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析方法、蛍光X線分析プログラムおよび蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2018年03月13日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析方法、蛍光X線分析装置またはプログラム FI分類-G01N 23/203, FI分類-G01N 23/223
2018年03月01日 特許庁 / 特許	X線発生装置、及びX線分析装置 FI分類-G21K 1/00 X, FI分類-G21K 1/06 B, FI分類-G21K 1/06 M, FI分類-G21K 5/10 M, FI分類-G01N 23/20008
2018年02月22日 特許庁 / 特許	試料回収装置、試料回収方法、及びこれらを用いた蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2202
2018年01月25日 特許庁 / 特許	X線分析補助装置及びX線分析装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01N 23/205
2017年11月21日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2208, FI分類-G01N 23/2209
2017年11月14日 特許庁 / 特許	X線光学デバイス FI分類-G01N 23/205
2017年11月14日 特許庁 / 特許	X線反射率測定装置 FI分類-G01N 23/20 400
2017年10月25日 特許庁 / 特許	ソーラースリット、X線回折装置および方法 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01T 7/00 B, FI分類-G21K 1/06 G, FI分類-G21K 5/10 T, FI分類-G01N 23/20 310
2017年10月17日 特許庁 / 特許	処理装置、方法およびプログラム FI分類-G01T 1/24, FI分類-G01T 1/17 A, FI分類-G01T 1/17 E
2017年10月06日 特許庁 / 特許	試料の分析方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/22 310
2017年09月29日 特許庁 / 特許	X線分析用信号処理装置及びX線分析用信号処理装置の調整方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 F, FI分類-G01T 1/17 H, FI分類-G01T 1/36 D
2017年09月20日 特許庁 / 特許	基板汚染分析システム FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/22 310
2017年09月05日 特許庁 / 特許	X線発生装置 FI分類-H01J 35/10 B
2017年08月31日 特許庁 / 特許	波長分散型蛍光X線分析装置およびそれを用いる蛍光X線分析方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2209
2017年08月29日 特許庁 / 特許	X線回折測定における測定結果の表示方法 FI分類-G01N 23/205
2017年08月22日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置用の試料ホルダ並びに試料ホルダ作成治具及び蛍光X線分析装置用の試料の作製方法 FI分類-G01N 1/28 W, FI分類-G01N 23/223
2017年07月27日 特許庁 / 特許	放射線画像生成装置及び放射線画像生成方法 FI分類-G01N 23/20 370
2017年07月14日 特許庁 / 特許	複合検査システム FI分類-G01N 23/201, FI分類-G01N 23/203
2017年07月12日 特許庁 / 特許	X線検査装置、X線薄膜検査方法およびロッキングカーブ測定方法 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G21K 1/06 C, FI分類-G21K 1/06 L
2017年07月05日 特許庁 / 特許	検出器 FI分類-G01T 1/24, FI分類-H04N 5/369, FI分類-G01T 1/17 A, FI分類-H01L 27/144 K, FI分類-H01L 27/146 F
2017年05月26日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 25/20 D
2017年02月15日 特許庁 / 特許	解析装置、解析方法および解析プログラム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/2206, FI分類-G01N 23/2055 320
2016年12月22日 特許庁 / 特許	結晶相定量分析装置、結晶相定量分析方法、及び結晶相定量分析プログラム FI分類-G01N 23/205 310
2016年10月07日 特許庁 / 特許	試料の分析方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/22 310
2016年09月30日 特許庁 / 特許	波長分散型蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2016年08月26日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2016年08月26日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2016年08月18日 特許庁 / 特許	X線回折装置 FI分類-G01N 23/207
2016年07月01日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2016年06月24日 特許庁 / 特許	処理方法、処理装置および処理プログラム FI分類-G01N 23/20
2016年06月15日 特許庁 / 特許	X線回折装置 FI分類-G01N 23/201
2016年06月08日 特許庁 / 特許	熱分析装置 FI分類-G01N 25/20 G
2016年05月24日 特許庁 / 特許	結晶相同定方法、結晶相同定装置、及びX線回折測定システム FI分類-G01N 23/205 310
2016年05月18日 特許庁 / 特許	X線分析の操作ガイドシステム、操作ガイド方法、及び操作ガイドプログラム FI分類-G01N 23/20 310
2016年03月30日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置および蛍光X線分析方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2016年03月17日 特許庁 / 特許	放射線画像生成装置 FI分類-A61B 6/06 333, FI分類-G01N 23/20 370, FI分類-A61B 6/00 330 Z
2016年03月08日 特許庁 / 特許	多元素同時型蛍光X線分析装置および多元素同時蛍光X線分析方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2016年01月07日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2015年10月06日 特許庁 / 特許	骨塩密度の解析装置、解析方法および解析プログラム FI分類-A61B 6/03 F, FI分類-A61B 6/03 370 Z
2015年10月02日 特許庁 / 特許	斜入射蛍光X線分析装置および方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/207 320
2015年09月18日 特許庁 / 特許	X線CT装置 FI分類-A61B 6/03 331, FI分類-A61B 6/10 350, FI分類-G01N 23/04 320
2015年09月18日 特許庁 / 特許	応力解析装置、方法およびプログラム FI分類-G01N 23/20
2015年09月11日 特許庁 / 特許	X線小角光学系装置 FI分類-G01N 23/201
2015年08月27日 特許庁 / 特許	放射線画像生成装置 FI分類-G01N 23/20 370
2015年08月18日 特許庁 / 特許	X線発生装置及びX線分析装置 FI分類-H01J 35/16, FI分類-H01J 35/28, FI分類-H01J 35/10 H
2015年08月18日 特許庁 / 特許	X線発生装置及びX線分析装置 FI分類-H01J 35/10 A
2015年08月06日 特許庁 / 特許	X線分析の操作ガイドシステム、操作ガイド方法、及び操作ガイドプログラム FI分類-G01N 23/20
2015年07月24日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置 FI分類-G01N 23/223
2015年07月24日 特許庁 / 特許	ピンホール・スリット体の製造方法、及びX線小角散乱測定装置 FI分類-G01N 23/201
2015年07月10日 特許庁 / 特許	データ処理装置、各ピクセルの特性を求める方法ならびにデータ処理の方法およびプログラム FI分類-G01T 1/17 E, FI分類-G01T 7/00 C
2015年06月24日 特許庁 / 特許	X線データ処理装置、その方法およびプログラム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 A
2015年06月24日 特許庁 / 特許	X線データ処理装置、その方法およびプログラム FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 A, FI分類-G01T 1/17 C, FI分類-G01N 23/22 330
2015年05月14日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析装置および方法 FI分類-G01N 23/223
2015年05月11日 特許庁 / 特許	X線発生装置、及びその調整方法 FI分類-H01J 35/14, FI分類-H01J 35/30, FI分類-H01J 35/08 C
2015年04月13日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析システム FI分類-G01N 23/223
2015年03月30日 特許庁 / 特許	CT画像処理装置および方法 FI分類-G01N 23/04 320, FI分類-A61B 6/03 360 D, FI分類-A61B 6/03 370 B
2015年03月26日 特許庁 / 特許	二重湾曲X線集光素子およびその構成体、二重湾曲X線分光素子およびその構成体の製造方法 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G21K 1/06 B, FI分類-G21K 1/06 D
2015年02月02日 特許庁 / 特許	ビーム生成ユニットおよびX線小角散乱装置 FI分類-G01N 23/201, FI分類-G21K 1/06 L, FI分類-G21K 1/06 M, FI分類-G21K 1/06 S, FI分類-G01N 23/20 310
2014年10月14日 特許庁 / 特許	X線薄膜検査装置 FI分類-G01N 23/203, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/20 315
2014年10月14日 特許庁 / 特許	X線薄膜検査装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01N 23/22 330
2014年09月18日 特許庁 / 特許	X線分析装置 FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 E, FI分類-G01T 1/36 C
2014年08月22日 特許庁 / 特許	画像処理装置、画像処理方法および画像処理プログラム FI分類-A61B 6/03 371, FI分類-A61B 6/03 377, FI分類-A61B 6/03 360 G, FI分類-A61B 6/03 360 Q
2014年07月23日 特許庁 / 特許	X線検出信号処理装置およびそれを用いたX線分析装置 FI分類-G01N 23/207, FI分類-G01N 23/223, FI分類-G01T 1/17 D, FI分類-G01T 1/17 F, FI分類-G01T 1/17 H, FI分類-G01T 1/36 A
2014年06月05日 特許庁 / 特許	X線回折装置 FI分類-G01N 23/207
2014年02月12日 特許庁 / 特許	構造精密化装置、方法およびプログラム FI分類-G01N 23/207
2014年01月30日 特許庁 / 特許	画像処理方法および画像処理装置 FI分類-G06T 5/00 300, FI分類-H04N 1/40 101 C

株式会社リガクの商標情報(53件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年05月23日 特許庁 / 商標	SuperLab 09類
2022年09月21日 特許庁 / 商標	SureDI 09類
2022年09月21日 特許庁 / 商標	Rigaku SureDI 09類
2022年09月16日 特許庁 / 商標	ULTGA 09類
2022年04月26日 特許庁 / 商標	χ sensor 09類
2022年04月26日 特許庁 / 商標	Δ Block 09類
2022年04月08日 特許庁 / 商標	SAXS3DM 09類
2021年07月09日 特許庁 / 商標	MiniFlex 09類
2021年06月16日 特許庁 / 商標	Rigaku Oxford Diffraction 09類, 37類
2021年06月16日 特許庁 / 商標	§Rigaku＼oxford diffraction 09類, 37類
2021年03月09日 特許庁 / 商標	Vullios 09類
2021年02月24日 特許庁 / 商標	NANOPIX 09類
2021年01月12日 特許庁 / 商標	vestaeye 09類
2020年03月06日 特許庁 / 商標	XSPA 09類
2020年03月02日 特許庁 / 商標	DD法 09類
2020年03月02日 特許庁 / 商標	Direct Derivation Method 09類
2020年03月02日 特許庁 / 商標	DD Method 09類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	StellaScan 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	CosmoScan 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	DR-Lab 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	scanX Discover 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	CT Lab 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	nano3DX 09類, 10類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	HyPix-Arc 09類
2019年09月17日 特許庁 / 商標	D/teX 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	PhotonMAX 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	PhotonJet 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	XRTmicron 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	AutoChem 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	CrysAlisPro 09類
2019年09月02日 特許庁 / 商標	NANO-Solver 09類
2019年05月10日 特許庁 / 商標	XTRAIA 09類
2019年04月25日 特許庁 / 商標	XHEMIS 09類
2018年04月09日 特許庁 / 商標	GG Index 09類, 42類
2017年09月20日 特許庁 / 商標	§Rigaku 09類, 10類, 37類
2017年09月20日 特許庁 / 商標	リガク 09類, 10類, 37類
2017年09月20日 特許庁 / 商標	§R(マル) 09類, 10類, 37類
2017年09月20日 特許庁 / 商標	§R(マル)∞Rigaku 09類, 10類, 37類
2017年06月21日 特許庁 / 商標	DSCvesta 09類
2017年06月21日 特許庁 / 商標	DSCvesta 09類
2016年08月26日 特許庁 / 商標	XtalCheck 09類
2016年07月21日 特許庁 / 商標	Simultix 09類
2016年05月18日 特許庁 / 商標	EasyX 09類
2016年05月18日 特許庁 / 商標	§EasyX 09類
2016年05月18日 特許庁 / 商標	EZX 09類
2016年05月18日 特許庁 / 商標	§EZX 09類
2016年04月13日 特許庁 / 商標	XtaLAB Synergy 09類
2016年04月13日 特許庁 / 商標	§XtaLAB＼Synergy 09類
2015年09月15日 特許庁 / 商標	XtaLAB 09類
2014年04月11日 特許庁 / 商標	SmartLab Studio 09類
2014年04月10日 特許庁 / 商標	SmartLab 09類
2014年01月31日 特許庁 / 商標	SmartSite 09類
2014年01月31日 特許庁 / 商標	SmartSite 09類

株式会社リガクの意匠情報(11件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年05月18日 特許庁 / 意匠	試料ホルダー 意匠新分類-J159
2023年05月18日 特許庁 / 意匠	試料ホルダー 意匠新分類-J159
2022年09月20日 特許庁 / 意匠	示差走査熱量計 意匠新分類-J1500
2022年08月19日 特許庁 / 意匠	発生ガス分析装置用インターフェース 意匠新分類-J159
2022年08月19日 特許庁 / 意匠	発生ガス分析装置用インターフェース 意匠新分類-J159
2021年05月12日 特許庁 / 意匠	試料台 意匠新分類-J159
2021年05月12日 特許庁 / 意匠	試料台 意匠新分類-J159
2021年05月12日 特許庁 / 意匠	試料台 意匠新分類-J159
2018年02月05日 特許庁 / 意匠	エックス線分析機 意匠新分類-J1500
2017年05月12日 特許庁 / 意匠	示差走査熱量計 意匠新分類-J1500
2017年04月14日 特許庁 / 意匠	熱分析装置用試料加熱炉 意匠新分類-J159

株式会社リガクの職場情報

項目	データ
事業概要	精密理化学機器の製造、販売
企業規模	738人
平均勤続年数 範囲 その他	男性 23.1年 / 女性 24.0年

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