東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社とは

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社(トウレエンジニアリングセンタンハンドウタイエムアイテクノロジー)は、法人番号:5020001092344で神奈川県横浜市港北区新横浜2丁目6番23号に所在する法人として横浜地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、特許情報が13件商標情報が2件が登録されています。なお、2022年04月01日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2022年04月08日です。
インボイス番号:T5020001092344については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は神奈川労働局。横浜北労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ トウレエンジニアリングセンタンハンドウタイエムアイテクノロジー
法人番号 5020001092344
会社法人等番号 0200-01-092344
登記所 横浜地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T5020001092344
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒222-0033
※地方自治体コードは 14109
国内所在地(都道府県)都道府県 神奈川県
※神奈川県の法人数は 366,717件
国内所在地(市区町村)市区町村 横浜市港北区
※横浜市港北区の法人数は 16,059件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 新横浜2丁目6番23号
国内所在地(1行表示)1行表示 神奈川県横浜市港北区新横浜2丁目6番23号
国内所在地(読み仮名)読み仮名 カナガワケンヨコハマシコウホククシンヨコハマ2チョウメ
更新年月日更新日 2022年04月08日
変更年月日変更日 2022年04月01日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 神奈川労働局
〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 横浜北労働基準監督署
〒222-0033 神奈川県神奈川県横浜市港北区新横浜2-4-1日本生命新横浜ビル3・4階

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の場所

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東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の登録履歴

日付 内容
2022年04月01日
【名称変更】
名称が「東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社」に変更されました。
2019年12月03日
【名称変更】
名称が「TASMIT株式会社」に変更されました。
2017年08月07日
【住所変更】
国内所在地が「神奈川県横浜市港北区新横浜2丁目6番23号」に変更されました。
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「株式会社NGR」で、「神奈川県横浜市緑区白山1丁目18番2号」に新規登録されました。

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の法人活動情報

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の特許情報(13件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2021年04月09日
特許庁 / 特許
パターンマッチング方法
FI分類-G01N 23/2251, FI分類-G06T 7/00 300 E
2020年12月04日
特許庁 / 特許
パターンエッジ検出方法、パターンエッジ検出装置、パターンエッジ検出をコンピュータに実行させるためのプログラムが記録された記録媒体
FI分類-G06T 7/13, FI分類-G06T 7/00 350 B
2020年05月20日
特許庁 / 特許
パターン測定方法
FI分類-G01B 15/00 K, FI分類-H01L 21/66 J
2020年04月30日
特許庁 / 特許
パターン欠陥検出方法
FI分類-G01B 15/00 K, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2020年03月26日
特許庁 / 特許
走査電子顕微鏡および画像生成方法
FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/153 B
2018年03月30日
特許庁 / 特許
ウェハパターンのエッジと基準パターンのエッジとの乖離量と基準パターンのスペース幅との関係を示す補正線を生成する方法および装置、並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体
FI分類-G01B 15/04 K, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2018年03月27日
特許庁 / 特許
パターンエッジ検出方法
FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 7/00 350 C
2018年03月06日
特許庁 / 特許
反射電子のエネルギースペクトルを測定する装置および方法
FI分類-G01N 23/20, FI分類-H01J 37/05, FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 B
2018年02月07日
特許庁 / 特許
走査電子顕微鏡のオートフォーカス方法
FI分類-H01J 37/21 B, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B
2017年08月31日
特許庁 / 特許
画像生成方法
FI分類-G01N 23/225 310
2017年06月29日
特許庁 / 特許
走査電子顕微鏡の操作パラメータを検証する方法
FI分類-H01J 37/22 502 H
2017年06月23日
特許庁 / 特許
パターン検査装置の検査結果の度数分布形状に関する情報を活用する方法
FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310
2017年06月23日
特許庁 / 特許
パターン欠陥検出方法
FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310

東レエンジニアリング先端半導体MIテクノロジー株式会社の商標情報(2件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2020年03月19日
特許庁 / 商標
INSPECTRA
07類, 09類, 42類
2019年12月12日
特許庁 / 商標
TASMIT
07類, 09類, 42類

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