株式会社アルバック

株式会社アルバックとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社アルバックの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社アルバック
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	アルバック
法人番号	5021001007242
会社法人等番号	0210-01-007242
登記所	横浜地方法務局湘南支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T5021001007242 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒253-0071 ※地方自治体コードは 14207
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 365,856件
国内所在地（市区町村）市区町村	茅ヶ崎市 ※茅ヶ崎市の法人数は 7,746件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	萩園2500番地
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地
国内所在地（読み仮名）読み仮名	-
代表者	代表取締役社長 岩下 節生
資本金	208億7,300万円 (2023年10月02日現在)
従業員数	1,710人 (2023年10月02日現在)
電話番号TEL	0467-89-2033
FAX番号FAX	0467-82-9114
ホームページHP	http://www.ulvac.co.jp/
更新年月日更新日	2022年07月25日
変更年月日変更日	2022年07月01日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	藤沢労働基準監督署 〒251-0054 神奈川県藤沢市朝日町5-12 藤沢労働総合庁舎3階

株式会社アルバックの場所

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株式会社アルバックの補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	カブシキガイシャ　アルバック
企業名 英語	ULVAC,Inc.
上場・非上場	上場
資本金	208億7,300万円
業種	電気機器
証券コード	67280

株式会社アルバックの登録履歴

日付	内容
2022年07月01日	【吸収合併】 令和4年7月1日青森県八戸市北インター工業団地六丁目1番16号アルバック東北株式会社(6420001006171)を合併 令和4年7月1日鹿児島県霧島市横川町上ノ3313番地1アルバック九州株式会社(7340001012268)を合併
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社アルバック」で、「神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地」に新規登録されました。

株式会社アルバックの法人活動情報

株式会社アルバックの調達情報(1件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2019年09月18日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	NEDO先導研究プログラム新産業創出新技術先導研究プログラムポスト・ムーア時代の次世代配線開発 15,268,000円

株式会社アルバックの補助金情報(2件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2019年04月01日 経済産業省	平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(加熱しても膨れない・反らないIoT端末用低線膨張配線銅めっき液とコアレスプリント基板の電解めっき装置の開発) -
2019年04月01日 経済産業省	平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(加熱しても膨れない・反らないIoT端末用低線膨張配線銅めっき液とコアレスプリント基板の電解めっき装置の開発) -

株式会社アルバックの表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社アルバックの届出情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:株式会社アルバック 千葉富里工場 PRTR届出データ / PRTR - 非鉄金属製造業(経済産業大臣)
2017年11月29日 経済産業省	支店:株式会社アルバック 千葉山武工場 PRTR届出データ / PRTR - 非鉄金属製造業(経済産業大臣)

株式会社アルバックの特許情報(702件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年10月26日 特許庁 / 特許	真空処理装置、静電チャック及び搬送ローラ FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-C23C 14/56 A, FI分類-H01L 21/68 R
2023年09月14日 特許庁 / 特許	酸化物半導体薄膜、半導体デバイス及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 618 Z
2023年07月07日 特許庁 / 特許	電子ビーム式蒸着ユニット FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/30 A
2023年06月29日 特許庁 / 特許	酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法、酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-C04B 35/453, FI分類-C23C 14/34 A
2023年06月12日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 D
2023年06月12日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2023年05月22日 特許庁 / 特許	ターゲット組立体およびターゲット組立体の製造方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-B23K 20/00 310 M
2023年05月15日 特許庁 / 特許	モリブデンターゲットおよびその製造方法 FI分類-B22F 1/052, FI分類-B22F 1/00 P, FI分類-B22F 3/14 D, FI分類-B22F 3/15 M, FI分類-C22C 1/04 D, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C22C 27/04 102
2023年02月17日 特許庁 / 特許	表示装置、表示方法、及びプログラム FI分類-G06T 11/20 600
2023年02月16日 特許庁 / 特許	酸化物半導体薄膜積層体及びその製造方法、薄膜半導体装置及びその製造方法、及びスパッタリングターゲット及びその製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 21/203 S, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 618 E
2022年06月27日 特許庁 / 特許	タングステンターゲットおよびその製造方法 FI分類-B22F 3/14 D, FI分類-C22C 1/04 D, FI分類-C23C 14/34 A
2022年04月08日 特許庁 / 特許	シャワープレート、プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C
2022年02月22日 特許庁 / 特許	膜厚監視方法および膜厚監視装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01N 5/02 A, FI分類-G01B 17/02 A
2021年12月03日 特許庁 / 特許	真空処理装置のクリーニング方法 FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/302 103, FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 H
2021年11月17日 特許庁 / 特許	エッチング方法、および、エッチング装置 FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 105 Z
2021年11月09日 特許庁 / 特許	成膜方法及び成膜装置 FI分類-H01L 21/469, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/31 D
2021年11月04日 特許庁 / 特許	真空ポンプ、真空ポンプの制御方法、真空ポンプ用電力変換装置、圧縮機用電力変換装置および圧縮機 FI分類-F04C 25/02 B, FI分類-F04C 28/28 B
2021年09月13日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 K
2021年08月24日 特許庁 / 特許	高周波電力回路、プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 C
2021年07月15日 特許庁 / 特許	回転式カソードユニット用の駆動ブロック FI分類-C23C 14/34 B
2021年07月01日 特許庁 / 特許	センサ装置 FI分類-G01N 5/02 A
2021年06月22日 特許庁 / 特許	金属配線構造体及び金属配線構造体の製造方法 FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/14 B, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 21/88 N, FI分類-H01L 21/88 R, FI分類-H01L 29/78 617 L, FI分類-H01L 29/78 617 M
2021年06月11日 特許庁 / 特許	積層構造体及び積層構造体の製造方法 FI分類-C23C 14/34, FI分類-C23C 14/14 G
2021年06月11日 特許庁 / 特許	回転式カソードユニット用の駆動ブロック FI分類-C23C 14/34 B
2021年04月27日 特許庁 / 特許	エッチング方法 FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 105 A
2021年04月20日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置及びこのマグネトロンスパッタリング装置を用いた成膜方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/28, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 Z, FI分類-H05B 33/14 A
2021年03月22日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 B
2021年02月05日 特許庁 / 特許	スクリューポンプ FI分類-F04C 18/16 B, FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/00 D
2021年01月27日 特許庁 / 特許	真空ポンプ及び真空ポンプの復圧方法 FI分類-F04C 25/02 C, FI分類-F04C 25/02 L, FI分類-F04C 18/344 311, FI分類-F04C 29/02 361 Z, FI分類-F04C 18/344 351 U
2020年12月28日 特許庁 / 特許	エッチング装置及びエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A
2020年12月22日 特許庁 / 特許	蒸着源、蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 A
2020年12月22日 特許庁 / 特許	薄膜製造装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 4/1391, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-C23C 14/32 D
2020年12月22日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/58, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 10/0562
2020年12月10日 特許庁 / 特許	ニオブ粉末、ニオブ粉末製造用部材及びこれらの製造方法並びにニオブ部材の製造方法 FI分類-B22F 3/16, FI分類-C22B 9/14, FI分類-B22F 3/105, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 70/00, FI分類-C22B 34/24, FI分類-B22F 1/00 R, FI分類-B22F 9/08 A, FI分類-B22F 9/14 Z, FI分類-C22F 1/18 F, FI分類-C22F 1/00 624, FI分類-C22F 1/00 625, FI分類-C22F 1/00 628, FI分類-C22F 1/00 687, FI分類-C22F 1/00 660 Z, FI分類-C22F 1/00 661 Z, FI分類-C22F 1/00 685 Z, FI分類-C22C 27/02 102 A
2020年11月12日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 L
2020年10月29日 特許庁 / 特許	圧力測定方法及び熱陰極電離真空計 FI分類-G01L 21/32
2020年09月03日 特許庁 / 特許	アルミニウム合金ターゲット、アルミニウム合金配線膜、及びアルミニウム合金配線膜の製造方法 FI分類-C22F 1/04 F, FI分類-C22C 21/00 M, FI分類-C23C 14/14 B, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C22F 1/00 613, FI分類-C22F 1/00 622, FI分類-C22F 1/00 625, FI分類-C22F 1/00 682, FI分類-C22F 1/00 683, FI分類-C22F 1/00 630 F, FI分類-C22F 1/00 630 K, FI分類-C22F 1/00 650 A, FI分類-C22F 1/00 660 Z, FI分類-C22F 1/00 661 A, FI分類-C22F 1/00 685 Z, FI分類-C22F 1/00 691 B, FI分類-C22F 1/00 691 C, FI分類-H01L 29/78 617 T, FI分類-H01L 29/78 627 F
2020年08月11日 特許庁 / 特許	酸化物半導体膜の形成方法及び電子部品 FI分類-H01L 21/203 S, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 627 F, FI分類-H01L 27/108 671 Z
2020年08月07日 特許庁 / 特許	真空凍結乾燥方法および真空凍結乾燥装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 25/00 A
2020年08月06日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-H03H 9/19 A
2020年08月05日 特許庁 / 特許	シリコンのドライエッチング方法 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 105 A
2020年08月03日 特許庁 / 特許	真空処理装置、真空処理方法 FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 R
2020年07月31日 特許庁 / 特許	ハードマスク及びハードマスクの製造方法 FI分類-C23C 14/34 N
2020年07月29日 特許庁 / 特許	搬送駆動機構 FI分類-B65G 43/00 D, FI分類-B65G 47/52 A, FI分類-H01L 21/68 A
2020年07月28日 特許庁 / 特許	吸着装置及び真空処理装置 FI分類-C23C 16/458, FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D
2020年07月21日 特許庁 / 特許	イオンガン FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08
2020年07月09日 特許庁 / 特許	測定装置、膜厚センサ、成膜装置および異常判定方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 16/52, FI分類-G01N 5/02 A, FI分類-C23C 14/54 C, FI分類-G01B 17/02 A
2020年07月09日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 21/318 B
2020年07月08日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及び金属化合物膜の成膜方法 FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/34 U
2020年07月07日 特許庁 / 特許	蒸着源及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/24 A
2020年07月02日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C23C 14/34 B
2020年06月24日 特許庁 / 特許	金属配線の形成方法及び成膜装置 FI分類-C23C 14/14 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-H01L 21/88 N, FI分類-H01L 21/90 A
2020年06月24日 特許庁 / 特許	金属配線の形成方法及び金属配線の構造体 FI分類-H05K 1/09 A, FI分類-H01L 21/28 Z, FI分類-H01L 21/88 B
2020年06月05日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/35 C, FI分類-H01L 21/285 S
2020年06月04日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2020年06月04日 特許庁 / 特許	吸着装置及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/302 101 G
2020年06月01日 特許庁 / 特許	通電加熱線の製造方法および製造装置 FI分類-C01B 32/914, FI分類-H05B 3/12 B
2020年06月01日 特許庁 / 特許	通電加熱線の製造方法および製造装置 FI分類-C01B 32/914, FI分類-H05B 3/12 B
2020年05月26日 特許庁 / 特許	測定異常検出装置、および、測定異常検出方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01B 17/02 A
2020年05月22日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2020年05月11日 特許庁 / 特許	プラズマ処理方法 FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/50 E
2020年04月27日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/34 A
2020年04月27日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/34 C
2020年04月27日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C23C 14/34 C
2020年04月27日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/34 C
2020年04月07日 特許庁 / 特許	真空成膜装置及び真空成膜方法 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-C23C 14/56 J
2020年04月07日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 G
2020年03月31日 特許庁 / 特許	金ナノ粒子の凝集体、金ナノ粒子分散液、放射線治療用増感剤及び金ナノ粒子分散液の製造方法 FI分類-A61K 9/10, FI分類-A61K 47/34, FI分類-A61K 51/02, FI分類-A61P 35/00, FI分類-A61K 33/242
2020年03月26日 特許庁 / 特許	四重極型質量分析装置 FI分類-H01J 49/42, FI分類-H01J 49/42 150
2020年03月25日 特許庁 / 特許	凍結乾燥方法及び凍結乾燥装置 FI分類-F26B 5/06
2020年03月24日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置、薄膜製造方法 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/35 A
2020年03月11日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 T
2020年02月28日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-C23C 14/24 L, FI分類-H05B 33/14 A
2020年02月28日 特許庁 / 特許	材料供給装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 D, FI分類-H05B 33/14 A
2020年02月26日 特許庁 / 特許	フレキシブルディスプレイパネルの製造方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 338, FI分類-G09F 9/30 308 Z, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 627 G
2020年02月19日 特許庁 / 特許	水晶振動子の収容ケース FI分類-H03H 3/02 A, FI分類-G01B 17/02 A, FI分類-B65D 85/38 300
2020年02月13日 特許庁 / 特許	プラズマCVD装置、および、プラズマCVD法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-C23C 16/509, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 29/78 619 A
2020年02月04日 特許庁 / 特許	蒸着源及び蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 A
2020年01月30日 特許庁 / 特許	スカンジウムアルミニウム窒化物粉末の製造方法及びターゲットの製造方法 FI分類-B22F 1/00 G, FI分類-B22F 1/00 N, FI分類-B22F 1/00 R, FI分類-C04B 35/581, FI分類-C22C 1/00 Q, FI分類-C01B 21/06 N, FI分類-C22C 21/00 N, FI分類-C22C 28/00 A, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C01B 21/072 Z
2020年01月29日 特許庁 / 特許	Cu合金ターゲット、配線膜、半導体装置、液晶表示装置 FI分類-G02F 1/1343, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301, FI分類-H01L 29/78 612 C, FI分類-H01L 29/78 617 L, FI分類-H01L 29/78 617 M
2020年01月17日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/56 B
2020年01月15日 特許庁 / 特許	金属配線の形成方法 FI分類-H01L 21/88 D, FI分類-H01L 21/90 A
2020年01月15日 特許庁 / 特許	金属配線の形成方法及び金属配線構造体 FI分類-H01L 21/88 D, FI分類-H01L 21/90 A
2020年01月15日 特許庁 / 特許	金属配線の形成方法 FI分類-H01L 21/90 A
2020年01月06日 特許庁 / 特許	基板ホルダ及び成膜装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 21/68 N
2019年12月27日 特許庁 / 特許	真空処理装置用のキャンローラ FI分類-C23C 14/56 D
2019年12月27日 特許庁 / 特許	蒸着ユニット及びこの蒸着ユニットを備える真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 B, FI分類-C23C 14/24 C
2019年12月27日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 G
2019年12月27日 特許庁 / 特許	真空処理装置、真空処理装置のクリーニング方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 H
2019年12月24日 特許庁 / 特許	電子銃装置及び蒸着装置 FI分類-C23C 14/30 B, FI分類-H01J 37/06 Z
2019年12月20日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 14/24 T, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/312 D
2019年12月17日 特許庁 / 特許	測定異常検出装置、および、測定異常検出方法 FI分類-G01B 7/06 Z, FI分類-G01N 5/02 A, FI分類-H03H 3/04 A, FI分類-C23C 14/54 Z
2019年12月11日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 H, FI分類-H01L 21/285 S
2019年12月09日 特許庁 / 特許	防着部材及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B
2019年12月06日 特許庁 / 特許	真空乾燥装置、真空乾燥装置における棚の温度調節方法 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 21/08, FI分類-F26B 25/22 Z
2019年11月22日 特許庁 / 特許	窒化物半導体基板の製造方法 FI分類-C30B 31/22, FI分類-C30B 29/38 D, FI分類-H01L 21/322 C, FI分類-H01L 21/265 601 A
2019年11月18日 特許庁 / 特許	搬送装置、および、真空処理装置 FI分類-B65G 54/02, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2019年11月07日 特許庁 / 特許	基板ステージ及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/50, FI分類-H01L 21/68 N
2019年10月29日 特許庁 / 特許	搬送装置、および、真空処理装置 FI分類-B65G 54/02, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-H01L 21/68 A
2019年10月28日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/56 C
2019年10月25日 特許庁 / 特許	ピラニ真空計 FI分類-G01L 21/12
2019年10月23日 特許庁 / 特許	搬送装置、および、真空処理装置 FI分類-B65G 54/02, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2019年10月21日 特許庁 / 特許	有機膜のエッチング方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H01L 21/302 201 A
2019年10月16日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 C
2019年10月15日 特許庁 / 特許	基板搬送装置、および、基板搬送方法 FI分類-B25J 9/10 A, FI分類-H01L 21/68 A
2019年10月09日 特許庁 / 特許	プラズマ装置、電源装置、プラズマ維持方法 FI分類-H02M 3/28 P, FI分類-H05H 1/46 R, FI分類-C23C 14/54 B
2019年10月09日 特許庁 / 特許	エッチング方法、および、エッチング装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年10月03日 特許庁 / 特許	カソード装置、および、スパッタ装置 FI分類-C23C 14/35 B
2019年10月02日 特許庁 / 特許	基板搬送装置、および、基板搬送方法 FI分類-B25J 13/00 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2019年09月26日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-C23C 16/509, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 B
2019年09月26日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/31 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2019年09月17日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-F04B 37/08, FI分類-B01J 3/00 M, FI分類-B01J 3/00 N, FI分類-B01J 3/02 M, FI分類-B01J 3/02 P
2019年09月12日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B
2019年09月12日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 S
2019年09月10日 特許庁 / 特許	蒸着装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-H05B 33/14 A
2019年09月10日 特許庁 / 特許	成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-H01L 21/31 B
2019年09月02日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/24 D
2019年09月02日 特許庁 / 特許	評価方法及び真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 B, FI分類-H05B 33/14 A
2019年09月02日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-B65G 17/16 C, FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年08月29日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-C23C 14/58 C
2019年08月27日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/24 U
2019年08月26日 特許庁 / 特許	配管構造体及び熱交換器 FI分類-F28F 9/013 C
2019年08月26日 特許庁 / 特許	真空加熱装置、リフレクタ装置 FI分類-F27D 7/06 A, FI分類-F27B 17/00 B, FI分類-F27D 11/02 C
2019年08月23日 特許庁 / 特許	真空排気装置及びその運転方法 FI分類-H02P 5/46 C, FI分類-H02P 3/18 101 D
2019年08月15日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-B65G 49/06, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年08月08日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法並びに太陽電池の製造方法 FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-C23C 14/56 H, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 31/04 424, FI分類-H01L 31/06 455
2019年08月08日 特許庁 / 特許	静電チャック、真空処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/302 101 G
2019年08月06日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年07月29日 特許庁 / 特許	イオン注入方法及びイオン注入装置 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 B, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 21/265 603 D
2019年07月26日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 27/1156, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年07月23日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 3/18 B, FI分類-F16K 51/02 B
2019年07月23日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 R
2019年07月23日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/35 B
2019年07月23日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット FI分類-C23C 14/35 C
2019年07月23日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B
2019年07月23日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/34 L
2019年07月12日 特許庁 / 特許	真空チャンバ及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A
2019年07月11日 特許庁 / 特許	圧力測定システム FI分類-G01L 9/00 E
2019年07月04日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 Z, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/285 S
2019年06月28日 特許庁 / 特許	凍結乾燥用ノズル、凍結乾燥装置、および、造粒方法 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 17/10 B, FI分類-B05C 5/00 101
2019年06月28日 特許庁 / 特許	連続鋳造装置 FI分類-B22D 11/06 360 B, FI分類-B22D 11/10 310 Q, FI分類-B22D 11/16 104 D
2019年06月28日 特許庁 / 特許	スパッタ成膜装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 B
2019年06月27日 特許庁 / 特許	防着機構、および、成膜装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J
2019年06月27日 特許庁 / 特許	真空装置、吸着装置、吸着方法 FI分類-H01L 21/68 R
2019年06月26日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/35 C
2019年06月26日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C
2019年06月25日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法及びデバイスの製造方法 FI分類-C23F 4/00 A, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 101 H
2019年06月25日 特許庁 / 特許	表面処理方法 FI分類-B24C 1/06, FI分類-C23F 1/00 Z
2019年06月25日 特許庁 / 特許	表面処理方法 FI分類-C23G 1/12, FI分類-C23G 1/22, FI分類-C23F 1/00 Z, FI分類-C25D 11/16 301, FI分類-C25D 11/24 302
2019年06月21日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 51/02 B
2019年06月21日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/285 S
2019年06月20日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ FI分類-F16K 3/16, FI分類-F16K 3/06 Z, FI分類-F16K 3/18 Z, FI分類-F16K 51/02 B
2019年06月19日 特許庁 / 特許	酸化物半導体薄膜、薄膜トランジスタおよびその製造方法、ならびにスパッタリングターゲット FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-H01L 29/78 616 K, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 627 C
2019年06月17日 特許庁 / 特許	巻取り式成膜装置、および、巻取り式成膜装置の調整方法 FI分類-B65H 23/188, FI分類-B65H 27/00 Z, FI分類-C23C 14/56 B
2019年06月17日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 B, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-C23C 14/54 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年06月17日 特許庁 / 特許	電離真空計及び制御装置 FI分類-G01L 21/32, FI分類-H01J 41/04
2019年06月14日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法、スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/203 S
2019年06月14日 特許庁 / 特許	真空処理装置、支持シャフト FI分類-C23C 16/455, FI分類-C23C 16/505, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 C
2019年06月13日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/35 B
2019年06月12日 特許庁 / 特許	防着部材及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J
2019年06月07日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2019年06月07日 特許庁 / 特許	成膜システム、および、成膜方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年06月07日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 16/44 J
2019年06月07日 特許庁 / 特許	真空処理装置、ダミー基板装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J
2019年06月05日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、イオン源 FI分類-H01J 27/18, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H05H 1/46 C, FI分類-H01J 37/317 Z
2019年06月05日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 D
2019年05月31日 特許庁 / 特許	レジストパターンの製造方法及びレジスト膜 FI分類-H01L 21/88 G, FI分類-G03F 7/20 521
2019年05月31日 特許庁 / 特許	カーボン膜の成膜方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/34 U
2019年05月31日 特許庁 / 特許	イオン注入装置 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/04 B, FI分類-H01J 37/317 C
2019年05月31日 特許庁 / 特許	成膜方法および成膜装置 FI分類-C23C 14/35 B
2019年05月30日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/02 Z, FI分類-C23C 14/56 A
2019年05月29日 特許庁 / 特許	全固体リチウム二次電池及び全固体リチウム二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/04 Z, FI分類-H01M 10/0562, FI分類-H01M 10/0585
2019年05月28日 特許庁 / 特許	搬送室 FI分類-C23C 14/56 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-B65H 23/038 Z
2019年05月28日 特許庁 / 特許	接触式給電装置及び接触ユニット FI分類-H01R 39/26, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C
2019年05月27日 特許庁 / 特許	スパッタ成膜装置及びスパッタ成膜方法 FI分類-G11B 5/851, FI分類-C23C 14/35 B
2019年05月24日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、半導体装置の製造方法 FI分類-C23C 14/48 Z, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 Z, FI分類-H01L 21/265 603 A
2019年05月24日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/00 B
2019年05月22日 特許庁 / 特許	真空ポンプ FI分類-F04D 19/04 H
2019年05月21日 特許庁 / 特許	検出装置及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 14/54, FI分類-G01N 5/02 A, FI分類-C23C 14/00 B
2019年05月21日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年05月17日 特許庁 / 特許	リチウム電極の製造装置及びその方法 FI分類-H01M 4/40, FI分類-H01M 4/1395, FI分類-C23C 14/06 G, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/56 B, FI分類-C23C 14/58 Z
2019年05月17日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置、薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/34 T
2019年05月17日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 T
2019年05月16日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 51/02 B
2019年05月16日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びその製造方法 FI分類-C23C 14/34 A
2019年05月16日 特許庁 / 特許	巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 FI分類-C23C 14/04 C
2019年05月13日 特許庁 / 特許	スパッタ成膜装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 Z
2019年05月09日 特許庁 / 特許	真空排気装置及びその運転方法 FI分類-F04C 28/02, FI分類-F04B 37/16 A, FI分類-F04B 37/16 D, FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 28/08 A
2019年05月08日 特許庁 / 特許	真空搬送装置及び成膜装置 FI分類-B65G 49/06, FI分類-C23C 14/50, FI分類-B65G 41/00 Z, FI分類-B65G 49/00 A, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年05月08日 特許庁 / 特許	巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 FI分類-C23C 16/54, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-C23C 14/56 A
2019年05月08日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年05月07日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-B22F 3/04 A, FI分類-B22F 3/15 G, FI分類-C23C 14/34 A
2019年04月26日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年04月26日 特許庁 / 特許	油圧駆動システム、仕切りバルブ FI分類-F16K 3/18 B, FI分類-F16K 31/122, FI分類-F16K 51/02 B
2019年04月26日 特許庁 / 特許	油圧駆動システム、仕切りバルブ FI分類-F04B 9/02 C, FI分類-F16K 3/18 Z, FI分類-F15B 20/00 Z
2019年04月25日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 16/54, FI分類-H05K 3/14 A, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/28 A, FI分類-H01L 21/90 P, FI分類-H01L 21/285 C
2019年04月24日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-H01M 4/04 Z, FI分類-C23C 14/54 E, FI分類-C23C 14/54 F
2019年04月24日 特許庁 / 特許	表示装置、配線膜、配線膜製造方法 FI分類-C23C 14/06 L, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-H01L 21/88 N, FI分類-H01L 29/50 M, FI分類-H01L 29/58 G, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/28 301 B, FI分類-H01L 29/78 612 C, FI分類-H01L 29/78 617 J, FI分類-H01L 29/78 617 L, FI分類-H01L 29/78 617 M, FI分類-H01L 29/78 626 C
2019年04月23日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 B
2019年04月23日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 B
2019年04月17日 特許庁 / 特許	成膜装置及び真空部品処理方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-H01M 4/1395, FI分類-C23C 14/00 B
2019年04月17日 特許庁 / 特許	材料供給装置 FI分類-C23C 14/24 D
2019年04月17日 特許庁 / 特許	多層構造体の製造方法及びその製造装置 FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-C23C 14/08 K
2019年04月17日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B25J 9/06 D, FI分類-H01L 21/68 A
2019年04月16日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 14/54 B, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/312 D
2019年04月15日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 S
2019年04月11日 特許庁 / 特許	巻取式成膜装置及び真空処理方法 FI分類-C23C 14/56 B
2019年04月05日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/302 101 H
2019年04月02日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 J
2019年03月29日 特許庁 / 特許	真空装置、運搬装置、アラインメント方法 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 N
2019年03月28日 特許庁 / 特許	仕切弁 FI分類-F16K 3/18 B
2019年03月28日 特許庁 / 特許	基板保持装置、基板保持方法及び成膜装置 FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 21/68 N
2019年03月28日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 FI分類-C22F 1/10 J, FI分類-C22F 1/10 K, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C22F 1/00 606, FI分類-C22F 1/00 613, FI分類-C22F 1/00 682, FI分類-C22F 1/00 683, FI分類-C22F 1/00 685, FI分類-C22F 1/00 660 D, FI分類-C22F 1/00 684 C, FI分類-C22F 1/00 691 B, FI分類-C22F 1/00 691 Z, FI分類-C22F 1/00 692 B, FI分類-C22F 1/00 694 A, FI分類-C22F 1/00 694 B, FI分類-C22F 1/00 694 Z
2019年03月28日 特許庁 / 特許	凍結真空乾燥装置及び凍結真空乾燥方法 FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 17/10 B
2019年03月28日 特許庁 / 特許	アルミニウム合金ターゲット及びその製造方法 FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301
2019年03月28日 特許庁 / 特許	アルミニウム合金膜、その製造方法、及び薄膜トランジスタ FI分類-C22C 21/00 A, FI分類-H01L 29/58 G, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 29/78 617 M
2019年03月27日 特許庁 / 特許	基板収納容器 FI分類-B65D 25/42 C, FI分類-H01L 21/68 T, FI分類-H01L 21/68 V
2019年03月26日 特許庁 / 特許	真空装置、運搬装置、アラインメント方法 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/68 U
2019年03月26日 特許庁 / 特許	凍結乾燥方法及び凍結乾燥装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 21/00 H
2019年03月25日 特許庁 / 特許	仕切弁装置 FI分類-F16K 3/02 F, FI分類-F16K 31/122, FI分類-F16K 51/02 B
2019年03月22日 特許庁 / 特許	プラズマエッチング方法 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年03月22日 特許庁 / 特許	成膜装置及びその製造方法。 FI分類-C23C 14/00 B
2019年03月22日 特許庁 / 特許	イオンガン FI分類-H01J 27/14, FI分類-H01J 27/16, FI分類-H01J 37/08
2019年03月20日 特許庁 / 特許	仕切弁 FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 3/18 B, FI分類-F16K 51/02 B
2019年03月19日 特許庁 / 特許	真空凍結乾燥装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 25/00 Z
2019年03月18日 特許庁 / 特許	真空アクチュエータ、仕切りバルブ FI分類-F04B 9/02 C, FI分類-F16K 3/18 B
2019年03月14日 特許庁 / 特許	スライド弁 FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 51/02 B
2019年03月13日 特許庁 / 特許	バックコンタクト型太陽電池セルの製造方法 FI分類-H01L 31/04 260, FI分類-H01L 31/04 440, FI分類-H01L 31/06 300
2019年03月13日 特許庁 / 特許	バックコンタクト型太陽電池セルの製造方法 FI分類-H01L 31/04 260, FI分類-H01L 31/04 440, FI分類-H01L 31/06 300
2019年03月13日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-H01L 21/31 B
2019年03月12日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-C23C 14/24 J, FI分類-H05B 33/14 A
2019年03月07日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、イオン源 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z
2019年03月07日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 N
2019年02月27日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 S
2019年02月25日 特許庁 / 特許	イオン注入装置、イオン源 FI分類-H01J 27/20, FI分類-H01J 37/317 Z
2019年02月25日 特許庁 / 特許	コアシェル型量子ドット分散液の製造方法及び量子ドット分散液の製造方法 FI分類-C09K 11/62, FI分類-C01B 21/06 A, FI分類-C01B 21/06 Z, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 G
2019年02月21日 特許庁 / 特許	スパッタリングカソード FI分類-C23C 14/35 C
2019年02月19日 特許庁 / 特許	成膜方法および成膜装置 FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 S
2019年02月19日 特許庁 / 特許	窒化ガリウム薄膜の製造方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 33/32, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/22 F, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01L 21/203 S
2019年02月14日 特許庁 / 特許	磁性膜の形成方法、および、磁気記憶素子の製造方法 FI分類-H01F 41/18, FI分類-H01F 41/22, FI分類-H01L 43/04, FI分類-H01L 43/06 Z, FI分類-H01L 27/105 447
2019年02月13日 特許庁 / 特許	アルミニウム製部品の酸化皮膜の再生方法 FI分類-C25D 11/16, FI分類-C25D 11/04 101 E
2019年02月13日 特許庁 / 特許	蒸着装置及び蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 U
2019年02月13日 特許庁 / 特許	蒸着装置及び蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-C23C 14/54 B
2019年02月12日 特許庁 / 特許	蒸着源、真空処理装置、及び蒸着方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-H05B 33/14 A
2019年02月12日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 T
2019年02月05日 特許庁 / 特許	仕切弁 FI分類-F16K 27/12, FI分類-F16K 51/02 A
2019年02月05日 特許庁 / 特許	仕切弁 FI分類-F16K 3/10
2019年02月01日 特許庁 / 特許	真空アクチュエータ、仕切りバルブ FI分類-F16K 3/06 Z, FI分類-F15B 15/14 Z, FI分類-F16K 51/02 B
2019年02月01日 特許庁 / 特許	薄膜形成方法、薄膜形成装置及びリチウム電池 FI分類-H01M 4/40, FI分類-H01M 4/134, FI分類-H01M 4/06 V, FI分類-H01M 4/06 X, FI分類-H01M 4/08 A, FI分類-H01M 4/12 F, FI分類-H01M 4/1395, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/58 B
2019年01月31日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/285 S
2019年01月29日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ、スプール弁 FI分類-F16K 3/10, FI分類-F16K 3/18 Z
2019年01月29日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/34 M
2019年01月25日 特許庁 / 特許	深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32
2019年01月24日 特許庁 / 特許	熱陰極電離真空計、熱陰極電離真空計を備える圧力測定システム並びに熱陰極電離真空計を用いた圧力測定方法 FI分類-G01L 21/32
2019年01月24日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 S
2019年01月22日 特許庁 / 特許	層厚及び粘弾性係数の測定方法、及び層厚及び粘弾性係数の測定装置 FI分類-G01N 11/00 A, FI分類-G01N 19/00 C, FI分類-G01R 27/02 A
2019年01月16日 特許庁 / 特許	CoZnMn膜の形成方法、および、CoZnMnターゲット FI分類-H01L 43/10, FI分類-H01L 43/12, FI分類-C23C 14/14 F, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 29/82 Z, FI分類-H01L 27/105 447
2019年01月16日 特許庁 / 特許	真空ポンプ FI分類-F04C 25/02 L, FI分類-F04C 18/344 351 Q
2019年01月16日 特許庁 / 特許	ヒータベース及び処理装置 FI分類-H05B 3/74, FI分類-C23C 16/46, FI分類-C23C 16/458, FI分類-H05B 3/06 B, FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/68 N
2019年01月15日 特許庁 / 特許	金属窒化物ナノ粒子分散液の製造方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/59, FI分類-C09K 11/62, FI分類-C09K 11/64, FI分類-C09K 11/66, FI分類-C01B 21/06 A, FI分類-C09K 11/08 B, FI分類-C09K 11/08 D
2019年01月11日 特許庁 / 特許	蒸着源、成膜装置、及び蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 C
2019年01月10日 特許庁 / 特許	蒸着装置及びノズル用アダプタ FI分類-C23C 14/24 A
2018年12月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置、基板処理装置のカセット取り外し方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N
2018年12月21日 特許庁 / 特許	バイアル瓶の搬送移載装置及び搬送移載方法 FI分類-A61J 3/02 A, FI分類-B65G 47/28 E, FI分類-B65G 47/28 F
2018年12月21日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法、ドライエッチング装置 FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年12月20日 特許庁 / 特許	膜厚モニタリングシステム及び成膜装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 14/54 E, FI分類-G01B 11/06 101 G
2018年12月19日 特許庁 / 特許	ポンプ装置 FI分類-F04C 18/16 L, FI分類-F04C 18/16 M, FI分類-F04C 23/00 F, FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/00 B, FI分類-F04C 29/00 G
2018年12月14日 特許庁 / 特許	ロードロックチャンバ及び真空処理装置 FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2018年12月13日 特許庁 / 特許	ベント装置 FI分類-G05D 16/20 Z
2018年12月06日 特許庁 / 特許	反応性イオンエッチング装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C
2018年12月03日 特許庁 / 特許	全固体型薄膜リチウム電池用負極および全固体型薄膜リチウム電池 FI分類-H01M 4/134, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-H01M 4/62 Z, FI分類-H01M 10/0562
2018年11月30日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法及びスパッタリング装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/34 S
2018年11月30日 特許庁 / 特許	薄膜製造方法、対向ターゲット式スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 D
2018年11月26日 特許庁 / 特許	真空装置 FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-H01L 21/68 N
2018年11月20日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-F28D 15/02 H
2018年11月19日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法及びスパッタリング装置 FI分類-C23C 14/40, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/31 D
2018年11月19日 特許庁 / 特許	酸化物半導体薄膜、薄膜トランジスタ、薄膜トランジスタの製造方法及びスパッタリングターゲット FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-H01L 29/78 618 B
2018年11月15日 特許庁 / 特許	磁気浮上搬送装置 FI分類-B65G 49/07 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 T
2018年11月08日 特許庁 / 特許	成膜装置、成膜方法、及び高周波加速空洞管の製造方法 FI分類-H05H 7/20, FI分類-C23C 14/34 U
2018年11月07日 特許庁 / 特許	真空装置、吸着装置、導電性薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 R
2018年11月02日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法およびドライエッチング装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年10月30日 特許庁 / 特許	半導体デバイス製作用の高アスペクト比誘電孔における選択的相変化材料成長 FI分類-C23C 16/04, FI分類-C23C 16/30, FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 45/00 A, FI分類-H01L 27/105 449
2018年10月26日 特許庁 / 特許	酸化インジウム粉末の製造方法 FI分類-C01G 15/00 B
2018年10月26日 特許庁 / 特許	酸化インジウム粉末の製造方法 FI分類-C01G 15/00 B
2018年10月26日 特許庁 / 特許	酸化ガリウム粉末の製造方法 FI分類-C01G 15/00 D
2018年10月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H05B 33/14 A
2018年10月18日 特許庁 / 特許	搬送装置、および、処理装置 FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 A
2018年10月17日 特許庁 / 特許	薄膜トランジスタ及びその製造方法 FI分類-H01L 21/316 M, FI分類-H01L 29/78 617 T, FI分類-H01L 29/78 617 U, FI分類-H01L 29/78 617 V, FI分類-H01L 29/78 627 E, FI分類-H01L 29/78 627 F
2018年10月15日 特許庁 / 特許	被処理体の処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C
2018年10月12日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H01L 21/302 101 C
2018年10月12日 特許庁 / 特許	半導体装置の有効仕事関数調整のためのゲート構造、ゲート構造を備えた半導体装置、およびゲート構造を形成する方法 FI分類-H01L 29/46, FI分類-H01L 29/44 S, FI分類-H01L 29/58 G, FI分類-H01L 21/285 C, FI分類-H01L 29/78 301 G
2018年10月11日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/35 B
2018年10月05日 特許庁 / 特許	金属水酸化物の製造装置及び製造方法 FI分類-C25B 11/03, FI分類-C25B 1/00 Z, FI分類-C25B 9/00 Z, FI分類-C25B 11/06 A, FI分類-C25B 13/02 301
2018年10月04日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/34 T, FI分類-H05B 33/14 A
2018年10月02日 特許庁 / 特許	イオン銃の制御装置、および、イオン銃の制御方法 FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/30 A
2018年09月28日 特許庁 / 特許	イオン源及びイオン注入装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01J 27/20, FI分類-H01J 37/317 Z
2018年09月26日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法 FI分類-C23F 4/00 A, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H05K 3/08 A
2018年09月21日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置、薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/34 K
2018年09月14日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/08 N, FI分類-C23C 14/34 V
2018年09月13日 特許庁 / 特許	金属水酸化物の製造装置及び製造方法 FI分類-C25B 11/03, FI分類-C25B 1/00 Z, FI分類-C25B 9/00 Z, FI分類-C25B 11/04 Z, FI分類-C25B 13/02 301
2018年09月11日 特許庁 / 特許	アクリル気化器 FI分類-B01J 7/02 Z
2018年09月11日 特許庁 / 特許	抵抗体膜の製造方法及び抵抗体膜 FI分類-H01L 37/00, FI分類-H01L 21/316 Y
2018年09月04日 特許庁 / 特許	静電チャック装置およびその制御方法 FI分類-G01D 5/241 B, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D, FI分類-G01B 7/00 101 C, FI分類-G01D 5/245 110 J
2018年08月21日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 E, FI分類-C23C 14/35 B
2018年08月17日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 29/78 618 B
2018年08月13日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-C23C 14/35 E
2018年08月10日 特許庁 / 特許	イオン源及びイオン注入装置並びにイオン源の運転方法 FI分類-H01J 27/04, FI分類-H01J 37/08
2018年08月06日 特許庁 / 特許	リフトピン及び真空処理装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年07月31日 特許庁 / 特許	Co膜製造方法 FI分類-C23C 16/16, FI分類-C23C 16/18, FI分類-H01L 21/285 C, FI分類-H01L 21/285 301
2018年07月26日 特許庁 / 特許	酸化膜除去方法、および、酸化膜除去装置 FI分類-H01L 21/302 106, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 648 G
2018年07月25日 特許庁 / 特許	無菌液化ガス装置 FI分類-A61L 2/20, FI分類-F17C 5/02 Z, FI分類-F17C 13/02 302, FI分類-F17C 13/08 302 Z
2018年07月23日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 103
2018年07月18日 特許庁 / 特許	PZT素子、PZT素子製造方法 FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-H01L 41/319, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 K
2018年07月04日 特許庁 / 特許	生体適合膜の形成方法、および、生体適合膜の形成装置 FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 14/58 Z
2018年06月29日 特許庁 / 特許	成膜装置および成膜方法、クリーニング方法 FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/302 101 H
2018年06月29日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/34 D, FI分類-C23C 14/34 U
2018年06月29日 特許庁 / 特許	対向ターゲット式スパッタ成膜装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 D
2018年06月29日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 29/78 616 L, FI分類-H01L 29/78 616 M, FI分類-H01L 29/78 616 V, FI分類-H01L 29/78 617 T, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 619 A
2018年06月28日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 21/68 N
2018年06月28日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-C23C 14/50 K
2018年06月27日 特許庁 / 特許	スパッタ成膜方法 FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 21/318 B, FI分類-H01L 21/318 C
2018年06月27日 特許庁 / 特許	基板支持機構 FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 21/68 N
2018年06月27日 特許庁 / 特許	固体電解質膜の形成装置、および、固体電解質膜の形成方法 FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 10/0562, FI分類-H01B 13/00 501 Z
2018年06月26日 特許庁 / 特許	パルス管冷凍機 FI分類-F25B 9/00 311
2018年06月25日 特許庁 / 特許	多層構造体並びにその製造方法及びその製造装置 FI分類-B32B 9/04, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-C23C 14/08 K
2018年06月25日 特許庁 / 特許	薄膜製造方法、スパッタリング装置 FI分類-H02M 7/48 E, FI分類-H02M 7/48 M, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/34 U
2018年06月25日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 G
2018年06月22日 特許庁 / 特許	トランスデューサ型真空計 FI分類-G01L 21/32
2018年06月21日 特許庁 / 特許	アルミニウム表面処理方法 FI分類-C23C 8/02, FI分類-C23C 8/08, FI分類-C25D 11/24 302
2018年06月21日 特許庁 / 特許	プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-C23C 16/505, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年06月20日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/56 D
2018年06月20日 特許庁 / 特許	成膜装置、クリーニングガスノズル、クリーニング方法 FI分類-C23C 16/44 J
2018年06月20日 特許庁 / 特許	真空ポンプおよびその制御方法 FI分類-H02P 23/14, FI分類-H02P 29/62
2018年06月13日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2018年06月13日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2018年06月13日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法並びに太陽電池の製造方法 FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 31/04 266, FI分類-H01L 31/04 424, FI分類-H01L 31/06 455
2018年06月13日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/56 F
2018年06月11日 特許庁 / 特許	BA型電離真空計及びその感度異常検知方法、並びにBA型電離真空計を用いた圧力測定方法 FI分類-G01L 21/32, FI分類-G01L 27/02
2018年06月07日 特許庁 / 特許	ニオブ素管及び高周波加速空洞管 FI分類-H05H 7/20
2018年06月07日 特許庁 / 特許	基板ガイド、キャリア FI分類-C23C 16/458, FI分類-C23C 14/50 B, FI分類-H01L 21/68 U
2018年06月06日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法、スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-C23C 14/35 B
2018年06月05日 特許庁 / 特許	成膜装置、マスクフレーム、アライメント方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/54 G, FI分類-H05B 33/14 A
2018年05月30日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 J
2018年05月30日 特許庁 / 特許	真空ポンプ FI分類-F16N 7/18, FI分類-F04C 25/02 K, FI分類-F04C 25/02 L, FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F16C 33/66 Z, FI分類-F04C 29/02 311 K
2018年05月11日 特許庁 / 特許	薄膜の形成方法 FI分類-C23C 16/32, FI分類-H01L 21/28 301 R
2018年05月11日 特許庁 / 特許	薄膜の形成方法 FI分類-C23C 16/32, FI分類-H01L 21/285 C, FI分類-H01L 21/285 301, FI分類-H01L 21/28 301 R
2018年05月10日 特許庁 / 特許	成膜装置、成膜方法、及びスパッタリングターゲット機構 FI分類-C23C 14/35 A
2018年05月10日 特許庁 / 特許	電磁波吸収体及び電磁波吸収体の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 3/08, FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C08L 29/14, FI分類-C08L 33/12, FI分類-H05K 9/00 M
2018年05月08日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-G21K 4/00 A, FI分類-C23C 14/24 J, FI分類-C23C 14/50 J, FI分類-H01L 21/68 N
2018年05月07日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びコリメータ FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 T
2018年04月27日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板の製造装置、透明導電膜付き基板の製造方法 FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/56 B, FI分類-H01L 31/04 130, FI分類-H01L 31/06 455, FI分類-H01B 13/00 503 B
2018年04月25日 特許庁 / 特許	蒸発源及び成膜装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-H05B 33/14 A
2018年04月23日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/24 G
2018年04月17日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2018年04月16日 特許庁 / 特許	回転クランプ装置 FI分類-H01L 21/68 N
2018年04月13日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-H01M 4/1395, FI分類-C23C 14/58 B
2018年04月11日 特許庁 / 特許	熱処理装置 FI分類-H01L 21/324 Q, FI分類-H01L 21/265 601 A
2018年03月30日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源 FI分類-C23C 14/24 A
2018年03月29日 特許庁 / 特許	透明電極シート FI分類-C08K 5/34, FI分類-C08L 33/00, FI分類-C08L 101/12, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-H01B 5/14 B, FI分類-B32B 15/08 H, FI分類-B32B 15/082 Z
2018年03月29日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C
2018年03月29日 特許庁 / 特許	真空ポンプ FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/00 B, FI分類-F04C 29/00 S
2018年03月27日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 U
2018年03月27日 特許庁 / 特許	真空ポンプ及び真空ポンプの製造方法 FI分類-B22D 19/00 A, FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/00 S, FI分類-F04C 29/00 U, FI分類-F04C 29/04 D
2018年03月27日 特許庁 / 特許	真空排気装置及び真空排気装置の冷却方法 FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/04 H
2018年03月26日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/08 G, FI分類-C23C 14/34 M
2018年03月23日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置用の蒸着源及び真空蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 B
2018年03月22日 特許庁 / 特許	電子部品の製造方法 FI分類-C23F 1/02, FI分類-C23F 1/12, FI分類-C25D 5/34, FI分類-C25D 5/02 E, FI分類-H01L 21/88 R, FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 105 A
2018年03月20日 特許庁 / 特許	リチウム薄膜の製造方法及びリチウム薄膜の製造装置 FI分類-B65H 18/08, FI分類-C23C 16/06, FI分類-C23C 16/54, FI分類-B65H 23/188, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/56 B, FI分類-C23C 16/44 F
2018年03月19日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 R
2018年03月16日 特許庁 / 特許	磁気記憶素子、垂直磁化膜の形成方法、および、磁気記憶素子の製造方法 FI分類-H01L 43/12, FI分類-H01L 43/08 Z, FI分類-H01L 27/105 447
2018年03月14日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板の製造方法及び透明導電膜付き基板 FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/46 C, FI分類-H05B 33/14 A
2018年03月14日 特許庁 / 特許	真空ポンプ FI分類-F04C 25/02 M, FI分類-F04C 29/00 B, FI分類-F04C 29/06 C, FI分類-F04B 39/00 101 M, FI分類-F04B 39/12 101 B
2018年03月14日 特許庁 / 特許	抵抗変化素子の製造方法及び抵抗変化素子 FI分類-H01L 45/00 Z, FI分類-H01L 49/00 Z, FI分類-H01L 27/105 448
2018年03月09日 特許庁 / 特許	真空処理装置、真空処理装置の製造方法、および、真空処理装置用の内部冶具 FI分類-C25D 11/04 H, FI分類-C25D 11/18 312, FI分類-C25D 11/24 301, FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年03月09日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-H05H 1/46 B, FI分類-H01L 21/302 101 D
2018年03月08日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/46 B
2018年03月07日 特許庁 / 特許	リチウムターゲットの製造方法及び製造装置 FI分類-H05H 6/00, FI分類-A61N 5/10 H, FI分類-G21K 5/08 C, FI分類-G21K 5/08 N
2018年03月06日 特許庁 / 特許	水晶発振式膜厚モニタ用のセンサヘッド FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01B 17/02 A, FI分類-H01L 21/203 S
2018年03月06日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置用のカソードユニット FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 V
2018年03月05日 特許庁 / 特許	エッチングストップ層及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/302 301
2018年03月02日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 29/46, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301, FI分類-H01L 21/28 301 B, FI分類-H01L 21/28 301 R
2018年03月01日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-H01L 41/22, FI分類-H01L 41/187, FI分類-C23C 14/00 B
2018年02月26日 特許庁 / 特許	窒化ガリウム薄膜の製造方法 FI分類-C30B 23/02, FI分類-H01L 33/32, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C30B 29/38 D, FI分類-H01L 21/203 S
2018年02月21日 特許庁 / 特許	金属窒化物ナノ粒子分散液の製造方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C01B 21/06 M, FI分類-C01B 21/064 B, FI分類-C01B 21/068 C, FI分類-C01B 21/072 A, FI分類-C01B 21/076 Z
2018年02月20日 特許庁 / 特許	耐食性膜及び真空部品 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/06 Q, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年02月20日 特許庁 / 特許	成膜方法、成膜装置、素子構造体の製造方法、及び素子構造体の製造装置 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A
2018年02月20日 特許庁 / 特許	気化器および素子構造体の製造装置 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 D, FI分類-H05B 33/14 A
2018年02月20日 特許庁 / 特許	樹脂膜の形成方法および樹脂膜の成膜装置 FI分類-C23C 14/12, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-H05B 33/14 A
2018年02月20日 特許庁 / 特許	素子構造体の製造方法 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H01L 21/302 103, FI分類-H01L 21/302 104 H
2018年02月20日 特許庁 / 特許	樹脂膜の形成方法およびマスク FI分類-C23C 14/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/58 C, FI分類-H05B 33/14 A
2018年02月19日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01B 13/00 503 B
2018年02月13日 特許庁 / 特許	イオン源及びイオン注入装置 FI分類-H01J 27/08, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z
2018年02月09日 特許庁 / 特許	質量分析計用のイオン源 FI分類-H01J 49/14, FI分類-G01N 27/62 G
2018年02月08日 特許庁 / 特許	真空乾燥装置及び方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-A23L 3/40 D, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-F26B 21/00 P, FI分類-F26B 21/04 A
2018年02月07日 特許庁 / 特許	蒸着装置及び蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 U
2018年02月06日 特許庁 / 特許	透明電極シート及び透明電極シートの製造方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/28, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-H05K 1/02 J, FI分類-H05K 1/09 A, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/26 Z, FI分類-H01L 31/04 130
2018年01月31日 特許庁 / 特許	蒸着装置及び蒸着方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A
2018年01月25日 特許庁 / 特許	酸化アルミニウム膜の形成方法 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/34 V, FI分類-H01L 21/316 Y
2018年01月24日 特許庁 / 特許	粘着式基板保持装置 FI分類-H01L 21/68 N
2018年01月16日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/92 602 D, FI分類-H01L 21/92 604 C
2017年12月27日 特許庁 / 特許	イオン源及びイオン注入装置 FI分類-H01J 27/02, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 603 A
2017年12月27日 特許庁 / 特許	液晶表示装置、有機EL表示装置、半導体素子、配線膜、配線基板 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-H01L 21/88 R, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G09F 9/30 330, FI分類-G09F 9/30 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-H01L 29/78 612 C
2017年12月26日 特許庁 / 特許	有機薄膜製造装置、蒸発源 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 D
2017年12月22日 特許庁 / 特許	測定セル及び測定装置 FI分類-G01N 5/02 A
2017年12月21日 特許庁 / 特許	蒸着装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/24 G, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H05B 33/14 A
2017年12月14日 特許庁 / 特許	透明電極シートの製造方法 FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/28, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/26 Z, FI分類-H01B 13/00 503 B, FI分類-H01B 13/00 503 D
2017年12月12日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/35 Z
2017年12月11日 特許庁 / 特許	蒸着装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/24 K, FI分類-H01L 21/68 N
2017年12月08日 特許庁 / 特許	ギャップ計測方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-G01B 11/14 Z, FI分類-H05B 33/14 A
2017年12月07日 特許庁 / 特許	PZT素子製造方法 FI分類-H01L 41/29, FI分類-H01L 41/047, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/14 D
2017年12月01日 特許庁 / 特許	蒸着装置及び蒸着方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A
2017年11月30日 特許庁 / 特許	配線基板の加工方法 FI分類-H05K 3/00 J, FI分類-H05K 3/26 A, FI分類-H05K 3/26 F
2017年11月27日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/35 B
2017年11月24日 特許庁 / 特許	イオン注入方法、イオン注入装置 FI分類-H01J 37/317 Z, FI分類-H01L 21/265 Z, FI分類-H01L 21/265 603 Z
2017年11月22日 特許庁 / 特許	巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 FI分類-B05C 1/08, FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05C 9/12, FI分類-B05D 1/28, FI分類-B05C 15/00, FI分類-B05D 3/12 A, FI分類-B05D 7/24 302 A
2017年11月16日 特許庁 / 特許	吸着力測定装置及び吸着力測定方法 FI分類-G01R 33/12 M, FI分類-H01F 41/00 D, FI分類-G01L 5/00 101 Z
2017年11月14日 特許庁 / 特許	成膜方法及び巻取式成膜装置 FI分類-C23C 14/40, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301
2017年11月09日 特許庁 / 特許	撹拌装置 FI分類-B01F 13/08 Z, FI分類-B01F 15/00 A, FI分類-G01N 35/02 D
2017年11月07日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/24, FI分類-C23C 16/50, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 C
2017年11月06日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/00 B
2017年11月06日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 16/54, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 A
2017年11月01日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N
2017年10月24日 特許庁 / 特許	Al合金導電膜、薄膜トランジスタ及びAl合金導電膜の製造方法 FI分類-C22F 1/04 D, FI分類-C22C 21/00 A, FI分類-C23C 14/14 B, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-C22F 1/00 613, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-C22F 1/00 630 Z, FI分類-C22F 1/00 661 A, FI分類-C22F 1/00 661 Z, FI分類-C22F 1/00 691 B, FI分類-C22F 1/00 691 C, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 29/78 616 V, FI分類-H01L 29/78 617 M
2017年10月23日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01L 21/203 S
2017年10月20日 特許庁 / 特許	方向性結合器 FI分類-H01P 5/18 D, FI分類-H01P 5/18 L, FI分類-H05H 1/46 R, FI分類-G01R 15/18 A
2017年10月13日 特許庁 / 特許	成膜装置、および、成膜方法 FI分類-H01F 41/18, FI分類-H01L 43/12, FI分類-C23C 14/35 E
2017年10月04日 特許庁 / 特許	位置検出装置、および、蒸着装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-G01B 11/00 H
2017年10月03日 特許庁 / 特許	仕切弁 FI分類-F16K 3/18 Z, FI分類-F16K 51/02 B
2017年10月02日 特許庁 / 特許	OTSデバイスの製造方法 FI分類-H01L 45/00 A, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 105 A
2017年09月27日 特許庁 / 特許	位置検出装置、位置検出方法、および、蒸着装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/68 F
2017年09月27日 特許庁 / 特許	処理装置 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/203 S
2017年09月25日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H05B 33/14 A
2017年09月20日 特許庁 / 特許	電源装置 FI分類-H02H 9/02 G
2017年09月15日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及び薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/34 N, FI分類-H01M 10/0562
2017年09月15日 特許庁 / 特許	シャワーヘッド及び真空処理装置 FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 B
2017年09月14日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-H03H 7/38 C, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/34 T
2017年09月14日 特許庁 / 特許	車載用PZT薄膜積層体の製造方法 FI分類-H01L 41/39, FI分類-H01L 41/316, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 A
2017年09月12日 特許庁 / 特許	PZT薄膜積層体の製造方法 FI分類-B81C 1/00, FI分類-H01L 41/04, FI分類-H01L 41/09, FI分類-H01L 41/113, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-H01L 41/319, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 27/11507
2017年09月12日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板の製造方法、透明導電膜付き基板の製造装置、及び透明導電膜付き基板 FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/34 R
2017年09月01日 特許庁 / 特許	マスクプレート及び成膜方法 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 D
2017年08月31日 特許庁 / 特許	電源装置 FI分類-H02H 9/04 B, FI分類-H02M 1/00 F
2017年08月29日 特許庁 / 特許	ゲート絶縁膜の形成方法、および、ゲート絶縁膜 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/316 M, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 29/78 301 B, FI分類-H01L 29/78 301 G
2017年08月28日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/56 A
2017年08月25日 特許庁 / 特許	真空装置、吸着電源 FI分類-H01L 21/68 R
2017年08月23日 特許庁 / 特許	表面処理方法及び表面処理装置 FI分類-C25D 11/12 Z, FI分類-C25D 11/00 308, FI分類-C25D 11/04 101 H
2017年08月23日 特許庁 / 特許	表面処理方法及び表面処理装置 FI分類-C25D 11/12 Z, FI分類-C25D 17/00 A, FI分類-C25D 11/04 301, FI分類-C25D 11/04 101 E, FI分類-C25D 11/04 101 Z
2017年08月23日 特許庁 / 特許	表面処理方法及び表面処理装置 FI分類-C25D 11/12 Z, FI分類-C25D 11/26 A, FI分類-C25D 11/34 F, FI分類-C25D 11/00 308, FI分類-C25D 11/04 301, FI分類-C25D 11/26 301, FI分類-C25D 11/26 302, FI分類-C25D 11/26 303, FI分類-C25D 11/34 303, FI分類-C25D 11/04 101 Z
2017年08月15日 特許庁 / 特許	デバイス及びデバイスの製造方法並びにアレイ型の超音波プローブの製造方法 FI分類-A61B 8/14, FI分類-H04R 31/00 330, FI分類-H04R 17/00 330 J
2017年08月08日 特許庁 / 特許	炭素ナノ構造体成長用のCVD装置及び炭素ナノ構造体の製造方法 FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C01B 32/15, FI分類-C23C 16/26, FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 16/458
2017年08月08日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法並びに太陽電池の製造方法 FI分類-C23C 14/50, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/203 S, FI分類-H01L 31/04 266, FI分類-H01L 31/04 424, FI分類-H01L 31/06 455
2017年08月07日 特許庁 / 特許	四重極型質量分析計及びその感度低下の判定方法 FI分類-H01J 49/06, FI分類-H01J 49/42
2017年07月26日 特許庁 / 特許	スパッタ装置 FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/285 S
2017年07月19日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/24 A
2017年07月19日 特許庁 / 特許	真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 C
2017年07月18日 特許庁 / 特許	成膜方法及びスパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 P, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/285 S
2017年07月18日 特許庁 / 特許	基板搬送装置 FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2017年07月10日 特許庁 / 特許	三極管型電離真空計及び圧力測定方法 FI分類-G01L 21/32
2017年07月05日 特許庁 / 特許	成膜装置、プラテンリング FI分類-C23C 14/34 J
2017年06月21日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置用成膜ユニット FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 A
2017年06月16日 特許庁 / 特許	ターゲット装置、スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 A
2017年06月16日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/505, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 M
2017年06月15日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 105 A
2017年06月14日 特許庁 / 特許	水素発生材料製造方法、燃料電池、水素発生方法 FI分類-C01B 3/08 Z, FI分類-H01M 8/06 R
2017年05月31日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 M
2017年05月31日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 L, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301
2017年05月26日 特許庁 / 特許	保持装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/302 101 G
2017年05月16日 特許庁 / 特許	炭素電極膜の形成方法 FI分類-C01B 32/05, FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/28 301
2017年05月16日 特許庁 / 特許	粘着式保持具及び被保持体の保持方法 FI分類-H01L 21/68 B
2017年05月12日 特許庁 / 特許	金属蒸発材料 FI分類-C22C 5/02, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 E
2017年05月11日 特許庁 / 特許	無菌液化ガス製造装置、無菌液化ガスの製造方法 FI分類-A61L 2/07, FI分類-F17C 6/00, FI分類-A61L 2/02 100, FI分類-B01D 65/02 500, FI分類-F17C 13/00 302 Z
2017年05月11日 特許庁 / 特許	無菌液化ガス製造装置、無菌液化ガスの製造方法 FI分類-A61L 2/07
2017年05月02日 特許庁 / 特許	Cu膜の形成方法 FI分類-C23C 8/08, FI分類-H01L 21/88 R
2017年04月28日 特許庁 / 特許	静電チャック、および、プラズマ処理装置 FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D, FI分類-H01L 21/302 101 G
2017年04月28日 特許庁 / 特許	有機薄膜製造装置、有機薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 B, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A
2017年04月26日 特許庁 / 特許	薄膜製造装置、薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/24 U
2017年04月24日 特許庁 / 特許	成膜用マスク及び成膜装置 FI分類-C23C 16/04, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-H01L 21/31 C
2017年04月04日 特許庁 / 特許	成膜方法及びスパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/35 B
2017年03月24日 特許庁 / 特許	評価方法及び計測装置 FI分類-G01B 21/16, FI分類-C23C 14/54 G
2017年03月23日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板の製造方法、透明導電膜付き基板の製造装置、透明導電膜付き基板、及び太陽電池 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 31/04 266, FI分類-H01L 31/06 455
2017年03月21日 特許庁 / 特許	透明導電層付き基板及び液晶パネル FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/1343, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-C01G 33/00 Z, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/041 660, FI分類-G06F 3/044 120, FI分類-H01B 13/00 503 B
2017年03月15日 特許庁 / 特許	コアシェル型量子ドット及びコアシェル型量子ドット分散液の製造方法 FI分類-C01G 9/08, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C09K 11/56, FI分類-C09K 11/62, FI分類-C01G 15/00 B, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 J
2017年03月14日 特許庁 / 特許	積層型ミニチュアライズ薄膜電池及びその製造方法 FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 2/10 Z, FI分類-H01M 2/22 E, FI分類-H01M 10/0562, FI分類-H01M 10/0585
2017年03月07日 特許庁 / 特許	バックコンタクト型結晶系太陽電池の製造方法およびマスク FI分類-H01L 21/265 M, FI分類-H01L 21/265 T, FI分類-H01L 31/04 440, FI分類-H01L 31/06 300, FI分類-H01L 21/265 602 A
2017年02月27日 特許庁 / 特許	成膜装置、および、成膜方法 FI分類-H01F 41/18, FI分類-C23C 14/34 P, FI分類-C23C 14/34 T
2017年02月22日 特許庁 / 特許	仕切りバルブ及び真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 A
2017年02月21日 特許庁 / 特許	電磁波吸収体及び電磁波吸収体の製造方法 FI分類-C08K 3/04, FI分類-C08K 7/18, FI分類-B22F 1/00 E, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05K 9/00 W
2017年02月02日 特許庁 / 特許	蒸着用金材料製造方法 FI分類-C23C 14/24 E
2017年01月25日 特許庁 / 特許	内部応力制御膜の形成方法 FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/34 N, FI分類-C23C 14/34 R
2017年01月16日 特許庁 / 特許	部材接合方法 FI分類-B23K 20/20, FI分類-C23C 4/067, FI分類-C22C 21/00 D, FI分類-B23K 20/00 340, FI分類-B23K 35/28 310 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2017年01月16日 特許庁 / 特許	ターゲットアッセンブリ、ターゲットアッセンブリの製造方法、ターゲットとバッキングプレートとの分離方法 FI分類-C23C 14/34 C
2017年01月16日 特許庁 / 特許	仕切弁装置 FI分類-F16K 3/00 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2017年01月12日 特許庁 / 特許	基板ホルダ、縦型基板搬送装置及び基板処理装置 FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 R
2017年01月11日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-H01L 21/363, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B
2016年12月27日 特許庁 / 特許	吸着圧力分布の測定方法 FI分類-G01R 33/02 A, FI分類-G01R 33/12 M
2016年12月22日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-H01L 21/316 Y
2016年12月21日 特許庁 / 特許	酸化物焼結体スパッタリングターゲット及びその製造方法 FI分類-C04B 35/01, FI分類-C23C 14/34 A
2016年12月16日 特許庁 / 特許	多孔質乾燥食品の製造方法及び多孔質乾燥食品製造装置 FI分類-A23B 7/02, FI分類-F26B 5/04, FI分類-A23L 3/40 A, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-A23L 19/00 A
2016年12月16日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-B65G 21/20 A, FI分類-B65G 47/52 B, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2016年12月14日 特許庁 / 特許	基板搬送装置用のキャリア FI分類-B65D 85/48, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/68 U
2016年12月06日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/54 B
2016年11月29日 特許庁 / 特許	薄膜リチウム二次電池及びその製造方法 FI分類-H01M 4/131, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 10/0562
2016年11月22日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/06 A
2016年11月22日 特許庁 / 特許	薄膜トランジスタ、酸化物半導体膜及びスパッタリングターゲット FI分類-C04B 35/01, FI分類-C04B 35/453, FI分類-C01G 23/00 C, FI分類-C23C 14/08 C, FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B
2016年11月16日 特許庁 / 特許	有機金属化学気相成長装置 FI分類-C23C 16/18, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年11月10日 特許庁 / 特許	成膜方法及び成膜装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/58 Z, FI分類-H01L 21/88 J, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/302 105 B
2016年11月10日 特許庁 / 特許	蒸気放出装置及び成膜装置 FI分類-C23C 14/24 D
2016年11月08日 特許庁 / 特許	真空処理装置及び希ガス回収装置 FI分類-C01B 23/00 M, FI分類-C01B 23/00 Z
2016年11月08日 特許庁 / 特許	静電チャック付きトレイ FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/68 U, FI分類-H02N 13/00 D
2016年11月01日 特許庁 / 特許	深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32
2016年10月14日 特許庁 / 特許	微細機能素子及び微細機能素子の製造方法 FI分類-B81B 7/02, FI分類-B81C 1/00, FI分類-H01L 21/312 A
2016年10月07日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年10月05日 特許庁 / 特許	混合器、真空処理装置 FI分類-B01F 3/02, FI分類-B01F 5/00 D, FI分類-B01F 5/02 Z, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 C
2016年10月05日 特許庁 / 特許	材料供給装置および蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 D
2016年10月03日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/24 C, FI分類-C23C 14/54 G
2016年10月03日 特許庁 / 特許	ハースユニット、蒸発源および成膜装置 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 C, FI分類-C23C 14/30 Z
2016年09月21日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット、ターゲット製造方法 FI分類-C22C 9/01, FI分類-C22C 9/06, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C22C 1/02 503 B
2016年09月14日 特許庁 / 特許	固体電解質膜の形成方法 FI分類-C23C 16/30, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/0562
2016年09月06日 特許庁 / 特許	膜厚センサ FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01B 7/06 Z, FI分類-G01N 5/02 A
2016年09月06日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法並びに太陽電池の製造方法 FI分類-C23C 14/34 V, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 31/04 424, FI分類-H01L 31/06 455
2016年09月02日 特許庁 / 特許	深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/10, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 33/36, FI分類-H01L 33/00 Z
2016年08月26日 特許庁 / 特許	マスク材走行ユニット FI分類-C23C 16/04, FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/56 J
2016年08月22日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/54 F, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 Y
2016年08月22日 特許庁 / 特許	カーボン膜の成膜方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/285 301
2016年08月18日 特許庁 / 特許	搬送装置 FI分類-B65G 49/00 A, FI分類-H01L 21/68 A
2016年08月17日 特許庁 / 特許	電子部品の製造方法および処理システム FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/30 R
2016年08月17日 特許庁 / 特許	ワーク保持体および成膜装置 FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-H01L 21/68 U
2016年08月12日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 104 C
2016年08月08日 特許庁 / 特許	半導体デバイス FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 21/302 103
2016年08月04日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置用成膜ユニット及び成膜装置 FI分類-C23C 14/35 A
2016年07月29日 特許庁 / 特許	基板搬送ロボット、真空処理装置 FI分類-B25J 15/00 F, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 A
2016年07月28日 特許庁 / 特許	基板処理方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/28 A, FI分類-H01L 21/90 A, FI分類-H01L 21/302 104 Z, FI分類-H01L 21/304 645 C
2016年07月22日 特許庁 / 特許	酸化亜鉛化合物膜の成膜方法、および、酸化亜鉛化合物膜 FI分類-C01G 9/03, FI分類-C01G 9/00 B, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-C23C 14/08 C, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-H01B 13/00 503 B
2016年07月11日 特許庁 / 特許	火山灰焼結体及びその製造方法 FI分類-C04B 33/13 A, FI分類-C04B 35/00 W
2016年06月29日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/34 M
2016年06月23日 特許庁 / 特許	応力調整方法 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-H01L 21/316 Y
2016年06月23日 特許庁 / 特許	基板搬送方法 FI分類-H02J 50/05, FI分類-H02J 50/80, FI分類-B25J 15/06 Z, FI分類-B25J 19/00 F, FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 B
2016年06月22日 特許庁 / 特許	HBC型結晶系太陽電池の製造方法 FI分類-H01L 31/04 420, FI分類-H01L 31/06 455
2016年06月20日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板、液晶パネル及び透明導電膜付き基板の製造方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/1343, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G06F 3/041 412, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G02F 1/1335 505, FI分類-H01B 13/00 503 B
2016年06月15日 特許庁 / 特許	ゲートバルブ FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 14/56 C, FI分類-F16K 51/02 A
2016年06月15日 特許庁 / 特許	パターン成膜装置 FI分類-C23C 14/54 F, FI分類-C23C 14/56 B
2016年06月10日 特許庁 / 特許	シリコン酸化層形成方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-H01L 21/316 S
2016年06月10日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びその状態判別方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 U
2016年06月08日 特許庁 / 特許	成膜方法及び成膜装置 FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/54 A, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/28 301 B, FI分類-H01L 21/28 301 R
2016年06月08日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/02 A
2016年06月07日 特許庁 / 特許	基板保持装置及び成膜装置 FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/68 N
2016年06月06日 特許庁 / 特許	巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法 FI分類-C23C 14/24 C, FI分類-C23C 14/24 M
2016年06月01日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 V, FI分類-H01L 21/68 A
2016年05月30日 特許庁 / 特許	透明導電膜付き基板の製造方法 FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-G06F 3/041 660
2016年05月27日 特許庁 / 特許	光学薄膜製造方法、光学フィルム製造方法 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/24 U
2016年05月24日 特許庁 / 特許	イオンプレーティング装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/32 B
2016年05月24日 特許庁 / 特許	静電チャック付き搬送ロボットの制御システム FI分類-H02J 50/05, FI分類-H02J 50/80, FI分類-B25J 13/00 Z, FI分類-B25J 15/06 Z, FI分類-B25J 19/00 F, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 B
2016年05月17日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C
2016年05月16日 特許庁 / 特許	電子部品の製造方法および処理システム FI分類-H01L 23/00 C, FI分類-H01L 23/30 D
2016年05月13日 特許庁 / 特許	基板除電機構及びこれを用いた真空処理装置 FI分類-H01T 19/00, FI分類-B65H 5/00 A, FI分類-H05F 3/04 D, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-C23C 14/56 A
2016年05月11日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 C, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 Y
2016年05月10日 特許庁 / 特許	水分検出素子製造方法、水崩壊性配線膜製造方法、水崩壊性薄膜製造方法、水分検出素子 FI分類-C23C 4/08, FI分類-C23C 14/14 B, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-G01N 27/00 L, FI分類-G01N 27/04 B
2016年04月28日 特許庁 / 特許	培養装置及び培養方法 FI分類-C12M 3/00 A
2016年04月18日 特許庁 / 特許	透明導電性基板及びその製造方法、並びに、透明導電性基板の製造装置 FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-H01B 5/14 B, FI分類-H05K 9/00 V, FI分類-G06F 3/041 400, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/041 522, FI分類-G06F 3/041 640, FI分類-G06F 3/041 660, FI分類-H01B 13/00 503 B, FI分類-H01B 13/00 503 D
2016年04月14日 特許庁 / 特許	スパッタリングターゲット及びその製造方法 FI分類-C23C 4/08, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/34 C
2016年04月12日 特許庁 / 特許	基板の保持方法 FI分類-C23C 16/458, FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 R
2016年04月11日 特許庁 / 特許	吸着装置、真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D
2016年04月05日 特許庁 / 特許	蒸発源、真空蒸着装置および真空蒸着方法 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 B
2016年04月01日 特許庁 / 特許	ピラニ真空計 FI分類-G01L 21/12
2016年04月01日 特許庁 / 特許	吸着方法及び真空処理方法 FI分類-C23C 14/50 A, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D
2016年03月31日 特許庁 / 特許	吸着装置及び真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D
2016年03月15日 特許庁 / 特許	高周波スパッタリング装置及びスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-C23C 14/50 Z
2016年03月15日 特許庁 / 特許	カソードアッセンブリ FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-H01L 21/31 D
2016年03月11日 特許庁 / 特許	透明導電性基板及び透明積層構造体 FI分類-B32B 3/10, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-H01B 5/14 A, FI分類-B32B 15/06 Z, FI分類-B32B 7/02 103, FI分類-B32B 7/02 104, FI分類-G06F 3/041 400, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/044 122
2016年03月09日 特許庁 / 特許	凸版反転印刷用導電性金属インク及びそれを用いた金属配線の形成方法 FI分類-C09D 11/03, FI分類-C09D 11/52, FI分類-B41M 1/30 D, FI分類-H05K 3/12 630 Z
2016年02月24日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-H01L 21/90 A, FI分類-H01L 21/90 C, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/302 101 Z
2016年02月17日 特許庁 / 特許	電源装置、真空処理装置 FI分類-H02M 7/48 A, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H02M 7/538 Z, FI分類-H02M 7/5387 Z
2016年02月16日 特許庁 / 特許	溶接方法及び溶接装置 FI分類-H05H 7/20, FI分類-B23K 9/16 M, FI分類-B23K 9/23 G, FI分類-B23K 26/21 F, FI分類-B23K 26/21 N, FI分類-B23K 31/00 D, FI分類-B23K 9/235 Z, FI分類-B23K 9/00 101 B, FI分類-B23K 9/00 501 N
2016年02月16日 特許庁 / 特許	酸化アルミニウム膜の成膜方法及び形成方法並びにスパッタリング装置 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 Y
2016年02月10日 特許庁 / 特許	三極管型電離真空計 FI分類-G01L 23/32
2016年02月10日 特許庁 / 特許	三極管型電離真空計 FI分類-G01L 21/32
2016年02月05日 特許庁 / 特許	成膜装置及び基板判別方法 FI分類-C23C 14/08 A, FI分類-C23C 14/34 U
2016年02月04日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 R
2016年01月29日 特許庁 / 特許	薄膜形成装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 N
2016年01月27日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/285 S
2016年01月08日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C
2016年01月08日 特許庁 / 特許	接触式給電装置 FI分類-H01R 39/26
2016年01月08日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置用の回転式カソードユニット FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/35 B
2016年01月06日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 27/10 434, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/28 301 Z
2016年01月06日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/34 R
2015年12月24日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置及びスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 B
2015年12月21日 特許庁 / 特許	レーザー加工装置、レーザー加工方法、および、接合体の製造方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H05B 33/10, FI分類-B23K 26/067, FI分類-B23K 26/082, FI分類-B23K 26/324, FI分類-B23K 26/00 N, FI分類-H05B 33/14 A
2015年12月18日 特許庁 / 特許	油回転真空ポンプ FI分類-F04B 39/00 A, FI分類-F04B 39/08 A, FI分類-F04B 39/08 B, FI分類-F04B 39/10 E, FI分類-F04C 23/00 F, FI分類-F04C 25/02 C, FI分類-F04C 29/00 C, FI分類-F04C 29/12 F, FI分類-F04C 29/02 311 F
2015年12月18日 特許庁 / 特許	フィルム搬送装置 FI分類-B65H 26/00, FI分類-C23C 16/54, FI分類-B65H 27/00 Z, FI分類-C23C 14/56 B
2015年12月18日 特許庁 / 特許	蒸発源および巻取式真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-C23C 14/24 B
2015年12月15日 特許庁 / 特許	スクリュー真空ポンプ FI分類-F04C 18/16 C, FI分類-F04C 25/02 M
2015年12月04日 特許庁 / 特許	電子ビーム蒸発源及び真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/24 C, FI分類-C23C 14/30 A
2015年12月01日 特許庁 / 特許	熱CVD装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-C23C 16/458, FI分類-C23C 16/26 ZNM, FI分類-C01B 31/02 101 F
2015年11月30日 特許庁 / 特許	基板監視装置、および、基板監視方法 FI分類-G01N 21/896
2015年11月05日 特許庁 / 特許	インターロック装置および気体圧装置 FI分類-F15B 11/06 D, FI分類-F15B 20/00 B
2015年10月26日 特許庁 / 特許	スクリューポンプ FI分類-F04C 18/16 L, FI分類-F04C 25/02 M
2015年10月14日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/34 U
2015年10月07日 特許庁 / 特許	撹拌装置 FI分類-B01F 7/18 B, FI分類-G01N 1/28 Y, FI分類-B01F 15/00 Z, FI分類-B01F 15/06 Z
2015年10月02日 特許庁 / 特許	生体材料の製造方法、人工血管用材料の製造方法、及び生体材料 FI分類-C12N 5/071, FI分類-A61L 27/00 S
2015年09月18日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/56 A, FI分類-C23C 14/56 D
2015年09月14日 特許庁 / 特許	XYステージ、アライメント装置、蒸着装置 FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-H01L 21/68 K
2015年09月04日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-A23L 3/40 D, FI分類-B65G 49/00 C
2015年08月26日 特許庁 / 特許	抗菌部材の形成方法、および、抗菌部材 FI分類-A01P 3/00, FI分類-A01N 25/10, FI分類-B32B 25/20, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-A01N 59/16 Z, FI分類-C08J 7/06 CFHZ
2015年08月24日 特許庁 / 特許	水反応性Al複合材料、水反応性Al合金溶射膜、このAl合金溶射膜の製造方法、及び成膜室用構成部材 FI分類-C23C 4/06, FI分類-C23C 14/00 B
2015年08月21日 特許庁 / 特許	樹脂基板の加工方法 FI分類-H05K 3/00 N
2015年08月21日 特許庁 / 特許	タッチパネル FI分類-B32B 7/02 104, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/044 125
2015年08月20日 特許庁 / 特許	ターゲットアッセンブリ FI分類-C23C 14/34 C
2015年07月30日 特許庁 / 特許	非接触式の給電システム FI分類-B25J 19/00 F, FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 B, FI分類-H02J 17/00 C
2015年07月29日 特許庁 / 特許	深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 186
2015年07月29日 特許庁 / 特許	膜厚モニタおよび膜厚測定方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-H05B 33/10, FI分類-G01B 7/06 Z, FI分類-G01B 17/02 A, FI分類-H05B 33/14 A
2015年07月28日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/50 K
2015年07月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-H01L 21/285 S
2015年07月21日 特許庁 / 特許	水晶振動子の交換方法および膜厚モニタ FI分類-G01B 17/02
2015年07月15日 特許庁 / 特許	スパッタ装置及びスパッタ装置の駆動方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 T
2015年07月15日 特許庁 / 特許	温度測定方法 FI分類-C23C 14/34 U
2015年07月15日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-H01L 43/12, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 43/08 Z, FI分類-H01L 27/10 447
2015年07月13日 特許庁 / 特許	真空乾燥装置および真空乾燥方法 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 21/10 A
2015年07月10日 特許庁 / 特許	膜厚制御装置、膜厚制御方法および成膜装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01B 21/08
2015年06月18日 特許庁 / 特許	ターゲットアッセンブリ FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-H01L 21/203 S
2015年06月16日 特許庁 / 特許	ターゲットアッセンブリ FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C23C 14/34 C
2015年06月11日 特許庁 / 特許	PZT薄膜積層体の製造方法 FI分類-H01L 41/29, FI分類-H01L 41/047, FI分類-H01L 41/319, FI分類-C23C 14/06 N
2015年06月11日 特許庁 / 特許	多層膜及びその製造方法 FI分類-H01L 41/047, FI分類-H01L 41/187, FI分類-H01L 41/316, FI分類-H01L 41/319, FI分類-H01L 21/316 M, FI分類-H01L 21/316 Y
2015年06月11日 特許庁 / 特許	多層膜並びにその製造方法及びその製造装置 FI分類-B32B 3/04, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/56 J, FI分類-B32B 7/02 104
2015年06月02日 特許庁 / 特許	絶縁物ターゲット FI分類-C23C 14/34 C
2015年05月22日 特許庁 / 特許	成膜装置、有機膜の膜厚測定方法および有機膜用膜厚センサ FI分類-C23C 14/12, FI分類-C23C 14/52, FI分類-H05B 33/10, FI分類-G01B 7/16 Z, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A
2015年05月18日 特許庁 / 特許	正極活物質膜、および、成膜方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 4/131, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/1391
2015年05月15日 特許庁 / 特許	回転機構及びこの回転機構を備えた膜厚モニター FI分類-F16C 19/06, FI分類-F16C 35/067, FI分類-C23C 14/54 C
2015年05月13日 特許庁 / 特許	シート状のマスク FI分類-C23C 16/04, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/56 B
2015年04月28日 特許庁 / 特許	タッチパネル及びその製造方法、並びに、表示装置及びその製造方法 FI分類-G06F 3/041 400, FI分類-G06F 3/041 450
2015年04月15日 特許庁 / 特許	保持装置、真空処理装置 FI分類-B25J 15/00 Z, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101
2015年03月18日 特許庁 / 特許	イオンビーム装置、イオン注入装置、イオンビーム放出方法 FI分類-H01J 27/20, FI分類-H01J 37/08
2015年03月10日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/56 B
2015年03月04日 特許庁 / 特許	タッチパネルおよび透明導電性基板 FI分類-G06F 3/041 400, FI分類-G06F 3/041 422, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/044 124, FI分類-G06F 3/044 129
2015年03月03日 特許庁 / 特許	冷陰極電離真空計 FI分類-G01L 21/34
2015年02月27日 特許庁 / 特許	イオン照射装置、イオン照射方法 FI分類-H01J 37/04 Z, FI分類-H01J 37/30 A
2015年02月25日 特許庁 / 特許	隔膜真空計、および、隔膜真空計の製造方法 FI分類-G01L 9/12, FI分類-G01L 21/00 Z
2015年02月25日 特許庁 / 特許	プラズマエッチング方法、プラズマエッチング装置、プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年02月24日 特許庁 / 特許	マグネトロンスパッタリング装置用の磁石ユニット及びこの磁石ユニットを用いたスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 Y
2015年02月13日 特許庁 / 特許	抵抗変化素子及びその製造方法 FI分類-H01L 45/00 Z, FI分類-H01L 49/00 Z, FI分類-H01L 27/10 448, FI分類-H01L 21/28 301 B, FI分類-H01L 21/28 301 Z
2015年02月10日 特許庁 / 特許	真空溶解鋳造装置 FI分類-F27D 3/08, FI分類-F27D 9/00, FI分類-B22D 11/106, FI分類-B22D 11/113, FI分類-H01F 1/04 H, FI分類-F27D 15/02 Z, FI分類-B22D 11/124 J, FI分類-B22D 11/124 Q, FI分類-B22D 11/126 Z, FI分類-B22D 11/06 360 B
2015年02月05日 特許庁 / 特許	カーボン電極膜の形成方法および相変化型メモリ素子の製造方法 FI分類-C23C 14/06 F, FI分類-C23C 14/34 N, FI分類-H01L 45/00 A, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 27/10 448, FI分類-C01B 31/02 101 Z, FI分類-H01L 21/28 301 Z
2015年02月03日 特許庁 / 特許	薄膜製造装置、薄膜製造方法 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/54 E, FI分類-H05B 33/14 A
2015年01月30日 特許庁 / 特許	成膜方法及び発光ダイオードの製造方法 FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/08 N, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 33/00 222, FI分類-H01L 21/28 301 R
2015年01月21日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置、及びウェハ搬送用トレイ FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H01L 21/68 U, FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年01月20日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置、薄膜製造方法 FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 G, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01L 21/28 301 R
2015年01月08日 特許庁 / 特許	レジスト構造体の製造方法 FI分類-H01L 21/92 604 S
2015年01月08日 特許庁 / 特許	マイクロバンプの製造方法 FI分類-H01L 21/92 604 N, FI分類-H01L 21/92 604 S
2014年12月19日 特許庁 / 特許	スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/35 Z, FI分類-H01L 21/88 B, FI分類-H01L 21/285 S
2014年12月18日 特許庁 / 特許	アルカリ金属-硫黄電池用正極及びこれを備えた二次電池の製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-H01M 4/66 A, FI分類-H01M 4/70 Z, FI分類-H01M 10/0566
2014年12月12日 特許庁 / 特許	吸着装置、真空処理装置、真空処理方法 FI分類-B23Q 3/15 D, FI分類-H01L 21/68 R
2014年12月12日 特許庁 / 特許	真空処理方法 FI分類-H01L 21/68 R
2014年12月11日 特許庁 / 特許	ロータリーカソード、および、スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 A
2014年12月09日 特許庁 / 特許	ロータリーカソード、および、スパッタ装置 FI分類-F16C 35/073, FI分類-F16C 35/077, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C
2014年12月09日 特許庁 / 特許	ロータリーカソード、および、スパッタ装置 FI分類-C23C 14/34 B
2014年12月05日 特許庁 / 特許	真空乾燥の終点検知方法及び真空乾燥装置 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 25/00 A
2014年12月05日 特許庁 / 特許	電子銃装置及び真空蒸着装置 FI分類-C23C 14/30 B, FI分類-H01J 37/06 Z
2014年11月26日 特許庁 / 特許	インライン式成膜装置の成膜準備方法及びインライン式成膜装置並びにキャリア FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 J, FI分類-C23C 14/50 F, FI分類-C23C 14/54 G, FI分類-C23C 14/56 J, FI分類-H05B 33/14 A
2014年11月10日 特許庁 / 特許	基板搬送方法 FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2014年11月04日 特許庁 / 特許	基板割れ判定方法 FI分類-H01L 21/66 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 L
2014年10月24日 特許庁 / 特許	深紫外LED及びその製造方法 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 186
2014年10月15日 特許庁 / 特許	超音波プローブ及びこの超音波プローブを用いた生体の血圧測定方法 FI分類-A61B 8/00
2014年10月15日 特許庁 / 特許	リチウム硫黄二次電池用の正極及びその形成方法 FI分類-H01M 4/136, FI分類-H01M 4/1397, FI分類-H01M 4/38 Z
2014年10月15日 特許庁 / 特許	リチウム硫黄二次電池用の正極 FI分類-H01M 4/136, FI分類-H01M 4/1397, FI分類-H01M 4/38 Z
2014年10月01日 特許庁 / 特許	機能性素子、二酸化バナジウム薄膜製造方法 FI分類-H01C 7/04, FI分類-H01C 17/12, FI分類-C23C 14/08 N, FI分類-C23C 14/34 R, FI分類-H01L 45/00 Z, FI分類-H01L 49/00 Z, FI分類-H01L 21/316 Y
2014年10月01日 特許庁 / 特許	機能性素子、二酸化バナジウム薄膜製造方法 FI分類-C01G 31/02, FI分類-H01L 29/24, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-H01L 45/00 A, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 27/10 448, FI分類-H01L 29/78 618 A, FI分類-H01L 29/78 618 B
2014年09月25日 特許庁 / 特許	水晶振動子、この水晶振動子を有するセンサヘッド、成膜制御装置、および成膜制御装置の製造方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 41/09, FI分類-H01L 41/113, FI分類-H03H 9/19 A
2014年09月25日 特許庁 / 特許	燃料電池用金属セパレータの製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 8/02 B
2014年09月17日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および、成膜装置 FI分類-C23C 14/34 T
2014年09月09日 特許庁 / 特許	冷却ファンの取付構造 FI分類-H05K 7/20 H, FI分類-G06F 1/00 360 B, FI分類-G06F 1/00 360 C
2014年09月05日 特許庁 / 特許	水反応性Al合金溶射膜の製造方法 FI分類-C23C 4/06, FI分類-C23C 4/12, FI分類-C22C 21/02, FI分類-B22F 1/00 N, FI分類-B22F 9/08 S, FI分類-C22C 21/00 N, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J
2014年09月04日 特許庁 / 特許	排ガス浄化用触媒の製造方法 FI分類-B01J 37/08, FI分類-B01J 23/66 A, FI分類-B01J 37/04 102, FI分類-F01N 3/02 301 E, FI分類-B01D 53/36 104 B
2014年09月02日 特許庁 / 特許	排ガス浄化用触媒の製造方法 FI分類-B01J 37/08, FI分類-B01J 23/62 A, FI分類-F01N 3/02 301 E, FI分類-B01D 53/36 104 B, FI分類-B01J 37/02 101 A
2014年09月01日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-B08B 5/02 Z, FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 G, FI分類-H01L 21/302 101 H, FI分類-H01L 21/304 645 Z
2014年08月20日 特許庁 / 特許	洗浄廃水の電気透析装置及び電気透析方法 FI分類-C02F 1/46 103, FI分類-B01D 61/44 500
2014年08月20日 特許庁 / 特許	電気分解装置及びその製造方法並びに電気分解方法 FI分類-C25B 1/34, FI分類-C02F 1/46 Z, FI分類-C25B 9/00 A, FI分類-C25B 11/10 A
2014年08月05日 特許庁 / 特許	基板ホルダおよび基板着脱方法 FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-H01L 21/68 N
2014年07月31日 特許庁 / 特許	永久磁石の製造方法 FI分類-B22F 3/00 F, FI分類-B22F 3/24 K, FI分類-H01F 1/04 H, FI分類-H01F 1/08 B, FI分類-H01F 7/02 E, FI分類-H01F 41/02 G, FI分類-C22C 38/00 303 D
2014年07月22日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-H01L 21/68 N
2014年07月18日 特許庁 / 特許	漏洩検知方法 FI分類-G01M 3/20 B, FI分類-G01M 3/20 E
2014年07月16日 特許庁 / 特許	半導体発光素子及びフォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法 FI分類-H01L 33/00 160, FI分類-H01L 33/00 162, FI分類-H01L 33/00 410
2014年07月16日 特許庁 / 特許	フォトニック結晶周期構造のパラメータ計算方法、プログラム及び記録媒体 FI分類-H01L 33/00 130, FI分類-H01L 33/00 170
2014年07月10日 特許庁 / 特許	タッチパネル、その製造方法、光学薄膜基板、およびその製造方法 FI分類-B32B 15/04 Z, FI分類-B32B 7/02 103, FI分類-G06F 3/041 450, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 660
2014年07月02日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜装置のメンテナンス方法 FI分類-C23C 14/00 B
2014年06月30日 特許庁 / 特許	スパッタリング方法 FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/285 S
2014年06月17日 特許庁 / 特許	透明導電性基板およびその製造方法、並びにタッチパネル FI分類-G06F 3/041 410, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/041 660
2014年05月21日 特許庁 / 特許	素子構造体及びその製造方法 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A
2014年05月20日 特許庁 / 特許	凹部形成方法及び熱処理炉 FI分類-H01L 21/268 Z, FI分類-H01L 21/302 104 C
2014年05月20日 特許庁 / 特許	放射線像変換パネルの製造方法及び放射線像変換パネル FI分類-G01T 1/20 B, FI分類-G01T 1/20 D, FI分類-G01T 1/20 L, FI分類-G21K 4/00 A
2014年05月02日 特許庁 / 特許	搭載装置およびその製造方法 FI分類-H05K 1/09 C, FI分類-H05K 1/09 D, FI分類-H05K 1/11 H, FI分類-H05K 3/42 620 B
2014年03月28日 特許庁 / 特許	窒化ガリウム膜のエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 101 C
2014年03月20日 特許庁 / 特許	熱陰極電離真空計 FI分類-G01L 21/32
2014年03月14日 特許庁 / 特許	量子ドット分散液 FI分類-H01G 9/20 111 B, FI分類-H01G 9/20 113 Z
2014年03月13日 特許庁 / 特許	基板吸着離脱機構、基板搬送装置及び真空装置 FI分類-H01L 21/68 N
2014年03月04日 特許庁 / 特許	スパッタリングカソード FI分類-C23C 14/35 B
2014年02月13日 特許庁 / 特許	ハードマスク形成方法及びハードマスク形成装置 FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/58 C
2014年02月12日 特許庁 / 特許	基板吸着離脱機構及び真空装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N
2014年02月04日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/35 B, FI分類-H01L 21/285 S
2014年01月29日 特許庁 / 特許	タッチパネル FI分類-G06F 3/044 E, FI分類-G06F 3/041 330 D, FI分類-G06F 3/041 350 C
2014年01月24日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 14/54 C
2014年01月22日 特許庁 / 特許	成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 14/56 J
2014年01月22日 特許庁 / 特許	基板保持装置および成膜装置 FI分類-C23C 14/24 G
2014年01月07日 特許庁 / 特許	有機ELデバイスの製造装置 FI分類-C23C 14/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 J, FI分類-C23C 14/24 V, FI分類-H05B 33/14 A
2014年01月07日 特許庁 / 特許	有機ELデバイスの製造装置 FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 U, FI分類-H05B 33/14 A

株式会社アルバックの商標情報(26件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年02月02日 特許庁 / 商標	可能性の場 07類, 09類, 11類
2022年11月04日 特許庁 / 商標	ユージェミニ 07類
2022年06月03日 特許庁 / 商標	§ULVAC∞70th＼Anniversary 07類, 32類
2022年04月18日 特許庁 / 商標	SEGul 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	CME 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	EVD 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	SRH 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	ULDiS 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	SELION 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	DFB 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	DFM 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	ZELDA 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	CMD 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	SPW 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	EWE 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	SCH 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	EWA 07類
2022年04月13日 特許庁 / 商標	EGN 07類
2022年03月04日 特許庁 / 商標	§ULVAC CRYOGENICS 07類, 11類, 37類
2021年06月08日 特許庁 / 商標	uGmni 07類
2021年04月26日 特許庁 / 商標	Mag-tune 09類, 37類
2021年04月26日 特許庁 / 商標	Expert Eyes 37類
2016年10月31日 特許庁 / 商標	ゆるドライ 29類
2015年11月09日 特許庁 / 商標	ULVirom 02類, 06類, 40類
2015年11月05日 特許庁 / 商標	MICROPADDLE 07類, 09類
2014年07月10日 特許庁 / 商標	DRYMONI 07類, 11類, 37類, 40類

株式会社アルバックの意匠情報(12件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年09月13日 特許庁 / 意匠	基板搬送用トレイ 意匠新分類-K0790
2022年09月13日 特許庁 / 意匠	基板搬送用トレイのクランプ 意匠新分類-K0790
2017年02月15日 特許庁 / 意匠	真空成膜装置用基板ガイド 意匠新分類-K0790
2017年02月15日 特許庁 / 意匠	真空成膜装置用基板ガイド 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年08月05日 特許庁 / 意匠	スパッタリングターゲット 意匠新分類-K0790
2016年02月25日 特許庁 / 意匠	溶液撹拌器具 意匠新分類-K670
2015年08月20日 特許庁 / 意匠	溶液撹拌器具 意匠新分類-K679

株式会社アルバックの職場情報

項目	データ
事業概要	ディスプレイ・太陽電池・半導体・電子・電気・金属・機械・自動車・化学・食品・医薬品業界及び大学・研究所向け真空装置、周辺機器、真空コンポーネントの開発・製造・販売・カスタマーサポートおよび諸機械の輸出入。また、真空技術全般に関する研究指導・技術顧問。
企業規模	2,004人 男性 1,713人 / 女性 291人
平均勤続年数 範囲 その他	男性 17.3年 / 女性 12.6年
管理職全体人数	420人 男性 404人 / 女性 16人
役員全体人数	21人 男性 20人 / 女性 1人

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