法人番号:5030001025526
ジャパンクリエイト株式会社
情報更新日:2024年08月31日
ジャパンクリエイト株式会社とは
ジャパンクリエイト株式会社（ジャパンクリエイト）は、法人番号:5030001025526で埼玉県所沢市林1丁目203番地の4に所在する法人としてさいたま地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、特許情報が11件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2020年08月03日です。
インボイス番号:T5030001025526については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は埼玉労働局。所沢労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
ジャパンクリエイト株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | ジャパンクリエイト株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ジャパンクリエイト |
| 法人番号 | 5030001025526 |
| 会社法人等番号 | 0300-01-025526 |
| 登記所 | さいたま地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T5030001025526 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒359-1167 ※地方自治体コードは 11208 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 埼玉県 ※埼玉県の法人数は 262,201件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 所沢市 ※所沢市の法人数は 11,561件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 林1丁目203番地の4 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 埼玉県所沢市林1丁目203番地の4 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | サイタマケントコロザワシハヤシ1チョウメ |
| 電話番号TEL | 04-2938-3111 |
| FAX番号FAX | 04-2938-3116 |
| ホームページHP | http://www.japancreate.co.jp/ |
| 更新年月日更新日 | 2020年08月03日 |
| 変更年月日変更日 | 2015年10月05日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 埼玉労働局 〒330-6016 埼玉県さいたま市中央区新都心11番地2 明治安田生命さいたま新都心ビル ランド・アクシス・タワー 14F(安定)・15F(総務・基準・安定)・16F(総務・雇均) |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 所沢労働基準監督署 〒359-0042 埼玉県所沢市並木6-1-3所沢地方合同庁舎 |
ジャパンクリエイト株式会社の場所
ジャパンクリエイト株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「ジャパンクリエイト株式会社」で、「埼玉県所沢市林1丁目203番地の4」に新規登録されました。 |
ジャパンクリエイト株式会社と同じ名称の法人
| 件数 | リンク |
|---|---|
| 8件 | ※「ジャパンクリエイト株式会社」と同じ名称の法人を探す |
ジャパンクリエイト株式会社の関連情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 情報名 | ジャパンクリエイト株式会社 |
| 情報名 読み | ジャパンクリエイト |
| 住所 | 埼玉県所沢市林1丁目203-4 |
| 電話番号 | 04-2938-3111 |
ジャパンクリエイト株式会社の法人活動情報
ジャパンクリエイト株式会社の特許情報(11件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 回転塗布装置及び回転塗布方法 FI分類-B05B 7/26, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/02 H, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2018年01月15日 特許庁 / 特許 | 半導体ウェハ処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 D |
2017年12月06日 特許庁 / 特許 | レジスト現像液の管理装置及び管理方法 FI分類-G03F 7/30 501 |
2017年10月20日 特許庁 / 特許 | プラズマCVD装置及びプラスチック容器の成膜方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/455, FI分類-C23C 16/505, FI分類-C23C 16/515, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H05H 1/46 M |
2017年07月14日 特許庁 / 特許 | プラズマCVD装置、磁気記録媒体の製造方法及び成膜方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-C23C 16/32, FI分類-C23C 16/503, FI分類-G11B 5/84 B |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | BxNyCzOw膜の成膜方法、磁気記録媒体およびその製造方法 FI分類-G11B 5/72, FI分類-C23C 16/30, FI分類-C23C 16/40, FI分類-G11B 5/725, FI分類-G11B 5/84 B |
2017年01月26日 特許庁 / 特許 | ディスプレイ用電子基板の製造方法、ディスプレイ用電子基板の研磨方法および研磨装置 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G02F 1/1333 500 |
2016年07月27日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の研磨方法および研磨装置 FI分類-H05B 33/02, FI分類-C03C 15/00 Z, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1333 500 |
2016年02月05日 特許庁 / 特許 | プラズマCVD装置、磁気記録媒体の製造方法及び成膜方法 FI分類-C23C 16/26, FI分類-C23C 16/503, FI分類-G11B 5/84 B, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C01B 31/02 101 Z |
2015年02月18日 特許庁 / 特許 | 撥水性高硬度膜、金型及び撥水性高硬度膜の製造方法 FI分類-B29C 33/38, FI分類-C01B 32/10, FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/50 |
2014年06月20日 特許庁 / 特許 | プラズマCVD装置及び磁気記録媒体の製造方法 FI分類-C23C 16/26, FI分類-C23C 16/50, FI分類-G11B 5/84 B |
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