株式会社ニューフレアテクノロジー

株式会社ニューフレアテクノロジーとは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社ニューフレアテクノロジーの基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社ニューフレアテクノロジー
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ニューフレアテクノロジー
法人番号	5080101002461
会社法人等番号	0801-01-002461
登記所	静岡地方法務局沼津支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2025年07月31日更新 インボイス番号	T5080101002461 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2025年07月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒235-0032 ※地方自治体コードは 14107
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 366,785件
国内所在地（市区町村）市区町村	横浜市磯子区 ※横浜市磯子区の法人数は 5,563件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	新杉田町8番1
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンヨコハマシイソゴクシンスギタチョウ
代表者	代表取締役社長 杉本 茂樹
資本金	64億8,600万円 (2019年06月27日現在)
従業員数	711人 (2025年02月27日現在)
更新年月日更新日	2018年07月20日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	横浜南労働基準監督署 〒231-0003 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地 横浜第2合同庁舎9階

株式会社ニューフレアテクノロジーの場所

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株式会社ニューフレアテクノロジーの補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	カブシキガイシャニューフレアテクノロジー
企業名 英語	NuFlare Technology, Inc.
上場・非上場	非上場
資本金	64億8,600万円
業種	機械

株式会社ニューフレアテクノロジーの登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社ニューフレアテクノロジー」で、「神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1」に新規登録されました。

株式会社ニューフレアテクノロジーの関連情報

項目	内容
情報名	株式会社ニューフレアテクノロジー 横浜事業所
情報名 読み	ニューフレアテクノロジーヨコハマジギョウショ
住所	神奈川県横浜市磯子区新杉田町8
電話番号	045-769-0970

株式会社ニューフレアテクノロジーの法人活動情報

株式会社ニューフレアテクノロジーの表彰情報(3件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2025年02月27日 厚生労働省	あんぜんプロジェクト-認定
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社ニューフレアテクノロジーの特許情報(391件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年01月16日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/10, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2023年01月16日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/141, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2023年01月16日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/145, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/153 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2022年11月18日 特許庁 / 特許	ショットキー熱電界放出(TFE)源の使用可能電流及び輝度を決定する方法、持続性コンピュータ可読媒体、及び決定システム FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/06 A
2022年09月14日 特許庁 / 特許	電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/20 H, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2022年04月26日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム画像取得方法 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/145, FI分類-H01J 37/141 A, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/153 B
2021年12月09日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01L 21/30 541 B
2021年11月25日 特許庁 / 特許	気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2021年10月18日 特許庁 / 特許	気相成長装置 FI分類-C30B 25/12, FI分類-C23C 16/458, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/36 A, FI分類-H01L 21/68 N
2021年06月21日 特許庁 / 特許	ウィーンフィルタ及びマルチ電子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/05, FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J
2021年03月29日 特許庁 / 特許	成膜装置およびプレート FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2021年02月15日 特許庁 / 特許	欠陥検査装置及び欠陥検査方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 7/00 610 C
2021年02月05日 特許庁 / 特許	欠陥検査装置及び欠陥検査方法 FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 7/00 610 C
2021年01月05日 特許庁 / 特許	欠陥検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2020年12月17日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G01N 23/2251
2020年11月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/18, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 D
2020年11月04日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム調整方法、マルチ荷電粒子ビーム照射方法、及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/145, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年10月06日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年09月29日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム照射装置およびマルチ荷電粒子ビーム照射方法 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年09月29日 特許庁 / 特許	パターン検査方法およびパターン検査装置 FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 400 D, FI分類-G06T 1/00 430 G, FI分類-G06T 1/00 460 B
2020年09月03日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム調整方法、荷電粒子ビーム描画方法、および荷電粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/21 Z, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年08月21日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム描画装置及びマルチ電子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/073, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年08月06日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年07月29日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及び輪郭線同士のアライメント量取得方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 C, FI分類-G06T 7/00 610 C
2020年07月17日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/04 B, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年06月26日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2020年06月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年06月12日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年04月22日 特許庁 / 特許	気相成長方法及び気相成長装置 FI分類-C23C 16/42, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J
2020年04月13日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2020年04月13日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム照射装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年04月08日 特許庁 / 特許	SiCエピタキシャル成長装置 FI分類-C30B 25/14, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-C30B 29/36 A
2020年04月08日 特許庁 / 特許	SiCエピタキシャル成長装置およびSiCエピタキシャル成長装置の副生成物除去方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 E, FI分類-B01D 53/70 ZAB
2020年04月06日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法 FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/244, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2020年04月06日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法 FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/244, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2020年03月18日 特許庁 / 特許	マルチビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年03月10日 特許庁 / 特許	画像内のホールパターンの探索方法、パターン検査方法、及びパターン検査装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 7/00 610 C, FI分類-G06T 7/60 200 A
2020年02月20日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 K, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年02月18日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年02月18日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2020年02月18日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム位置合わせ方法及びマルチ荷電粒子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2020年02月17日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2020年02月07日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム照射装置及びマルチ電子ビーム照射方法 FI分類-H01J 37/05, FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/153 B
2020年02月05日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画用プログラム FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2020年01月06日 特許庁 / 特許	パターン検査装置の故障診断方法及びパターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A
2019年12月26日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J
2019年12月16日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム画像取得装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年11月25日 特許庁 / 特許	電子ビーム照射装置、描画装置及び検査装置 FI分類-G21K 5/04 F, FI分類-G21K 5/04 M, FI分類-H01J 37/06 A, FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年11月21日 特許庁 / 特許	電子銃、電子放出装置、及び電子銃の製造方法 FI分類-H01J 1/46, FI分類-H01J 3/02, FI分類-H01J 1/148, FI分類-H01J 9/18 B, FI分類-H01J 37/06 A, FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2019年11月12日 特許庁 / 特許	半導体装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年11月12日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G06T 7/00 610 C
2019年11月05日 特許庁 / 特許	ステージ機構 FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/20 F, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J
2019年10月28日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法及びプログラム FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2019年09月13日 特許庁 / 特許	アライメントマーク位置の検出方法及びアライメントマーク位置の検出装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B
2019年09月10日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム評価方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年08月21日 特許庁 / 特許	真空装置 FI分類-B25J 15/00 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 L
2019年08月20日 特許庁 / 特許	真空装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 L
2019年08月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置および真空用配管 FI分類-H01J 37/18, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 G
2019年08月20日 特許庁 / 特許	描画装置および偏向器 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年08月06日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2019年07月25日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M
2019年07月16日 特許庁 / 特許	多極子収差補正器の導通検査方法及び多極子収差補正器の導通検査装置 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/153 B
2019年07月11日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年07月10日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法及びマルチビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年07月08日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年07月02日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム画像取得装置およびマルチ荷電粒子ビーム画像取得方法 FI分類-G03F 1/86, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年06月28日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム画像取得方法 FI分類-G03F 1/86, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521
2019年06月18日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム照射方法、及びマルチ電子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/141 A
2019年06月14日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年06月14日 特許庁 / 特許	収差補正器及びマルチ電子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/153 B
2019年06月14日 特許庁 / 特許	マルチビーム検査装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2019年06月14日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 B
2019年05月14日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/09 Z, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/28 Z, FI分類-H01J 37/305 B
2019年05月09日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査方法及び電子ビーム検査装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-G01N 21/956 A
2019年05月08日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01L 21/30 541 M
2019年05月08日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01L 21/30 541 M
2019年04月24日 特許庁 / 特許	ステージ機構及びテーブル高さ位置の調整方法 FI分類-H02N 2/02, FI分類-G12B 5/00 A, FI分類-G01B 11/00 B, FI分類-G01B 21/00 C
2019年04月22日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム偏向器及びマルチビーム画像取得装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/21 B, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/153 B, FI分類-H01J 37/22 502 B, FI分類-H01J 37/22 502 J
2019年04月16日 特許庁 / 特許	荷電粒子発生装置 FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2019年04月11日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年04月09日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及びアパーチャ FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2019年04月09日 特許庁 / 特許	ステージ装置 FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 S
2019年03月06日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法 FI分類-G01N 23/203, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2019年03月01日 特許庁 / 特許	気相成長装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2019年02月27日 特許庁 / 特許	マルチビーム用アパーチャ基板セット及びマルチ荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年02月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2019年02月18日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検出器、マルチ電子ビーム検出器の製造方法、及びマルチ電子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/29, FI分類-G01N 23/225, FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B
2019年02月14日 特許庁 / 特許	描画装置および描画方法 FI分類-H01J 37/20 H, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 C, FI分類-H01L 21/30 541 U
2019年02月12日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 W
2019年02月08日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 F
2019年02月05日 特許庁 / 特許	ステージ装置及び荷電粒子ビーム処理装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 L
2019年01月31日 特許庁 / 特許	試料検査装置及び試料検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/25 Z, FI分類-G01N 21/956 A
2019年01月24日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 L
2019年01月22日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置、及びマルチ電子ビーム照射方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B
2019年01月18日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム照射装置、マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム照射方法 FI分類-H01J 37/04 B, FI分類-H01J 37/21 B, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/153 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年12月27日 特許庁 / 特許	観察または測定装置、及び、観察または測定方法 FI分類-H01J 37/20 D, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/68 N
2018年12月07日 特許庁 / 特許	連続成膜方法、連続成膜装置、サセプタユニット、及びサセプタユニットに用いられるスペーサセット FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/458, FI分類-H01L 21/205
2018年12月04日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検査装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01L 21/66 J
2018年12月04日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2018年11月29日 特許庁 / 特許	セトリング時間の取得方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年11月19日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521
2018年11月15日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム検査装置及びマルチ電子ビーム検査方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年11月15日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2018年11月09日 特許庁 / 特許	気相成長装置 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2018年10月30日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年10月25日 特許庁 / 特許	マルチビームの個別ビーム検出器、マルチビーム照射装置、及びマルチビームの個別ビーム検出方法 FI分類-H01J 37/04 A
2018年10月15日 特許庁 / 特許	描画データ生成方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年10月15日 特許庁 / 特許	描画データ生成プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画プログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年10月12日 特許庁 / 特許	電子銃及び電子線装置 FI分類-H01J 37/063, FI分類-H01J 37/065, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年10月11日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年10月01日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2018年10月01日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-F16F 15/02 A, FI分類-H01J 37/09 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 L
2018年09月28日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及び参照画像の作成方法 FI分類-G01N 21/956 A
2018年09月26日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2018年09月19日 特許庁 / 特許	半導体装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年09月18日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G03F 1/84
2018年09月03日 特許庁 / 特許	荷電粒子装置 FI分類-H01J 37/18, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 G
2018年08月31日 特許庁 / 特許	異常判定方法および描画装置 FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 L
2018年08月29日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年08月24日 特許庁 / 特許	気相成長装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2018年08月10日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 L
2018年08月08日 特許庁 / 特許	気相成長装置、及び、気相成長方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/36 A
2018年08月03日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年08月02日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年07月27日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01N 21/956 A
2018年07月18日 特許庁 / 特許	描画データ生成方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年07月06日 特許庁 / 特許	照射量補正量の取得方法、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2018年06月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム画像取得装置 FI分類-H01J 37/05, FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/29, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B
2018年06月21日 特許庁 / 特許	ドライ洗浄装置及び、そのドライ洗浄方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-H01L 21/304 645 Z
2018年06月20日 特許庁 / 特許	気相成長装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 G
2018年06月08日 特許庁 / 特許	データ処理方法、データ処理装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年06月05日 特許庁 / 特許	クリーニング装置 FI分類-B08B 5/00 A
2018年06月04日 特許庁 / 特許	真空装置 FI分類-H01J 37/18, FI分類-F04B 37/16 Z, FI分類-F04B 39/06 D, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-F04B 39/12 101 Z, FI分類-H01L 21/30 541 G
2018年06月01日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年05月31日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 H, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年05月28日 特許庁 / 特許	ケーブル固定具及びケーブル固定具を備える移動ステージ装置 FI分類-H02G 11/00, FI分類-F16B 2/20 B
2018年05月24日 特許庁 / 特許	マルチ電子ビーム画像取得装置及びマルチ電子ビーム光学系の位置決め方法 FI分類-H01J 37/141, FI分類-H01J 37/04 B, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 B
2018年05月24日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置、マルチ荷電粒子ビーム描画装置用ブランキングアパーチャアレイ、マルチ荷電粒子ビーム描画装置の運用方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年05月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム検査装置及びマルチ荷電粒子ビーム検査方法 FI分類-G03F 1/86, FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2018年05月22日 特許庁 / 特許	電子ビーム照射方法、電子ビーム照射装置、及びプログラム FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 D
2018年05月16日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2018年05月15日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年04月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年04月12日 特許庁 / 特許	パターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2018年03月29日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年03月29日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年03月29日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/20 H, FI分類-H01J 37/28 B
2018年03月28日 特許庁 / 特許	アパーチャ部材及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2018年03月08日 特許庁 / 特許	検査装置、検査方法、及びプログラム FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-G06T 1/00 305 C
2018年03月06日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査装置及び電子ビーム走査のスキャン順序取得方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/22 502 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年03月06日 特許庁 / 特許	パターン検査方法及びパターン検査装置 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01J 37/22 502 H
2018年03月01日 特許庁 / 特許	可変成形型荷電粒子ビーム照射装置及び可変成形型荷電粒子ビーム照射方法 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/153 B, FI分類-H01L 21/30 541 A, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2018年03月01日 特許庁 / 特許	気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C30B 25/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 29/201, FI分類-C30B 29/38 C, FI分類-H01L 29/80 H
2018年02月21日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム検査方法 FI分類-G01N 23/2251, FI分類-H01L 21/66 J
2018年02月08日 特許庁 / 特許	検査装置および検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2018年01月31日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2018年01月16日 特許庁 / 特許	成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C30B 25/14, FI分類-C30B 25/16, FI分類-H01L 21/205
2018年01月11日 特許庁 / 特許	マルチビーム検査装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310
2018年01月10日 特許庁 / 特許	アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年12月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年12月22日 特許庁 / 特許	マルチビーム画像取得装置及びマルチビーム画像取得方法 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/22 502 H
2017年12月21日 特許庁 / 特許	カソード FI分類-H01J 37/065, FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2017年12月15日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-C30B 29/36 A, FI分類-H01L 27/12 E, FI分類-H01L 21/265 F, FI分類-H01L 21/265 Q, FI分類-H01L 21/265 602 A
2017年12月14日 特許庁 / 特許	マルチビーム用アパーチャセット FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年12月14日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/21 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 F
2017年12月07日 特許庁 / 特許	カソード形成方法 FI分類-H01J 1/148, FI分類-H01J 1/304, FI分類-H01J 9/02 B, FI分類-H01J 9/04 C, FI分類-H01J 9/04 E
2017年11月10日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521
2017年11月02日 特許庁 / 特許	集塵装置 FI分類-B03C 3/45 A, FI分類-B03C 3/68 A, FI分類-B03C 3/68 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 Z
2017年11月02日 特許庁 / 特許	パターン検査方法およびパターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G06T 5/50, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 D
2017年10月27日 特許庁 / 特許	描画装置およびその制御方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 G, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年10月25日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年10月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 D
2017年10月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/28 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2017年09月29日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年09月28日 特許庁 / 特許	電子ビーム画像取得装置および電子ビーム画像取得方法 FI分類-G03F 1/86, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-G03F 7/20 521
2017年09月28日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G01N 21/956 A
2017年09月21日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビームの位置ずれ補正方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年09月21日 特許庁 / 特許	電子ビーム装置及び電子ビームの位置ずれ補正方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2017年09月20日 特許庁 / 特許	描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年09月13日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及びブランキング回路の故障診断方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 Z
2017年09月11日 特許庁 / 特許	半導体装置及びその製造方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 27/088, FI分類-C30B 29/06 A, FI分類-H01L 21/76 L, FI分類-H01L 29/80 H, FI分類-H01L 29/78 652 T, FI分類-H01L 29/78 656 B, FI分類-H01L 29/78 658 E, FI分類-H01L 27/088 331 A, FI分類-H01L 27/088 331 C
2017年09月11日 特許庁 / 特許	荷電粒子装置、荷電粒子描画装置および荷電粒子ビーム制御方法 FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2017年08月30日 特許庁 / 特許	気相成長方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-C30B 25/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 A, FI分類-C30B 29/36 A
2017年08月25日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G06T 7/32, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310, FI分類-G06T 1/00 305 C, FI分類-G06T 7/00 610 C
2017年08月10日 特許庁 / 特許	画像取得装置の光学系調整方法 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/147 B
2017年08月10日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年08月04日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年08月02日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 E
2017年07月28日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 N
2017年07月28日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 21/00, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2017年07月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 551, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年07月18日 特許庁 / 特許	パターン検査方法およびパターン検査装置 FI分類-G01B 11/24 F, FI分類-G01N 21/956 A
2017年07月11日 特許庁 / 特許	マルチビーム検査用アパーチャ、マルチビーム用ビーム検査装置、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年06月29日 特許庁 / 特許	導通接点針 FI分類-G03F 1/78, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 L, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年06月22日 特許庁 / 特許	半導体装置 FI分類-G21K 1/087 D, FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年06月19日 特許庁 / 特許	偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2017年06月14日 特許庁 / 特許	データ処理方法、荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画システム FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 C, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年06月07日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年06月06日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/88 Z, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2017年06月02日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年05月30日 特許庁 / 特許	描画装置および描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 E
2017年05月30日 特許庁 / 特許	気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 B
2017年05月25日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2017年05月23日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/12, FI分類-H01J 37/30 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/141 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 A, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 V
2017年04月21日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2017年04月19日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年04月06日 特許庁 / 特許	成長速度測定装置および成長速度検出方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/205, FI分類-G01N 21/27 B, FI分類-H01L 21/66 P
2017年03月30日 特許庁 / 特許	電子ビーム照射装置及び電子ビームのダイナミックフォーカス調整方法 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/21 B, FI分類-H01J 37/21 Z, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年03月15日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年03月09日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2017年03月08日 特許庁 / 特許	マップ作成方法、マスク検査方法およびマスク検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-G01B 11/24 M, FI分類-G01N 21/956 A
2017年02月24日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年02月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法およびマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2017年01月26日 特許庁 / 特許	ステージ機構の位置補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 U
2016年12月28日 特許庁 / 特許	マルチビーム用アパーチャセット及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月13日 特許庁 / 特許	ブランキングアパーチャアレイ装置および荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月08日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置およびマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月08日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 FI分類-G03F 1/20, FI分類-H01J 37/302, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月08日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光装置およびマルチ荷電粒子ビーム露光方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年12月06日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-H01J 37/302, FI分類-H01J 37/20 A, FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年12月06日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/317 A, FI分類-H01J 37/317 C, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年12月06日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/153 Z, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年11月16日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年11月16日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 Z
2016年11月09日 特許庁 / 特許	マルチビーム光学系の調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 V, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年11月07日 特許庁 / 特許	パターン検査方法及びパターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-G01N 21/956 A
2016年10月31日 特許庁 / 特許	成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年10月28日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年10月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G01B 9/02, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 L, FI分類-H01L 21/30 541 Q, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年10月26日 特許庁 / 特許	偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、偏光イメージ取得方法、及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2016年10月26日 特許庁 / 特許	検査装置および変位量検出方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01N 21/84 Z, FI分類-G01N 21/956 A
2016年10月26日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年10月25日 特許庁 / 特許	気相成長装置、環状ホルダ、及び、気相成長方法 FI分類-C23C 16/46, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 B, FI分類-H01L 21/68 N
2016年10月18日 特許庁 / 特許	マルチビーム焦点調整方法およびマルチビーム焦点測定方法 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/21 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01J 37/22 502 H, FI分類-H01L 21/30 541 F, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年10月13日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビームの分解能測定方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/244, FI分類-G01B 15/00 B, FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 N
2016年10月11日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年09月26日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/205
2016年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置、搬送方法およびサセプタ FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 G
2016年09月26日 特許庁 / 特許	気相成長速度測定装置、気相成長装置および成長速度検出方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/66 L
2016年09月09日 特許庁 / 特許	ブランキングアパーチャアレイ装置、荷電粒子ビーム描画装置、および電極テスト方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年09月05日 特許庁 / 特許	評価方法、補正方法、プログラム、及び電子線描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01J 37/22 502 H, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年09月01日 特許庁 / 特許	描画データの作成方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年08月29日 特許庁 / 特許	気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 29/80 H
2016年08月25日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 V, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年08月24日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年08月19日 特許庁 / 特許	マスク検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2016年07月29日 特許庁 / 特許	クリーニング装置およびクリーニング方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/304 645 Z
2016年07月29日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 M
2016年07月27日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム検査装置及び荷電粒子ビーム検査方法 FI分類-G21K 5/04 A, FI分類-G21K 5/04 S, FI分類-G01B 15/00 K, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310, FI分類-H01J 37/22 502 B, FI分類-H01J 37/22 502 H
2016年07月25日 特許庁 / 特許	電子ビーム検査装置及び電子ビーム検査方法 FI分類-H01J 37/147 B, FI分類-G01N 23/225 310, FI分類-H01J 37/22 502 B
2016年07月19日 特許庁 / 特許	パターン検査装置 FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2016年07月12日 特許庁 / 特許	電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年07月04日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年07月01日 特許庁 / 特許	合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法 FI分類-G02B 7/36, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03B 13/36, FI分類-G02B 7/28 M, FI分類-H04N 5/232 J, FI分類-G01N 21/956 A
2016年06月23日 特許庁 / 特許	伝熱板および描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年06月09日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びその調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年06月03日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年06月03日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G03F 1/86, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G06T 1/00 305, FI分類-G01N 23/225 310, FI分類-H01J 37/22 502 H
2016年06月03日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 502 V
2016年06月01日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G01N 21/93, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G01N 23/225 310
2016年05月31日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム照射装置 FI分類-H01J 37/147 C, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2016年04月28日 特許庁 / 特許	パターン検査方法及びパターン検査装置 FI分類-G06T 5/20, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 Z
2016年04月28日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年04月28日 特許庁 / 特許	パターン欠陥検査方法およびパターン欠陥検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/93, FI分類-G01N 21/956 A
2016年04月26日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム照射装置、マルチ荷電粒子ビームの照射方法及びマルチ荷電粒子ビームの調整方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 A, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年04月21日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム装置 FI分類-H01J 37/16, FI分類-H01L 21/30 541 L
2016年04月19日 特許庁 / 特許	シャワープレート、気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年04月18日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年04月15日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビームのブランキング装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年03月25日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年03月08日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-H01J 37/244, FI分類-H01J 37/28 B, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310, FI分類-H01J 37/22 502 H
2016年03月01日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2016年02月23日 特許庁 / 特許	診断方法、荷電粒子ビーム描画装置、及びプログラム FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年02月22日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 15/04 K, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G01N 23/225 310
2016年02月09日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2016年01月29日 特許庁 / 特許	ヒータおよびこれを用いた半導体製造装置 FI分類-H05B 3/22, FI分類-H05B 3/74, FI分類-C23C 16/46, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05B 3/14 C
2016年01月19日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム露光方法及びマルチ荷電粒子ビーム露光装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2016年01月18日 特許庁 / 特許	パターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/66 J
2016年01月18日 特許庁 / 特許	マスク検査方法およびマスク検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-G01N 21/956 A
2016年01月18日 特許庁 / 特許	マスク検査方法およびマスク検査装置 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/84
2016年01月08日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2016年01月05日 特許庁 / 特許	描画データ作成方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 J
2015年12月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年12月10日 特許庁 / 特許	データ処理方法、データ処理プログラム、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 J
2015年11月25日 特許庁 / 特許	アパーチャのアライメント方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 H, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年11月18日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビームの照射量補正用パラメータの取得方法、荷電粒子ビーム描画方法、及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年11月06日 特許庁 / 特許	偏光イメージ取得装置、パターン検査装置、及び偏光イメージ取得方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2015年11月05日 特許庁 / 特許	シャワープレート、気相成長装置および気相成長方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年11月05日 特許庁 / 特許	検査装置および検査方法 FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-G01B 11/24 F, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2015年11月02日 特許庁 / 特許	パターン検査装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 23/225 310
2015年10月28日 特許庁 / 特許	パターン検査方法及びパターン検査装置 FI分類-G01N 23/203, FI分類-G01N 23/225 310
2015年10月27日 特許庁 / 特許	温度測定マスクおよび温度測定方法 FI分類-G01K 1/02 R, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 U
2015年10月27日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/956 A
2015年10月20日 特許庁 / 特許	支持ケース及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年10月05日 特許庁 / 特許	検査装置および検査方法 FI分類-G01B 11/03 H, FI分類-G01N 21/956 A
2015年10月02日 特許庁 / 特許	位置ずれ検出装置、気相成長装置および位置ずれ検出方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-G01B 11/00 C
2015年10月01日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年09月14日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年09月01日 特許庁 / 特許	オゾン供給装置、オゾン供給方法、荷電粒子ビーム描画システム、および荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/16, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2015年08月28日 特許庁 / 特許	気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2015年08月28日 特許庁 / 特許	気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2015年08月27日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びマルチ荷電粒子ビームの不良ビーム遮蔽方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年08月27日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビームのブランキング装置の検査方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年08月11日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/20 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年07月31日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2015年07月31日 特許庁 / 特許	パターン検査装置及びパターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2015年07月28日 特許庁 / 特許	電子源のクリーニング方法及び電子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-H01J 37/06 Z, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/248 B, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W, FI分類-H01L 21/30 541 Z
2015年07月28日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム用のブランキング装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年07月16日 特許庁 / 特許	描画データの作成方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年07月16日 特許庁 / 特許	描画データ作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J
2015年07月10日 特許庁 / 特許	データ生成装置、エネルギービーム描画装置、及びエネルギービーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 506, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 551, FI分類-H01L 21/30 541 M
2015年07月06日 特許庁 / 特許	気相成長方法および気相成長装置 FI分類-C23C 16/46, FI分類-C23C 16/52, FI分類-C30B 25/16, FI分類-H01L 21/205
2015年06月15日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01L 21/30 541 M
2015年06月15日 特許庁 / 特許	検査方法およびテンプレート FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 D
2015年05月27日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年05月13日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置、及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年04月28日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年04月21日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年04月20日 特許庁 / 特許	ビームドリフト量の測定方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2015年04月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年04月17日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 S, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年04月10日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年04月10日 特許庁 / 特許	気相成長方法 FI分類-C23C 16/30, FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/38 D
2015年04月10日 特許庁 / 特許	気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J
2015年04月01日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521
2015年04月01日 特許庁 / 特許	検査方法、テンプレート基板およびフォーカスオフセット方法 FI分類-G01N 21/88 H, FI分類-G01N 21/956 A
2015年03月31日 特許庁 / 特許	撮像装置、検査装置および検査方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 21/00, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-G02B 27/28 Z, FI分類-G01N 21/956 A
2015年03月26日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年03月20日 特許庁 / 特許	曲率測定装置及び曲率測定方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 Z, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01B 11/255 Z
2015年03月20日 特許庁 / 特許	曲率測定装置及び曲率測定方法 FI分類-G01B 11/24 M, FI分類-H01L 21/66 P
2015年03月12日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年03月09日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 A
2015年02月25日 特許庁 / 特許	線幅誤差取得方法、線幅誤差取得装置および検査システム FI分類-G03F 1/70, FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-H01L 21/30 502 P
2015年01月21日 特許庁 / 特許	エネルギービーム描画装置の描画データ作成方法 FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2015年01月19日 特許庁 / 特許	パターン検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 V
2015年01月19日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム像の回転角測定方法、マルチ荷電粒子ビーム像の回転角調整方法、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 W
2015年01月19日 特許庁 / 特許	欠陥検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 V
2015年01月08日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2014年12月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年12月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M
2014年12月18日 特許庁 / 特許	気相成長装置および気相成長方法 FI分類-C30B 25/12, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J
2014年12月17日 特許庁 / 特許	気相成長装置及び気相成長方法 FI分類-C30B 25/14, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 29/38 D, FI分類-H01L 21/31 B
2014年12月15日 特許庁 / 特許	検査方法および検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2014年12月02日 特許庁 / 特許	マルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置、及びマルチビームのブランキングアパーチャアレイ装置の製造方法 FI分類-H01J 9/14 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年11月28日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年11月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2014年11月07日 特許庁 / 特許	気相成長方法および気相成長装置 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 16/44 Z, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/68 N
2014年11月07日 特許庁 / 特許	気相成長装置および気相成長方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C23C 16/52, FI分類-H01L 21/205
2014年11月07日 特許庁 / 特許	気相成長装置、貯留容器および気相成長方法 FI分類-C30B 25/14, FI分類-C23C 16/448, FI分類-H01L 21/205
2014年10月21日 特許庁 / 特許	描画データ検証方法、プログラム、及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年10月20日 特許庁 / 特許	放射温度計及び温度測定方法 FI分類-G01J 5/00 B, FI分類-G01J 5/00 101 C
2014年10月08日 特許庁 / 特許	基板カバー FI分類-H01L 21/30 541 L
2014年10月08日 特許庁 / 特許	描画データ生成方法、プログラム、マルチ荷電粒子ビーム描画装置、及びパターン検査装置 FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年10月03日 特許庁 / 特許	ブランキングアパーチャアレイ及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 A, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年10月01日 特許庁 / 特許	半導体製造装置 FI分類-C30B 25/14, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2014年09月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-C30B 25/16, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 B, FI分類-G01B 11/24 M, FI分類-H01L 21/66 P
2014年09月19日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビームのビーム位置測定方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 N, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年09月10日 特許庁 / 特許	試料高さ検出装置およびパターン検査システム FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 Z, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 526 A
2014年09月04日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/24 F, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2014年09月03日 特許庁 / 特許	電子銃装置 FI分類-H01J 37/065, FI分類-H01J 37/248, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2014年08月25日 特許庁 / 特許	異常検出方法及び電子線描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2014年08月25日 特許庁 / 特許	撮像装置、検査装置および検査方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G02B 27/28 Z, FI分類-G01N 21/956 A
2014年08月22日 特許庁 / 特許	アパーチャ部材製造方法 FI分類-H01J 37/09 A, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 541 B
2014年08月08日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2014年07月31日 特許庁 / 特許	気相成長装置および気相成長方法 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/205
2014年07月24日 特許庁 / 特許	成膜装置、サセプタ、及び成膜方法 FI分類-C23C 16/42, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/68 N
2014年07月16日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2014年07月15日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2014年06月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J
2014年06月26日 特許庁 / 特許	マスク検査装置、マスク評価方法及びマスク評価システム FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A
2014年06月06日 特許庁 / 特許	マスク検査装置及びマスク検査方法 FI分類-G01N 21/956 A
2014年06月06日 特許庁 / 特許	検査方法 FI分類-G01N 21/89 H, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A
2014年06月03日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画方法及びマルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 J, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年05月12日 特許庁 / 特許	気相成長方法及び気相成長装置 FI分類-C23C 16/46, FI分類-H01L 21/205
2014年04月30日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 M, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年04月16日 特許庁 / 特許	サセプタ処理方法及びサセプタ処理用プレート FI分類-C30B 25/12, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-C30B 29/36 A, FI分類-H01L 21/31 F
2014年04月16日 特許庁 / 特許	電子ビーム描画装置、及び電子ビームの収束半角調整方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 B
2014年04月15日 特許庁 / 特許	マルチビーム描画方法およびマルチビーム描画装置 FI分類-H01J 37/073, FI分類-H01J 37/04 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 T, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年03月27日 特許庁 / 特許	成膜装置、成膜方法及びリフレクタユニット FI分類-C23C 16/46, FI分類-H01L 21/205
2014年03月26日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 J
2014年03月20日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの照射量変調係数の取得方法 FI分類-H01L 21/30 541 E, FI分類-H01L 21/30 541 Q
2014年03月19日 特許庁 / 特許	荷電粒子ビームのドリフト補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 E
2014年03月18日 特許庁 / 特許	偏向器用クリーニング装置及び偏向器のクリーニング方法 FI分類-B08B 6/00, FI分類-B08B 5/02 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 541 B, FI分類-H01L 21/30 541 Z
2014年03月04日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2014年02月13日 特許庁 / 特許	セトリング時間の取得方法 FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D
2014年02月03日 特許庁 / 特許	照明装置及びパターン検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-F21Y 101:02, FI分類-G01B 11/24 F, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-F21S 2/00 340, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 V
2014年01月30日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-H01L 21/30 502 V
2014年01月23日 特許庁 / 特許	焦点位置調整方法および検査方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G02B 7/28 H, FI分類-G03B 15/00 T
2014年01月22日 特許庁 / 特許	マルチ荷電粒子ビーム描画装置及びマルチ荷電粒子ビーム描画方法 FI分類-H01J 37/305 B, FI分類-H01L 21/30 541 D, FI分類-H01L 21/30 541 W
2014年01月16日 特許庁 / 特許	露光用マスクの製造方法、露光用マスクの製造システム、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/70, FI分類-H01L 21/30 531 M, FI分類-H01L 21/30 541 J

株式会社ニューフレアテクノロジーの商標情報(4件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2017年02月02日 特許庁 / 商標	MBM 07類
2016年12月07日 特許庁 / 商標	§NUFLARE 09類
2016年06月17日 特許庁 / 商標	§NUFLARE∞NFTbook 09類
2014年09月29日 特許庁 / 商標	NuFlare, Beyond The Leading Edge 07類, 37類, 41類, 42類

株式会社ニューフレアテクノロジーの意匠情報(28件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年12月01日 特許庁 / 意匠	半導体ウェハ及びサセプタ加熱用ヒータ 意匠新分類-K0790
2023年12月01日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタカバーベース 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタユニット 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2023年01月11日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	半導体ウェハ及びサセプタ加熱用ヒータ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタ 意匠新分類-K0790
2022年10月20日 特許庁 / 意匠	サセプタ用カバーベース 意匠新分類-K0790
2022年02月18日 特許庁 / 意匠	半導体製造装置用トラップの部品 意匠新分類-K0790
2021年10月22日 特許庁 / 意匠	サセプタリング 意匠新分類-K0790
2021年10月22日 特許庁 / 意匠	サセプタカバー 意匠新分類-K0790
2021年08月18日 特許庁 / 意匠	リフレクタ 意匠新分類-K0790
2021年05月25日 特許庁 / 意匠	トッププレート 意匠新分類-K0790
2021年03月12日 特許庁 / 意匠	リフレクタ 意匠新分類-K0790
2020年12月10日 特許庁 / 意匠	トッププレート 意匠新分類-K0790
2020年12月10日 特許庁 / 意匠	カバーリング 意匠新分類-K0790
2015年03月16日 特許庁 / 意匠	加熱器 意匠新分類-K0790

株式会社ニューフレアテクノロジーの職場情報

項目	データ
事業概要	半導体製造装置製造販売
企業規模	711人 男性 581人 / 女性 42人
平均勤続年数 範囲 対象とする労働者すべて	男性 10.0年 / 女性 8.3年

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