法人番号:6010401082746
JSR株式会社
情報更新日:2025年01月10日
JSR株式会社とは
JSR株式会社（ジェイエスアール）は、法人番号:6010401082746で東京都港区東新橋1丁目9番2号に所在する法人として東京法務局港出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役CEO兼社長エリックジョンソン。資本金は233億7,000万円。従業員数は2,155人。登録情報として、調達情報が3件、表彰情報が10件、届出情報が3件、特許情報が729件、商標情報が48件、職場情報が1件が登録されています。なお、2024年12月16日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2025年01月10日です。
インボイス番号:T6010401082746については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。三田労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
JSR株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | JSR株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ジェイエスアール |
| 法人番号 | 6010401082746 |
| 会社法人等番号 | 0104-01-082746 |
| 登記所 | 東京法務局港出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T6010401082746 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒105-0021 ※地方自治体コードは 13103 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,323,583件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 港区 ※港区の法人数は 155,848件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 東新橋1丁目9番2号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都港区東新橋1丁目9番2号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトミナトクヒガシシンバシ1チョウメ |
| 代表者 | 代表取締役CEO兼社長 エリック ジョンソン |
| 資本金 | 233億7,000万円 (2024年06月29日現在) |
| 従業員数 | 2,155人 (2024年09月16日現在) |
| ホームページHP | https://www.jsr.co.jp/sustainability/society/diversity.shtml |
| 更新年月日更新日 | 2025年01月10日 |
| 変更年月日変更日 | 2024年12月16日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 三田労働基準監督署 〒108-0014 東京都港区芝5-35-2安全衛生総合会館3階 |
JSR株式会社の場所
JSR株式会社の補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | ジェイエスアールカブシキガイシャ |
| 企業名 英語 | JSR Corporation |
| 上場・非上場 | 上場 |
| 資本金 | 233億7,000万円 |
| 業種 | 化学 |
| 証券コード | 41850 |
JSR株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2024年12月16日 | 【登記閉鎖】 令和6年12月1日東京都港区東新橋一丁目9番2号JICC‐02株式会社(1010401175166)に合併し解散 |
| 2021年04月12日 | 【吸収合併】 令和3年4月1日三重県四日市市川尻町100番地JSRエンジニアリング株式会社(1190001015829)を合併 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「JSR株式会社」で、「東京都港区東新橋1丁目9番2号」に新規登録されました。 |
JSR株式会社の登記記録の閉鎖等状況
| 登記記録の閉鎖等状況 | |
|---|---|
| 合併による解散等 | 設立登記法人について、合併による解散等により登記記録が閉鎖された。 |
JSR株式会社と同じ名称の法人
| 件数 | リンク |
|---|---|
| 4件 | ※「JSR株式会社」と同じ名称の法人を探す |
JSR株式会社の法人活動情報
JSR株式会社の調達情報(3件)
| 期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
|---|---|
2021年07月29日 | NEDO先導研究プログラムマテリアル革新技術先導研究プログラムデータ駆動科学によるスマートスケーラブルケミストリーの確立 円 |
2018年09月21日 | 植物等の生物を用いた高機能品生産技術の開発スマートセル関連技術の社会実装推進に向けて解決すべき新規課題の検討植物原料由来イソプレン及び高機能イソプレン誘導体製造技術の社会実装に向けた課題抽出 0円 |
2017年10月25日 | サイバーセキュリティリスク分析作業 42,487,740円 |
JSR株式会社の表彰情報(10件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2024年09月16日 | なでしこ銘柄-認定 2016 |
2024年09月16日 | なでしこ銘柄-認定 2015 |
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「プラチナくるみん」特例認定 2023 |
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2023 |
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2012 |
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2007 |
2024年09月16日 | えるぼし-認定 |
2017年12月05日 | ポジティブ・アクション |
2017年12月04日 | 女性の活躍推進企業 |
2017年12月04日 | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 |
JSR株式会社の届出情報(3件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:JSR株式会社 四日市工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:JSR株式会社 鹿島工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣) |
2001年09月20日 | アルコール事業 - 許可使用者 |
JSR株式会社の特許情報(729件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年08月15日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び研磨方法 FI分類-H01L 21/304 622 D |
2023年06月02日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 FI分類-G03F 7/075, FI分類-H01L 21/312 D, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 511 |
2023年04月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G09F 9/30 348 A, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2022年10月19日 特許庁 / 特許 | 半導体処理用組成物及び処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2022年10月19日 特許庁 / 特許 | 半導体処理用組成物及び処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2021年08月27日 特許庁 / 特許 | 三次元構造体 FI分類-E04B 1/28, FI分類-A43B 13/18, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 80/00, FI分類-B29C 64/124, FI分類-B29C 64/153, FI分類-E04B 1/19 A, FI分類-A43B 13/04 A, FI分類-A43B 17/00 A, FI分類-E04H 9/02 301 |
2021年05月25日 特許庁 / 特許 | 砥粒の製造方法、化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-B82B 1/00 ZNM, FI分類-C09K 3/14 550 C, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2021年05月21日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 C, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2021年04月22日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、硬化膜及びその製造方法、半導体素子並びに表示素子 FI分類-C08K 5/06, FI分類-C08F 12/02, FI分類-C08F 20/12, FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2021年02月04日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子の製造方法、感放射線性組成物、層間絶縁膜及び液晶表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2021年02月03日 特許庁 / 特許 | ディスプレイの製造方法及びディスプレイ FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G09F 9/30 349 A |
2020年12月21日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法、感放射線性組成物及び包摂化合物 FI分類-C08F 12/28, FI分類-C08F 20/58, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/038 501 |
2020年10月12日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C01B 33/18 C, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2020年10月12日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C01B 33/18 C, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2020年10月12日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B01J 23/30 Z, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C01B 33/18 C, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2020年09月30日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物、積層体及び電子部品 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08G 79/02, FI分類-C08L 71/10, FI分類-C08L 85/02, FI分類-B32B 27/00 B |
2020年09月28日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及び重合体 FI分類-C08G 73/02, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G09F 9/30 380, FI分類-C08G 18/83 010, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G06F 3/041 410, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/044 120, FI分類-G09F 9/30 348 A |
2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 組成物、膜、膜形成方法、パターン形成方法、有機下層膜反転パターン形成方法及び組成物の製造方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年09月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 317/30, FI分類-C07D 317/70, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年09月09日 特許庁 / 特許 | レジスト用重合体の製造方法 FI分類-C08F 8/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/36, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年08月31日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08F 12/26, FI分類-C08F 20/34, FI分類-C08F 22/40, FI分類-C08F 32/08, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2020年08月25日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/26, FI分類-C07C 271/16, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 309/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 69/734 CSPZ |
2020年08月21日 特許庁 / 特許 | ディスプレイ FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G09F 9/30 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-H01L 29/78 612 Z, FI分類-H01L 29/78 626 A |
2020年08月03日 特許庁 / 特許 | マイクロ流路を有するデバイス、液体搬送システムおよび粒子の製造方法 FI分類-B01F 5/06, FI分類-B81B 1/00, FI分類-C08F 2/01, FI分類-C08G 65/18, FI分類-B01F 3/08 A, FI分類-B01J 19/12 H, FI分類-C08J 9/16 CEZ, FI分類-C08J 9/26 CER, FI分類-B01J 19/00 321 |
2020年07月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 65/05, FI分類-C08F 20/16, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07D 317/44, FI分類-C07D 333/52, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/17 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年07月13日 特許庁 / 特許 | 組成物、ケイ素含有膜、ケイ素含有膜の形成方法及び半導体基板の処理方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/312 C |
2020年06月15日 特許庁 / 特許 | 組成物、銀焼結物の形成方法、接合方法、物品及び物品の製造方法 FI分類-B22F 1/00 K, FI分類-B22F 7/08 C, FI分類-B22F 9/00 B, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01L 21/52 E |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及び重合体 FI分類-C08G 59/14, FI分類-G03F 7/027, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C08G 8/28 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G09F 9/00 302, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G09F 9/00 366 A |
2020年06月03日 特許庁 / 特許 | 組成物、基板の製造方法及び重合体 FI分類-C08C 19/10, FI分類-C08L 101/02 |
2020年05月27日 特許庁 / 特許 | マクロファージイメージング剤 FI分類-A61K 49/08 |
2020年05月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 |
2020年04月20日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年04月13日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年04月09日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物の処理方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/04, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年04月09日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2020年03月27日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C08F 38/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、メッキ造形物の製造方法、および錫銀メッキ造形物の製造方法 FI分類-C25D 5/02 E, FI分類-C25D 7/00 J, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年03月04日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-C08G 65/40, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601 |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2020年02月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2020年02月19日 特許庁 / 特許 | 高周波回路用積層体、フレキシブルプリント基板、及び積層体捲回体 FI分類-B32B 7/025, FI分類-C08G 65/40, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 1/03 630 H |
2020年02月13日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物及び半導体基板の製造方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2020年02月13日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-C07D 251/34 G, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-C07D 487/04 136 |
2020年02月06日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置及びデータ処理システム FI分類-G16C 60/00 |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | 重合体組成物、硬化膜及び有機EL素子 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C08F 267/10, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z |
2020年01月08日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、硬化膜及び位相差フィルム FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C09D 201/06, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 101/06, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 導電性塗工膜形成用組成物及び基板の製造方法 FI分類-C09D 1/00, FI分類-C09D 5/24, FI分類-C09D 7/20 |
2019年12月20日 特許庁 / 特許 | アフィニティ担体、クロマトグラフィーカラム、及び抗体又はその断片の単離方法 FI分類-C07K 5/06, FI分類-C07K 5/08, FI分類-C07K 5/10, FI分類-C07K 7/06, FI分類-C12M 1/00, FI分類-C07K 16/00, FI分類-C07K 1/22 ZNA |
2019年12月19日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年12月11日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 W |
2019年12月10日 特許庁 / 特許 | 表示装置の製造方法、チップ部品の移設方法、および感放射線性組成物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/30, FI分類-G09F 9/33, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08F 20/38, FI分類-H01L 33/00 H, FI分類-H01L 33/00 L, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 360, FI分類-H01L 21/60 311 S |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | メッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年12月06日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年12月02日 特許庁 / 特許 | 重合体、重合体組成物及び発光素子 FI分類-H05B 33/14 B, FI分類-H05B 33/22 B, FI分類-H05B 33/22 D, FI分類-C09K 11/06 680 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2019年11月13日 特許庁 / 特許 | 判別装置、細胞塊の判別方法、及びコンピュータプログラム FI分類-C12M 1/34, FI分類-C12N 5/071, FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2019年11月08日 特許庁 / 特許 | 細胞凝集塊分散装置および細胞凝集塊分散方法 FI分類-C12M 1/33 |
2019年11月06日 特許庁 / 特許 | 有機硫黄化合物の製造方法、担体、当該担体の製造方法、リガンド固定担体、クロマトグラフィーカラム及び標的物質の検出又は単離方法 FI分類-C07K 1/22, FI分類-B01J 20/30, FI分類-C08G 75/04, FI分類-B01J 20/26 H, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-B01J 20/281 X, FI分類-B01J 20/285 Z |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、樹脂層および光学フィルター FI分類-C08K 5/55, FI分類-G02B 5/20, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C08K 5/3417, FI分類-C08L 101/00 |
2019年11月01日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年10月17日 特許庁 / 特許 | 半導体処理用組成物及び処理方法 FI分類-C11D 1/88, FI分類-C11D 3/20, FI分類-C11D 3/22, FI分類-C11D 3/37, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 C, FI分類-H01L 21/304 622 Q |
2019年10月10日 特許庁 / 特許 | 脳オルガノイドの製造方法 FI分類-C12Q 1/06, FI分類-A61K 35/30, FI分類-A61L 27/40, FI分類-A61P 25/00, FI分類-C12N 5/079, FI分類-C12N 1/00 G, FI分類-A61L 27/36 100, FI分類-A61L 27/36 300, FI分類-A61L 27/38 100, FI分類-A61L 27/38 200, FI分類-A61L 27/38 300, FI分類-A61P 43/00 105 |
2019年10月10日 特許庁 / 特許 | 組成物及びその利用 FI分類-C08K 5/21, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/205, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G02F 1/13 505, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年10月10日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08K 5/06, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08K 5/1535, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、システム、物体の製造方法、情報処理方法、及びプログラム FI分類-B29C 64/10, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 50/00, FI分類-B29C 64/386, FI分類-G06F 17/50 601 D, FI分類-G06F 17/50 604 H, FI分類-G06F 17/50 608 A, FI分類-G06F 17/50 622 A |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 装具 FI分類-A43D 1/02, FI分類-A61F 2/60, FI分類-A61F 2/76, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 50/00, FI分類-B33Y 80/00, FI分類-A61F 5/01 N, FI分類-A43B 13/38 A, FI分類-A43B 17/00 A |
2019年10月07日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及びパターン化された基板 FI分類-C08F 8/34, FI分類-C08F 293/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年10月03日 特許庁 / 特許 | 光学センサー用組成物 FI分類-C08K 5/56, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C07D 209/44, FI分類-C08L 101/02, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、組成物及び重合体 FI分類-C23C 18/18 |
2019年09月25日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用下層膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年09月24日 特許庁 / 特許 | 骨再生用組成物、骨再生用組成物キット、骨再生用部材および骨再生方法 FI分類-A61K 9/06, FI分類-C12N 9/08, FI分類-A61K 38/18, FI分類-A61K 38/44, FI分類-A61K 47/08, FI分類-A61K 47/42, FI分類-A61L 27/20, FI分類-A61L 27/22, FI分類-A61L 27/40, FI分類-A61L 27/52, FI分類-A61P 19/08, FI分類-C07K 14/51, FI分類-A61K 31/728, FI分類-A61P 43/00 105, FI分類-A61P 43/00 121 |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 円偏光板の製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G06F 3/041 490, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/041 660, FI分類-G02F 1/1335 510 |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 光学部材及びカメラモジュール FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-G03B 17/17, FI分類-G02B 5/04 A, FI分類-G02B 5/04 C, FI分類-G02B 5/04 G |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及びその製造方法並びに化合物 FI分類-C08F 236/20, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及び組成物 FI分類-B05D 1/38, FI分類-C08F 8/30, FI分類-C08F 8/40, FI分類-C08F 8/42, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05D 7/24 303 A |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 502 |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | クロマトグラフィー担体 FI分類-C07K 1/16, FI分類-C07K 1/18, FI分類-C07K 1/20, FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/22 D, FI分類-G01N 30/02 B, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-B01J 20/281 R, FI分類-B01J 20/281 X |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤及びその製造方法、液晶配向膜並びに液晶素子 FI分類-C08F 22/00, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 101/06, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター、その製造方法およびその用途 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年08月23日 特許庁 / 特許 | イムノグロブリン結合タンパク質、及びそれを用いたアフィニティー担体 FI分類-C07K 1/22, FI分類-C12N 1/15, FI分類-C12N 1/19, FI分類-C12N 1/21, FI分類-C12N 5/10, FI分類-C07K 14/31, FI分類-C12N 5/0786, FI分類-C12N 15/63 Z, FI分類-C12N 15/31 ZNA |
2019年08月20日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび環境光センサー FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/02 B, FI分類-G02B 5/02 C, FI分類-H01L 31/02 D |
2019年08月01日 特許庁 / 特許 | 感光性着色組成物、カラーフィルタ及び表示素子 FI分類-C09B 47/18, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09B 67/22 F, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G09F 9/30 349 A |
2019年07月25日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターン形成方法並びに化合物及びその製造方法 FI分類-C08G 65/34, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年07月24日 特許庁 / 特許 | 洗浄用組成物及びその製造方法 FI分類-C11D 3/34, FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、システム、情報処理方法及びプログラム FI分類-A61F 5/01 N |
2019年07月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理システム及び自己組織化材料 FI分類-C23C 16/04, FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-H01L 21/316 X |
2019年07月01日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、メッキ造形物の製造方法、および半導体装置 FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2019年06月20日 特許庁 / 特許 | 変異VHH抗体を用いたアフィニティー担体 FI分類-C07K 16/00, FI分類-C07K 17/00, FI分類-C07K 1/22 ZNA |
2019年06月17日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C07D 309/10, FI分類-C07D 317/40, FI分類-C07D 319/20, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C08F 220/36, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/33 330, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年06月14日 特許庁 / 特許 | メッキ造形物の製造方法、回路基板、および表面処理剤、ならびに表面処理剤キット FI分類-G03F 7/09, FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 563 |
2019年06月14日 特許庁 / 特許 | 感光樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、メッキ造形物の製造方法および半導体装置 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/92 604 B |
2019年06月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/58, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年06月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08K 5/549, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G01J 1/02 H, FI分類-G01J 1/04 B |
2019年05月28日 特許庁 / 特許 | 固体撮像素子 FI分類-G02B 1/111, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年05月17日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、パターンを有する樹脂膜の製造方法、パターンを有する樹脂膜、および半導体回路基板 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2019年05月07日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、表示装置用絶縁膜、表示装置、表示装置用絶縁膜の形成方法、及びシルセスキオキサン FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 290/14, FI分類-C08G 77/392, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G09F 9/00 366 A |
2019年04月24日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-G03F 7/18, FI分類-C07D 317/22, FI分類-C07D 317/30, FI分類-C07D 317/70, FI分類-C07D 317/72, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/33 330, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年04月15日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及び感放射線性組成物 FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501 |
2019年04月10日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 走査アンテナ及びその関連技術 FI分類-H01Q 3/34, FI分類-H01Q 3/44, FI分類-H01P 11/00, FI分類-H01Q 13/22, FI分類-H01Q 21/06, FI分類-G02F 1/13 505, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 重合体の製造方法 FI分類-C08F 2/38 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 表示装置及びその作製方法、並びに液晶配向剤及び硬化性組成物 FI分類-G02B 5/20, FI分類-G09F 9/35, FI分類-C08F 12/04, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C09K 11/61, FI分類-C09K 11/64, FI分類-G02F 1/1339, FI分類-C09K 11/08 J, FI分類-G02F 1/13357, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G09F 9/30 338, FI分類-G02F 1/1335 505, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G09F 9/30 349 A |
2019年03月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2019年03月14日 特許庁 / 特許 | 電極材料製造装置及び電極材料製造方法 FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01G 13/00 381 |
2019年03月12日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年03月12日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び重合体 FI分類-C08F 222/38, FI分類-C08F 222/40, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年02月28日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H04N 5/225 400, FI分類-H04N 5/225 700 |
2019年02月28日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター用樹脂組成物、光学フィルター、カメラモジュールおよび電子機器 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26 |
2019年02月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びその製造方法並びにレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 8/12, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2019年02月27日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08K 5/18, FI分類-C08K 5/29, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08K 5/3432, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-H05K 3/26 F, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 M, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、重合体及び化合物 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08F 22/40, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物及び化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 621 D, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2019年02月25日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 27/146 D |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年02月18日 特許庁 / 特許 | 基材表面の修飾方法、組成物及び重合体 FI分類-C09D 7/63, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-C09D 125/04, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C23C 28/00 E, FI分類-B05D 7/24 302 F, FI分類-B05D 7/24 302 R |
2019年01月30日 特許庁 / 特許 | 配線部材 FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-H05K 3/28 D, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/041 640, FI分類-G09F 9/00 304 Z, FI分類-G09F 9/00 346 Z |
2019年01月25日 特許庁 / 特許 | 半導体リソグラフィープロセス用膜形成組成物、ケイ素含有膜及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用水系分散体及び化学機械研磨方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2019年01月09日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-H01L 21/312 A |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C07D 209/48, FI分類-C07D 405/14, FI分類-C07D 471/06, FI分類-C07D 251/52 A, FI分類-C07D 251/70 A, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503 |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、及びマイクロレンズの形成方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501 |
2018年12月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08G 73/02, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2018年12月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08G 69/26, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2018年12月17日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物、積層体、光学フィルターおよび化合物 FI分類-G02B 1/14, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C08F 299/06, FI分類-B32B 27/30 A |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | 外科手術用デバイス、情報処理装置、システム、情報処理方法、およびプログラム FI分類-A61B 17/80 |
2018年12月05日 特許庁 / 特許 | 親水化色素含有粒子、色素含有粒子、親水化色素含有粒子の製造方法および生体内を観察する方法 FI分類-A61K 9/16, FI分類-A61K 47/34, FI分類-A61K 49/00, FI分類-B82Y 20/00, FI分類-B82Y 40/00 |
2018年11月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年11月13日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、レジストパターンの形成方法、およびメッキ造形物の製造方法 FI分類-C08F 2/38, FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物 FI分類-C07D 251/24, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573 |
2018年11月06日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法および感放射線性組成物 FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/004 501 |
2018年11月01日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、情報処理システム、インソールの製造システム、インソールの製造方法、情報処理方法及びプログラム FI分類-A43D 1/02, FI分類-A61B 17/54, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 30/00, FI分類-B33Y 80/00, FI分類-A43B 17/00 Z, FI分類-G06F 17/50 601 D, FI分類-G06F 17/50 608 A, FI分類-G06F 17/50 610 A, FI分類-G06F 17/50 620 A, FI分類-G06F 17/50 624 A, FI分類-G06F 17/50 626 G, FI分類-G06F 17/50 680 F |
2018年10月18日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G01J 1/02 S, FI分類-G01J 1/04 B, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | 質量分析用試料を調製するための材料 FI分類-C07K 14/47, FI分類-G01N 27/62 F |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08F 20/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/20, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2018年10月09日 特許庁 / 特許 | 液晶素子の製造方法 FI分類-G02F 1/1343, FI分類-G02F 1/1335 505, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年10月04日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年10月03日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年10月02日 特許庁 / 特許 | 電極の製造方法及び蓄電デバイスの製造方法 FI分類-H01M 4/80, FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/62 Z |
2018年09月27日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、光学フィルム及び液晶素子 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年09月25日 特許庁 / 特許 | イムノグロブリン結合タンパク質、及びそれを用いたアフィニティー担体 FI分類-C07K 1/22, FI分類-C12N 1/15, FI分類-C12N 1/19, FI分類-C12N 1/21, FI分類-C12N 5/10, FI分類-C07K 17/00, FI分類-C12N 15/13, FI分類-C12N 15/63 Z, FI分類-C12P 21/02 C, FI分類-C07K 14/195 ZNA |
2018年09月25日 特許庁 / 特許 | イムノグロブリン結合タンパク質、及びそれを用いたアフィニティー担体 FI分類-C07K 1/22, FI分類-C12N 1/15, FI分類-C12N 1/19, FI分類-C12N 1/21, FI分類-C12N 5/10, FI分類-C12N 15/31, FI分類-C12N 15/63 Z, FI分類-C12P 21/02 C, FI分類-C07K 14/195 ZNA |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用水系分散体及びその製造方法、並びに化学機械研磨方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2018年09月10日 特許庁 / 特許 | 高周波回路用積層体及びフレキシブルプリント基板 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/10, FI分類-B32B 15/08 J, FI分類-C08L 79/04 Z, FI分類-B32B 7/02 104, FI分類-H05K 1/03 670 A |
2018年09月10日 特許庁 / 特許 | 積層体捲回体 FI分類-B65H 75/10, FI分類-B32B 15/08 J, FI分類-H05K 1/03 630 H, FI分類-H05K 1/03 670 A |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | 組成物、膜、膜の形成方法及びパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C08G 83/00, FI分類-C09D 201/02, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 563 |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用アルミナ砥粒及びその製造方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用水系分散体 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2018年08月29日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター、固体撮像装置、カメラモジュールおよび生体認証装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-G03B 17/02, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年08月23日 特許庁 / 特許 | クロマトグラフィー用担体、リガンド固定担体、クロマトグラフィーカラム、標的物質の精製方法、及びクロマトグラフィー用担体の製造方法 FI分類-B01D 15/38, FI分類-B01J 20/285, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-B01J 20/281 G, FI分類-B01J 20/281 R, FI分類-B01J 20/281 X |
2018年08月21日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、表示素子及び硬化膜の形成方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08G 59/20, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 290/00, FI分類-C08F 299/02, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G09F 9/00 302, FI分類-G03F 7/004 507, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年08月16日 特許庁 / 特許 | 化合物、感光性樹脂組成物、硬化性組成物、カラーフィルタの画素形成方法及びカラーフィルタ FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08F 20/36, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 501 |
2018年08月07日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用水系分散体 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2018年08月03日 特許庁 / 特許 | 下層膜形成用組成物、自己組織化膜の下層膜及びその形成方法並びに自己組織化リソグラフィープロセス FI分類-C08L 53/00, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物およびその用途 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/12, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511 |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物およびその用途 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G09F 9/30 348, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物およびその用途 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/06, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G03F 7/075 511 |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | 組成物及び基板表面の修飾方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08L 25/10, FI分類-B05D 7/14 Z, FI分類-B05D 7/24 302 J |
2018年07月31日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及び処理液 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 502, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 赤外線透過膜形成用組成物、赤外線透過膜の形成方法、表示装置用保護板、及び表示装置 FI分類-C08K 5/00, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09B 11/12, FI分類-C09B 23/06, FI分類-C09B 23/08, FI分類-C09B 23/10, FI分類-C09B 47/12, FI分類-G02B 1/111, FI分類-G02B 1/115, FI分類-G03F 7/032, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09B 57/00 X, FI分類-C09B 57/02 H, FI分類-C09B 67/22 F, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 342, FI分類-G09F 9/30 309, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/032 501 |
2018年07月24日 特許庁 / 特許 | 近赤外線カットフィルターおよび該近赤外線カットフィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-B32B 7/023, FI分類-G02B 1/115, FI分類-G03B 11/00, FI分類-G03B 17/02, FI分類-B32B 27/18 A, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年07月23日 特許庁 / 特許 | 光電変換素子および接着剤 FI分類-G02B 5/22, FI分類-H04N 5/369, FI分類-H04N 9/07 A, FI分類-H04N 9/07 D, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年07月20日 特許庁 / 特許 | 極端紫外線又は電子線リソグラフィー用金属含有膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-C07F 19/00, FI分類-C08G 79/00, FI分類-C07F 7/00 A, FI分類-C07F 7/28 B, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 574 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 負極活物質のプレドープ方法、並びに電気デバイス用電極および電気デバイスの製造方法 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/485, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 4/38 Z |
2018年07月05日 特許庁 / 特許 | 発光装置及び有機EL装置、並びにこれらの製造方法 FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G03F 7/027 515, FI分類-G06F 3/041 400 |
2018年07月04日 特許庁 / 特許 | レジストパターンの形成方法及び感放射線性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | 重合体、樹脂組成物、樹脂膜、パターン化樹脂膜の製造方法、および電子部品 FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08L 101/06, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 521 |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 半導体処理用組成物および処理方法 FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年06月20日 特許庁 / 特許 | カバー膜形成方法 FI分類-H01L 21/312 A |
2018年06月14日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及びEUVリソグラフィー用ケイ素含有膜形成組成物 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521 |
2018年05月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | 骨再生用組成物、骨再生用組成物キット、骨再生用部材および骨再生方法 FI分類-A61K 36/31, FI分類-A61K 38/18, FI分類-A61K 38/44, FI分類-A61K 47/04, FI分類-A61K 47/36, FI分類-A61L 27/20, FI分類-A61L 27/22, FI分類-A61L 27/44, FI分類-A61L 27/52, FI分類-A61L 27/54 |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | 環境光センサー用光学フィルター FI分類-G02B 5/22, FI分類-G01J 1/02 S, FI分類-G01J 1/04 B, FI分類-H01L 31/02 D, FI分類-C09K 3/00 105 |
2018年05月11日 特許庁 / 特許 | 組成物、液晶配向膜、位相差板、偏光板、配向膜の製造方法及び液晶素子 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13 500, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年04月09日 特許庁 / 特許 | 非水電解質二次電池 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/134, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-H01M 10/0568 |
2018年04月06日 特許庁 / 特許 | 半導体基板洗浄用組成物 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/26, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C08L 61/06, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年04月05日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター及び光学フィルターを用いた固体撮像装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年03月28日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物およびその用途 FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08L 33/14, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 FI分類-C08K 5/42, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 317/70, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法 FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07D 317/70, FI分類-C07D 317/72, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | EUVリソグラフィー用ケイ素含有膜形成組成物、EUVリソグラフィー用ケイ素含有膜及びパターン形成方法 FI分類-C09D 7/48, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物 FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/02, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/004 501 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物 FI分類-G03F 7/027, FI分類-G03F 7/033 |
2018年03月14日 特許庁 / 特許 | 半導体表面処理用組成物および半導体表面処理方法 FI分類-C08K 5/09, FI分類-C08K 5/17, FI分類-C23G 1/06, FI分類-C23G 1/18, FI分類-C08L 33/14, FI分類-H01L 21/304 622 C, FI分類-H01L 21/304 622 X, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年03月13日 特許庁 / 特許 | 赤外線吸収組成物 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09B 67/22 F, FI分類-C09K 3/00 105 |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 固体撮像素子用組成物及び固体撮像素子用赤外線遮蔽膜の形成方法 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09B 47/12, FI分類-C09B 47/18, FI分類-C09B 57/00 X, FI分類-H01L 27/146 D |
2018年03月09日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C07C 13/547, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年03月06日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子、受光素子、発光素子及び化合物 FI分類-C09B 62/465, FI分類-C09B 62/467, FI分類-C09B 62/483, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C09B 69/10 CSPB |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年02月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、及び酸拡散制御剤 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 負極活物質のプレドープ方法、負極の製造方法、及び蓄電デバイスの製造方法 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/133, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/36 Z |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 負極活物質のプレドープ方法、負極の製造方法、及び蓄電デバイスの製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/36 Z |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 基材表面の選択的修飾方法 FI分類-H01L 21/312 A |
2018年02月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2018年02月20日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/40, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2018年02月15日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、パターン膜およびその製造方法、パターン基板、細胞培養器具、マイクロ流路デバイス、ならびに細胞塊の製造方法 FI分類-C08F 20/26, FI分類-C08F 20/36, FI分類-C12M 3/00 A, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/038 503 |
2018年02月13日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2018年01月31日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08F 12/08, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C08F 22/36, FI分類-C08F 32/08, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2018年01月30日 特許庁 / 特許 | 組成物およびその用途 FI分類-C08K 3/16, FI分類-C08K 3/20, FI分類-C08L 5/00, FI分類-C08L 5/04, FI分類-C08L 5/06, FI分類-A61L 27/20, FI分類-A61L 27/44, FI分類-A61L 27/52, FI分類-A61L 27/54, FI分類-C08L 89/00, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C08L 101/08 |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | 液晶素子及びその製造方法、並びに表示装置 FI分類-G02F 1/1334, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | 液晶素子及びその製造方法、並びに表示装置 FI分類-C08K 5/00, FI分類-G02F 1/1334, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2018年01月16日 特許庁 / 特許 | メッキ造形物の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2018年01月12日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物、硬化膜及びその製造方法、並びに表示素子、発光素子及び受光素子 FI分類-C08G 59/32, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/075 521 |
2017年11月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、オニウム塩化合物及びレジストパターンの形成方法 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/12, FI分類-C07D 317/24, FI分類-C07D 317/36, FI分類-C07D 333/46, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/17 CSP, FI分類-C07D 307/33 200, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年11月07日 特許庁 / 特許 | 重合体及び化合物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C07C 211/55 CSP |
2017年11月07日 特許庁 / 特許 | 酵素センサ及び酵素センサシステム FI分類-G01N 27/26 371 G, FI分類-G01N 27/327 353 A, FI分類-G01N 27/327 353 B, FI分類-G01N 27/327 353 R, FI分類-G01N 27/327 353 Z |
2017年10月27日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物及びその用途 FI分類-C08L 101/04, FI分類-C08L 101/06, FI分類-C08L 101/08, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年10月25日 特許庁 / 特許 | 運動支援装置、運動支援システム、運動支援方法、及び非遷移的実体的記録媒体 FI分類-G16H 20/30, FI分類-A61B 5/00 N, FI分類-A63B 69/00 C |
2017年10月19日 特許庁 / 特許 | 硬化膜の形成方法、感放射線樹脂組成物、硬化膜を備える表示素子及びセンサー FI分類-C08F 8/18, FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/61, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-B05D 7/00 H, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-C08F 220/26, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年10月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-G02F 1/1337 525 |
2017年10月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08K 5/07, FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 226/00, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2017年10月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び重合体 FI分類-C08F 214/14, FI分類-C08F 220/06, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 222/02, FI分類-C08F 222/40, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2017年10月18日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C07C 33/28, FI分類-C08F 16/00, FI分類-C08F 38/00, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-C07C 35/44 CSP, FI分類-H01L 21/30 573 |
2017年10月18日 特許庁 / 特許 | 処理剤及び基板の処理方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/63, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09D 201/04, FI分類-C09D 201/06, FI分類-C09D 201/08, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C08F 212/08, FI分類-H05B 33/14 A |
2017年10月12日 特許庁 / 特許 | 層間絶縁膜用硬化性樹脂組成物、層間絶縁膜、表示素子、及び層間絶縁膜の形成方法 FI分類-C08F 26/02, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/00, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2017年10月11日 特許庁 / 特許 | 重合体、電極、蓄電デバイス及び重合体の製造方法 FI分類-H01M 4/60, FI分類-C08G 73/02, FI分類-H01G 11/30, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/137, FI分類-H01M 4/62 Z |
2017年10月11日 特許庁 / 特許 | 重合体、電極、蓄電デバイス及び重合体の製造方法 FI分類-C08G 73/02, FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/48 |
2017年10月10日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C08F 297/02, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年10月04日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年09月27日 特許庁 / 特許 | 医療用セメントおよびその使用 FI分類-A61L 27/16, FI分類-A61L 27/48, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 265/06, FI分類-A61L 24/00 310, FI分類-A61L 24/04 200 |
2017年09月26日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法、及びパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C08G 61/10, FI分類-G03F 7/11 503 |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 対象物の処理方法、仮固定用組成物、半導体装置およびその製造方法 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2017年09月08日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C08F 8/32, FI分類-C07D 265/12, FI分類-C07D 265/16, FI分類-C07D 413/14, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-B32B 7/02 103, FI分類-H01L 27/146 D |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-C09B 23/08, FI分類-C09B 53/00, FI分類-G03B 11/00, FI分類-C09B 57/00 X, FI分類-H01L 27/146 D |
2017年08月29日 特許庁 / 特許 | シクロブタン誘導体の製造方法 FI分類-C07D 493/04 101 |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 FI分類-C23C 16/04, FI分類-H01L 21/288, FI分類-H01L 21/28 A, FI分類-H01L 21/285 C, FI分類-H01L 21/285 301 |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 基材表面の選択的修飾方法及び組成物 FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 7/14 P, FI分類-C09D 201/02, FI分類-H01L 21/312 A |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 組成物 FI分類-C08F 8/00 |
2017年08月09日 特許庁 / 特許 | 半導体用レジスト下層膜形成組成物、レジスト下層膜、レジスト下層膜の形成方法及びパターニング基板の製造方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511 |
2017年08月04日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 1/111, FI分類-C09K 3/00 105 |
2017年07月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年07月06日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化膜および有機EL・液晶表示素子 FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 33/04, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/12, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2017年07月06日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、膜形成方法及び自己組織化リソグラフィープロセス FI分類-C09D 153/00, FI分類-C09D 201/02, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年07月06日 特許庁 / 特許 | 重合体、組成物及び成形体 FI分類-B32B 27/38, FI分類-C08G 63/19, FI分類-C08L 67/03, FI分類-B32B 27/00 A |
2017年07月06日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物及び積層体 FI分類-B32B 27/36, FI分類-C08L 67/02, FI分類-C08G 63/181, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 63/00 A |
2017年06月27日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/10, FI分類-C08L 25/04, FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 297/02, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年06月06日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物、発光装置およびその製造方法 FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08F 16/12, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08G 59/18, FI分類-C08G 65/18, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 171/00, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-B41M 5/00 120 |
2017年06月02日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09B 67/20 F |
2017年06月02日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学センサー装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C09B 57/00 X, FI分類-C09B 67/20 F |
2017年06月01日 特許庁 / 特許 | 固体撮像素子用分散液、その製造方法、固体撮像素子用硬化性組成物、赤外線遮蔽膜及び固体撮像素子 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C09D 17/00 |
2017年05月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、感放射線性樹脂組成物、およびパターン形成方法 FI分類-C08G 75/045, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年05月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2017年05月23日 特許庁 / 特許 | 複合粒子、被覆粒子、複合粒子の製造方法、リガンド含有固相担体および試料中の標的物質を検出または分離する方法 FI分類-G01N 33/553, FI分類-G01N 33/543 525 C, FI分類-G01N 33/543 525 E, FI分類-G01N 33/543 525 U, FI分類-G01N 33/543 541 A |
2017年05月18日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2017年05月15日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、膜、レジスト下層膜の形成方法、パターニングされた基板の製造方法及び化合物 FI分類-C08F 34/02, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 578 |
2017年05月10日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511 |
2017年04月14日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2017年04月12日 特許庁 / 特許 | 画素形成用組成物、硬化膜および硬化膜の製造方法 FI分類-C08F 8/14, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/033, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 220/22, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/038 501 |
2017年04月11日 特許庁 / 特許 | 重合体、組成物及び成形体 FI分類-C08G 73/02 |
2017年04月11日 特許庁 / 特許 | 組成物、硬化物及び積層体 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/10 |
2017年04月11日 特許庁 / 特許 | 重合体、組成物及び成形体 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/10 |
2017年04月07日 特許庁 / 特許 | 固体撮像素子用組成物、赤外線遮蔽膜及び固体撮像素子 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C07D 487/22, FI分類-C09B 47/067, FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09K 3/00 105, FI分類-H01L 27/146 D |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | プローブ結合担体の製造方法、プローブ結合担体および標的物質を検出または分離する方法 FI分類-G01N 33/543 525 C, FI分類-G01N 33/543 525 U, FI分類-G01N 33/543 525 W, FI分類-G01N 33/543 541 A |
2017年03月22日 特許庁 / 特許 | レジストプロセス用ケイ素含有膜形成組成物、ケイ素含有膜及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/04, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511 |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 表示素子用基板、表示素子用基板の製造方法および表示素子 FI分類-G03F 7/031, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2017年03月09日 特許庁 / 特許 | プローブ結合担体の製造方法、および、標的物質を検出または分離する方法 FI分類-C12Q 1/68 A, FI分類-G01N 33/543 511 M, FI分類-G01N 33/543 541 A |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | はんだ付け方法およびはんだ付け装置 FI分類-B23K 1/00 D, FI分類-B23K 1/00 K, FI分類-B23K 1/08 310, FI分類-B23K 1/00 330 E, FI分類-H05K 3/34 502 E, FI分類-H05K 3/34 506 E, FI分類-H05K 3/34 506 F, FI分類-H05K 3/34 506 J, FI分類-B23K 31/02 310 B, FI分類-H01L 21/92 604 D |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | 有機EL表示装置及びその製造方法 FI分類-G02B 5/22, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G09F 9/30 365, FI分類-G09F 9/30 349 Z |
2017年03月06日 特許庁 / 特許 | インク、捺染方法及びテキスタイル用インク剤 FI分類-D06P 5/30, FI分類-C09D 11/03, FI分類-C09D 11/107, FI分類-C09D 11/328, FI分類-D06P 5/20 C, FI分類-C09B 69/10 B, FI分類-D06P 5/00 103, FI分類-D06P 5/00 104, FI分類-D06P 5/00 105 |
2017年02月23日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-C07D 307/89 CSPZ |
2017年02月22日 特許庁 / 特許 | 重合体及び光学レンズ FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 79/02 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | レジストプロセス用膜形成材料及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/14, FI分類-G03F 7/095, FI分類-G03F 7/11 503 |
2017年02月09日 特許庁 / 特許 | 添加剤、表面処理剤、表面改質ラテックス粒子、表面改質ラテックス粒子の製造方法、ラテックス凝集反応用試薬、キット、及び標的物質の検出方法 FI分類-G01N 33/543 583, FI分類-G01N 33/543 581 J |
2017年02月08日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/04, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2017年02月06日 特許庁 / 特許 | メッキ造形物の製造方法、およびメッキ造形物製造用感光性組成物 FI分類-G03F 7/26, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C25D 5/02 E, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-B32B 27/18 Z, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年02月02日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07D 307/58, FI分類-C07D 307/93, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C07D 307/60 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/68 CSP |
2017年02月02日 特許庁 / 特許 | コンタクトホールパターンの形成方法及び組成物 FI分類-H01L 21/88 B, FI分類-H01L 21/90 A, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年02月01日 特許庁 / 特許 | 変性多糖およびその用途 FI分類-C08L 5/00, FI分類-A61L 27/20, FI分類-A61L 27/52, FI分類-C08L 101/14, FI分類-C08B 37/08 Z, FI分類-A61L 27/38 111, FI分類-A61L 27/38 112 |
2017年01月26日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、重合体の製造方法及び成形体 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/12 |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28 |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよびその用途 FI分類-G02B 5/20, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-B32B 17/10, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 31/02 D, FI分類-H01L 27/146 D |
2017年01月18日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法 FI分類-G03F 7/11 503 |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 磁性粒子分散液 FI分類-C07D 275/02, FI分類-C07D 275/04, FI分類-G01N 33/553 |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | ラテックス粒子分散液の保管方法 FI分類-G01N 33/543 581 B, FI分類-G01N 33/543 581 C, FI分類-G01N 33/543 581 J |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 622 X |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 C, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年12月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び酸拡散制御剤 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年12月15日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物及びその製造方法、レジスト下層膜並びにパターニングされた基板の製造方法 FI分類-C08G 8/24, FI分類-C08G 8/30, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 574 |
2016年12月13日 特許庁 / 特許 | シリカ系粒子の製造方法 FI分類-C01B 33/141, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 B, FI分類-H01L 21/304 622 D |
2016年12月13日 特許庁 / 特許 | 重合体、抗菌剤、殺菌剤、抗菌材料、殺菌材料、抗菌方法及び殺菌方法 FI分類-A01P 3/00, FI分類-C08F 8/30, FI分類-A01N 25/10, FI分類-A61P 31/04, FI分類-A61K 31/785, FI分類-C08F 222/22, FI分類-A01N 61/00 D, FI分類-A01N 33/12 101, FI分類-A61L 15/26 100, FI分類-A61L 15/44 100 |
2016年12月12日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年12月01日 特許庁 / 特許 | 対象物の処理方法、および半導体装置の製造方法 FI分類-B23K 26/18, FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 21/02 C |
2016年11月29日 特許庁 / 特許 | 紫外線硬化性を有する接着剤組成物 FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/00, FI分類-C08G 18/48, FI分類-C08G 18/79, FI分類-C08G 18/83, FI分類-C09J 11/02, FI分類-C09J 175/14, FI分類-C08G 18/67 010 |
2016年11月25日 特許庁 / 特許 | レジストプロセス用膜形成材料、パターン形成方法及び重合体 FI分類-C08G 77/14, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 563 |
2016年11月24日 特許庁 / 特許 | 多孔質粒子の製造方法、多孔質粒子、担体、カラム、及び標的物質の分離方法 FI分類-B01D 15/38, FI分類-B01J 20/30, FI分類-B01J 20/22 C, FI分類-B01J 20/281 R, FI分類-B01J 20/285 Z, FI分類-C08J 9/28 102, FI分類-C08J 9/36 CEX |
2016年11月17日 特許庁 / 特許 | 混合槽の洗浄方法及び着色組成物の製造方法 FI分類-B08B 9/28, FI分類-C07C 69/16, FI分類-C07C 69/68, FI分類-B08B 3/08 A, FI分類-C07C 43/13 Z, FI分類-C07C 49/17 Z, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C07C 49/403 Z |
2016年11月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶素子の製造方法、液晶配向膜、液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08L 77/00, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年11月16日 特許庁 / 特許 | 感光性パターン形成用材料 FI分類-G02B 5/20, FI分類-C09K 11/70, FI分類-C09K 11/08 A, FI分類-C09K 11/08 ZNMG |
2016年11月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、パターン形成方法及び感放射線性酸発生剤 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年11月02日 特許庁 / 特許 | カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、表示素子および保護膜形成用樹脂組成物 FI分類-C08F 290/08, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年10月27日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子及びその製造方法 FI分類-C09K 19/38, FI分類-C09K 19/52, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 265/06, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2016年10月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2016年10月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C07C 275/14, FI分類-C07D 211/26, FI分類-C07C 275/10 CSP, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年10月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子、並びに液晶配向膜及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年09月28日 特許庁 / 特許 | 電極材料、電池、及びキャパシタの製造方法 FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01M 4/58, FI分類-H01M 4/60, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/505, FI分類-H01M 4/525, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-H01G 13/00 381 |
2016年09月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤、化合物及び化合物の製造方法 FI分類-C07C 309/19, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年09月09日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、レジストパターンの形成方法、および金属パターンの製造方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/032, FI分類-C08F 212/04, FI分類-H05K 3/18 D, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年09月06日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年09月02日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、表示素子及び固体撮像素子、並びに化合物 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505 |
2016年08月25日 特許庁 / 特許 | 造形用フィラメント及び巻回体 FI分類-C08L 9/00, FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 70/00, FI分類-C08L 67/00, FI分類-C08L 101/00 |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年08月17日 特許庁 / 特許 | 重合体およびその製造方法 FI分類-C08G 75/045 |
2016年08月17日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、並びにカラーフィルタ、表示素子及び受光素子 FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09B 67/20 J, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年08月16日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 FI分類-C07D 317/06, FI分類-C07D 335/16, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07D 493/08 C, FI分類-C07D 493/10 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2016年08月09日 特許庁 / 特許 | 着色剤、着色組成物、着色硬化膜、表示素子、固体撮像素子、化合物及び重合体 FI分類-C09B 1/34, FI分類-C09B 7/02, FI分類-C08F 30/02, FI分類-C09B 11/12, FI分類-C09B 11/22, FI分類-C09B 29/03, FI分類-C09B 69/10 A, FI分類-C09B 69/10 B, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C09B 11/28 CSPC, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年08月09日 特許庁 / 特許 | 半導体基板洗浄用膜形成組成物及び半導体基板の洗浄方法 FI分類-C11D 3/37, FI分類-C11D 3/43, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 B |
2016年08月04日 特許庁 / 特許 | 重合体組成物、物品、メディカルデバイス、物品の製造方法および細胞塊の製造方法 FI分類-C12N 5/00, FI分類-A61L 27/16, FI分類-A61L 27/18, FI分類-A61L 27/40, FI分類-A61L 27/50, FI分類-A61L 29/06, FI分類-A61L 29/12, FI分類-A61L 29/14, FI分類-A61L 31/06, FI分類-A61L 31/12, FI分類-A61L 31/14, FI分類-C08F 220/12, FI分類-A61L 29/04 100, FI分類-A61L 31/04 110 |
2016年08月03日 特許庁 / 特許 | 対象物の処理方法、仮固定用組成物、および半導体装置の製造方法 FI分類-C09J 175/04, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2016年07月27日 特許庁 / 特許 | アフィニティー担体およびイムノグロブリンを単離する方法 FI分類-C07K 1/22, FI分類-C07K 17/08, FI分類-C07K 19/00, FI分類-C12P 21/08, FI分類-C07K 14/195, FI分類-C12N 15/00 A, FI分類-C12P 21/00 C, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-A61K 39/395 B, FI分類-A61K 39/395 J, FI分類-C12N 11/08 ZNA, FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー FI分類-G01J 3/51, FI分類-G02B 5/20, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G01J 1/02 S, FI分類-H01L 31/02 D |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター及び光学フィルターを具備する環境光センサー FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G01J 1/04 B |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 医療器材の製造方法および医療器材 FI分類-G02C 7/04, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 220/54, FI分類-C08F 226/02, FI分類-C08F 230/02, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08J 7/00 301, FI分類-C08J 7/00 CFH |
2016年07月22日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/65, FI分類-C07C 309/73, FI分類-C07C 309/74, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年07月22日 特許庁 / 特許 | 基材の処理方法 FI分類-H01L 21/02 C |
2016年07月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子、並びにこれらの製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年07月20日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、膜、波長変換部材、及び膜の形成方法 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08K 5/47, FI分類-C08K 5/50, FI分類-G02B 5/20, FI分類-C08K 5/375, FI分類-C08L 33/04, FI分類-C08L 45/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C08L 101/08 |
2016年07月19日 特許庁 / 特許 | 接着剤、積層体、積層体の製造方法および電子部品 FI分類-C09J 11/04, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-H01L 21/60 311 S |
2016年07月14日 特許庁 / 特許 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-C09B 69/02, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 23/00 CSPE |
2016年07月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/28, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年07月01日 特許庁 / 特許 | 積層配線の形成方法 FI分類-H05K 3/10 D, FI分類-H05K 3/10 E, FI分類-H05K 3/40 K, FI分類-H01L 21/90 A, FI分類-H01L 21/90 Q, FI分類-H01L 21/312 D, FI分類-H05K 3/12 610 C |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 硬化膜形成用組成物及びその製造方法、硬化膜、光拡散積層体並びに表示装置及びその製造方法 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 133/06, FI分類-G02B 5/02 B, FI分類-G02F 1/1335, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 324, FI分類-G09F 9/00 338 |
2016年06月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、パターン、パターン形成方法及び表示素子 FI分類-C08G 59/68, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年06月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年06月23日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 63/10, FI分類-C07C 65/10, FI分類-C07C 69/36, FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/07, FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 311/16, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 B |
2016年06月17日 特許庁 / 特許 | 対象物の処理方法、仮固定用組成物、半導体装置及びその製造方法 FI分類-C09J 201/00, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-H01L 21/02 C |
2016年06月16日 特許庁 / 特許 | 測定対象物質の測定方法、キット、複合体および化合物 FI分類-G01N 21/78 C, FI分類-G01N 33/53 D, FI分類-G01N 33/543 581 F |
2016年06月16日 特許庁 / 特許 | 抗体を精製する方法及び担体を洗浄する方法 FI分類-C07K 1/22, FI分類-C07K 16/00 |
2016年06月13日 特許庁 / 特許 | 半導体表面処理用組成物、表面処理方法および半導体装置の製造方法 FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 622 D, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2016年06月07日 特許庁 / 特許 | ゲル、ゲルの製造方法、レンズ、コンタクトレンズ表面改質剤、重合性組成物及び重合体 FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08K 5/07, FI分類-G02B 1/04, FI分類-G02C 7/04, FI分類-C08K 5/103, FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08K 5/5425 |
2016年05月27日 特許庁 / 特許 | インプリント用感放射線性組成物及びパターン FI分類-C08F 2/06, FI分類-C08F 20/00 510, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | カラーフィルタ材料用着色組成物、カラーフィルタ材料用着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び受光素子 FI分類-C09B 23/00 J, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | 分離方法、検出方法、シグナル測定方法、疾患の判定方法、薬効評価方法、キット、液状組成物及び検体希釈液 FI分類-C12Q 1/68, FI分類-G01N 33/48 P, FI分類-G01N 33/53 D, FI分類-G01N 33/53 Y |
2016年05月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤の製造方法及び感放射線性樹脂組成物の製造方法 FI分類-C07C 51/41, FI分類-C07C 59/21, FI分類-C07C 69/34, FI分類-C07C 303/30, FI分類-C07C 303/40, FI分類-C07C 309/70, FI分類-C07C 311/06, FI分類-C07C 315/04, FI分類-C07C 317/44, FI分類-C07C 67/313, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C07D 207/408, FI分類-C07D 307/32 T, FI分類-C07D 307/60 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年05月11日 特許庁 / 特許 | 酸拡散制御剤及び化合物 FI分類-C07C 55/32, FI分類-C07C 59/21, FI分類-C07C 309/70, FI分類-C07C 311/06, FI分類-C07C 317/44, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 207/40, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07D 307/60 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/33 210, FI分類-C07D 317/30 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年05月10日 特許庁 / 特許 | 半導体洗浄用組成物および洗浄方法 FI分類-C11D 7/04, FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/26, FI分類-C09K 3/14 550 Z, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2016年05月10日 特許庁 / 特許 | 半導体洗浄用組成物および洗浄方法 FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/26, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2016年05月10日 特許庁 / 特許 | 半導体洗浄用組成物の保管方法および洗浄方法 FI分類-C11D 7/22, FI分類-C11D 7/26, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2016年04月28日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法および電子デバイス FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年04月28日 特許庁 / 特許 | ポリアミノ酸の製造方法 FI分類-C08G 69/16 |
2016年04月27日 特許庁 / 特許 | トリアジン化合物および重合体 FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08G 75/0236, FI分類-C07D 251/38 Z, FI分類-C07D 251/26 CSP |
2016年04月27日 特許庁 / 特許 | 基板パターン倒壊抑制用処理材及び基板の処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年04月21日 特許庁 / 特許 | 着色剤分散液及びその製造方法、着色組成物及びその製造方法、着色硬化膜、表示素子並びに固体撮像素子 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C08F 297/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09D 133/00, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505 |
2016年04月21日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成方法及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 574 |
2016年04月15日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C08F 2/48, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2016年04月15日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、カラーフィルタ、表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C09B 1/22, FI分類-C09B 11/12, FI分類-C09B 11/20, FI分類-C09B 23/00, FI分類-C09B 23/10, FI分類-C09B 26/04, FI分類-C09B 47/04, FI分類-C09B 57/04, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C09B 11/28 E, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502 |
2016年04月11日 特許庁 / 特許 | 蛍光粒子及び蛍光粒子の製造方法 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/18, FI分類-C08K 5/549, FI分類-C08L 23/00, FI分類-C09K 11/06, FI分類-C08L 101/14 |
2016年04月05日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、保護膜形成用重合体組成物、保護膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 59/20, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2016年04月01日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶配向膜の製造方法 FI分類-C08G 69/26, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C07C 211/54, FI分類-C07C 225/22, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07C 211/61 CSP, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-B32B 27/18 A, FI分類-H04N 5/225 D, FI分類-B32B 7/02 103 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | ポジ型感放射線性樹脂組成物、層間絶縁膜、層間絶縁膜の形成方法、半導体素子及び表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/039, FI分類-C08F 230/08, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/075 521 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 297/02, FI分類-C08J 5/18 CET, FI分類-C08J 5/18 CEY, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | ラインパターン、光制御部材および光学結像部材の製造方法 FI分類-G02B 17/06, FI分類-G02B 5/08 B, FI分類-G02B 5/08 C |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 視野角補償フィルム、視野角補償フィルムの製造方法、偏光板、液晶表示素子及び有機EL素子 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08L 57/00, FI分類-C08L 83/04, FI分類-H05B 33/02, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜反転パターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶配向膜の製造方法 FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | イムノグロブリン結合タンパク質およびそれを用いたアフィニティー担体 FI分類-C12N 1/15, FI分類-C12N 1/19, FI分類-C12N 1/21, FI分類-C12N 5/10, FI分類-C07K 14/31, FI分類-C07K 17/00, FI分類-C12N 15/00 A, FI分類-C12P 21/00 C, FI分類-A61K 39/395 X, FI分類-C07K 1/22 ZNA |
2016年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年03月22日 特許庁 / 特許 | 着色粒子及び着色粒子の製造方法 FI分類-G01N 33/545 A, FI分類-C08J 3/20 CETC, FI分類-G01N 33/543 541 Z |
2016年03月22日 特許庁 / 特許 | 着色粒子の製造方法 FI分類-B05D 5/06 G, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-C08J 3/20 CETC |
2016年03月22日 特許庁 / 特許 | 硬化膜、表示素子、硬化膜形成用材料及び硬化膜の形成方法 FI分類-C08G 59/58, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2016年03月18日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の形成方法及び電子デバイス FI分類-C08G 59/20, FI分類-C08G 59/68, FI分類-G03F 7/039, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2016年03月17日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28 |
2016年03月15日 特許庁 / 特許 | 親撥材を用いたパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年03月11日 特許庁 / 特許 | ラインパターン、光制御部材および光学結像部材の製造方法 FI分類-G02B 27/22, FI分類-G03B 35/18, FI分類-G02B 5/08 Z |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年03月04日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C08K 5/42, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 309/26, FI分類-C07C 309/27, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/88, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07D 309/30 D, FI分類-C07D 493/08 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/25 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年03月04日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/18, FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年03月03日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C08F 20/18, FI分類-C08F 20/28, FI分類-C08F 20/36, FI分類-C08F 20/38, FI分類-C07C 309/08, FI分類-C07C 309/10, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 215/06, FI分類-C07D 317/70, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C07D 333/08, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年03月02日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/34, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年03月01日 特許庁 / 特許 | 固相担体、リガンド結合固相担体、標的物質の検出又は分離方法、及び前記固相担体の製造方法 FI分類-G01N 33/547, FI分類-G01N 33/553, FI分類-G01N 33/566 |
2016年02月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年02月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外光透過フィルタ及び固体撮像装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 265/06, FI分類-H01L 27/14 D |
2016年02月16日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 212/04, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 531, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年02月09日 特許庁 / 特許 | 重合体、樹脂組成物及び樹脂成形体 FI分類-C08G 63/193 |
2016年02月08日 特許庁 / 特許 | 重合体、樹脂組成物及び樹脂成形体 FI分類-C08G 65/40 |
2016年01月27日 特許庁 / 特許 | 硬化膜形成用感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び電子デバイス FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08G 59/32, FI分類-C08L 25/18, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年01月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2016年01月20日 特許庁 / 特許 | 固体撮像装置、赤外線吸収性組成物及び平坦化膜形成用硬化性組成物 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-H04N 5/369, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-H01L 27/146 D, FI分類-H04N 5/33 200 |
2016年01月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤及び液晶配向膜の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08K 5/07, FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08K 5/21, FI分類-C08K 5/35, FI分類-C08K 5/41, FI分類-C08K 5/49, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08K 5/1535, FI分類-C08K 5/1545, FI分類-C08L 101/12, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-G02F 1/1337 |
2016年01月14日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物および感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造方法、ならびにタッチパネル部材 FI分類-C08K 5/13, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 501, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G06F 3/041 400, FI分類-G06F 3/041 495 |
2016年01月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08L 33/16, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08F 220/22, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2016年01月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法、液晶素子及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2016年01月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2016年01月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 生物粒子計数器の校正方法および生物粒子計数器の校正装置 FI分類-C12M 1/34 D, FI分類-G01N 15/06 E, FI分類-G01N 21/64 Z |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 生物粒子計数器校正用の標準粒子懸濁液の製造方法、及び、生物粒子計数器の校正方法 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 D, FI分類-G01N 15/00 C, FI分類-G01N 21/64 F, FI分類-G01N 1/00 102 A |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び表示素子 FI分類-C08K 5/18, FI分類-C08K 5/41, FI分類-C08K 5/372, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C08K 5/3492, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | 固体撮像装置及び光学フィルタ FI分類-H04N 5/33, FI分類-H04N 9/07 D, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-H04N 5/335 690 |
2015年12月22日 特許庁 / 特許 | 赤外線遮蔽性組成物、硬化膜及び固体撮像装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C08G 77/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-H01L 27/146 D, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2015年12月09日 特許庁 / 特許 | レジスト上層膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 FI分類-C08G 63/682, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 565 |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有膜除去方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/308 Z, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物およびその用途 FI分類-C08K 5/29, FI分類-C09J 7/04, FI分類-C08L 61/34, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08G 14/073, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 179/00 |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び感放射線性酸発生体 FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 309/22, FI分類-C07C 327/60, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07C 381/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜の形成方法、硬化膜、半導体素子及び表示素子 FI分類-C08L 25/00, FI分類-C08L 33/00, FI分類-G03F 7/022, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 521 |
2015年12月03日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年12月03日 特許庁 / 特許 | 液晶配向膜の製造方法及び液晶素子の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08F 20/00 510, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年12月02日 特許庁 / 特許 | はんだ電極の製造方法およびその用途 FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H05K 3/34 501 E, FI分類-H01L 21/60 311 S, FI分類-H01L 21/92 604 E |
2015年12月01日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/16, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年11月26日 特許庁 / 特許 | 固体撮像装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-H04N 9/07 A, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09K 3/00 105, FI分類-H01L 27/144 K, FI分類-H01L 27/146 D, FI分類-H04N 5/33 200 |
2015年11月26日 特許庁 / 特許 | 固体撮像装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-H04N 9/07 D, FI分類-H01L 27/146 A, FI分類-H01L 27/146 D |
2015年11月26日 特許庁 / 特許 | フォトレジスト組成物及びその製造方法並びにレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年11月20日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶素子及び液晶配向膜の製造方法 FI分類-C08F 293/00, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2015年11月20日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物、およびその用途 FI分類-C09J 7/00, FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08L 61/34, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C08G 14/073, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 163/02 |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | リソグラフィー用組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08G 63/16, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-G06F 3/041 412, FI分類-G06F 3/041 495, FI分類-G06F 3/044 120, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G09F 9/00 366 A, FI分類-G09F 9/30 348 A |
2015年10月30日 特許庁 / 特許 | アフィニティークロマトグラフィー用担体、クロマトグラフィーカラム、精製方法、及び該方法で精製された標的物質 FI分類-G01N 30/88 D, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X |
2015年10月30日 特許庁 / 特許 | 硬化膜形成用樹脂材料、硬化膜の形成方法、硬化膜、半導体素子及び表示素子 FI分類-G02B 1/04, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/075 521 |
2015年10月29日 特許庁 / 特許 | 親撥材を用いた薄膜トランジスタ、MOS電界効果トランジスタおよびそれらの製造方法 FI分類-H01L 29/50 M, FI分類-H01L 21/283 B, FI分類-H01L 21/283 C, FI分類-H01L 21/285 Z, FI分類-H01L 29/78 301 Y, FI分類-H01L 29/78 616 K, FI分類-H01L 29/78 626 C, FI分類-H01L 29/78 627 C |
2015年10月27日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年10月21日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573 |
2015年10月09日 特許庁 / 特許 | 親液部と撥液部を有する基材の製造方法、組成物および導電膜の形成方法 FI分類-C09D 11/52, FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-B05D 5/00 Z, FI分類-B05D 5/12 B, FI分類-C09D 11/101, FI分類-H05K 3/38 A, FI分類-H01B 13/00 503 D |
2015年10月08日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた撮像素子 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-H04N 5/335, FI分類-H04N 101:00, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H04N 5/225 D |
2015年10月08日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた撮像素子 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-H01L 27/146 D, FI分類-H04N 5/225 400 |
2015年10月05日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶素子の製造方法、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08K 5/20, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08K 5/372, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08K 5/1515, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年10月02日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年10月02日 特許庁 / 特許 | 液晶配向膜の製造方法、液晶素子の製造方法及び光配向用重合体組成物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化物および光半導体装置 FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08L 83/05, FI分類-C08L 83/07 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08G 77/28, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物 FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年09月15日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年09月15日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2015年09月14日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/02, FI分類-C08F 20/12, FI分類-C08F 24/00, FI分類-C08F 28/00, FI分類-C08F 30/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年09月14日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/16, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年09月11日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/3412, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年09月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2015年09月10日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 234/00, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z |
2015年09月08日 特許庁 / 特許 | 凹パターンを有する構造体の製造方法、樹脂組成物、導電膜の形成方法、電子回路及び電子デバイス FI分類-C08F 8/18, FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-C08F 220/24, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 521, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-B05D 5/06 104 D, FI分類-B05D 7/24 303 E |
2015年09月07日 特許庁 / 特許 | 固相担体、リガンド結合固相担体、標的物質の検出又は分離方法、及び前記固相担体の製造方法 FI分類-G01N 33/53 D, FI分類-G01N 33/53 M, FI分類-G01N 33/543 525 E, FI分類-G01N 33/543 525 G, FI分類-G01N 33/543 525 U |
2015年09月04日 特許庁 / 特許 | 液状硬化性組成物 FI分類-C08G 18/83, FI分類-C08L 75/14, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08K 5/5415 |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 FI分類-C08F 8/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/16, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子、並びに位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-C08K 5/20, FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/38, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年08月20日 特許庁 / 特許 | 化学増幅型レジスト材料 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶配向膜の製造方法及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年08月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年08月05日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年08月04日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び固体撮像素子 FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08G 59/34, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502 |
2015年07月31日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-H04N 5/225 D |
2015年07月30日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-H01L 27/14 D |
2015年07月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 2/38, FI分類-C07C 323/54, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年07月23日 特許庁 / 特許 | 位相差フィルム積層体、偏光板及び位相差フィルム積層体の製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-B32B 27/40, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-B32B 27/00 M, FI分類-B32B 27/30 A |
2015年07月13日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08K 5/20, FI分類-C08G 69/00, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 77/00, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年07月07日 特許庁 / 特許 | レジストパターン微細化組成物及び微細パターン形成方法 FI分類-C08F 220/28, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年07月02日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08L 79/00, FI分類-C08L 83/06, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2015年07月01日 特許庁 / 特許 | 表示装置、および表示装置の製造方法 FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 309, FI分類-G09F 9/30 320, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1339 500, FI分類-G02F 1/1339 505, FI分類-G09F 9/30 349 B, FI分類-G09F 9/30 349 C |
2015年06月29日 特許庁 / 特許 | 隔壁の製造方法、表示素子およびエレクトロウェッティングディスプレイ FI分類-G02F 1/17, FI分類-G03F 7/32, FI分類-G09F 9/37, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/30 349 Z |
2015年06月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/10, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年06月12日 特許庁 / 特許 | はんだ電極の製造方法、積層体の製造方法、積層体および電子部品 FI分類-G03F 7/033, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-H01L 21/92 602 L, FI分類-H01L 21/92 603 G, FI分類-H01L 21/92 604 S |
2015年06月11日 特許庁 / 特許 | 積層体および基材の処理方法 FI分類-B32B 7/06, FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 11/06, FI分類-C09J 109/00, FI分類-C09J 201/00, FI分類-B32B 27/30 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/78 M, FI分類-H01L 21/304 622 J |
2015年06月03日 特許庁 / 特許 | 重合体、仮固定用組成物、積層体、基材の処理方法および半導体装置 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08G 69/40, FI分類-C09J 179/04, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-B32B 27/00 D, FI分類-H01L 21/02 C |
2015年06月03日 特許庁 / 特許 | 立体造形物成形用組成物、それを用いた立体造形物の製造方法、並びに立体造形物 FI分類-C08K 5/00, FI分類-B29C 39/02, FI分類-C08L 21/00, FI分類-C08L 23/00, FI分類-G09B 23/28, FI分類-C08L 101/00 |
2015年06月02日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年05月27日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521 |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 回路基板用樹脂基板、回路基板用樹脂組成物および回路基板 FI分類-C08K 5/01, FI分類-C08K 5/07, FI分類-C08K 5/20, FI分類-C08G 10/02, FI分類-C08L 61/18, FI分類-H05K 1/03 610 H |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 新規な重合体およびその用途 FI分類-C08C 19/00, FI分類-C12M 3/00 A, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/038 601 |
2015年05月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 69/26, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年05月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子、並びに位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 83/16, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2015年05月15日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物およびその用途 FI分類-C08G 61/02, FI分類-G03F 7/023 |
2015年05月15日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/14, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年05月13日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物およびその用途 FI分類-C08G 59/14, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C12M 1/00 C, FI分類-C12M 3/00 Z, FI分類-G03F 7/038 501 |
2015年05月13日 特許庁 / 特許 | 重合体 FI分類-C08G 59/66, FI分類-C08G 75/04, FI分類-C12M 3/00 A, FI分類-G03F 7/027 511 |
2015年05月11日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性組成物および新規化合物 FI分類-C08G 14/09 |
2015年04月27日 特許庁 / 特許 | ポジ型感放射線性樹脂組成物、赤外線遮蔽膜、その形成方法、及び固体撮像素子、照度センサー FI分類-G03F 7/023, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年04月23日 特許庁 / 特許 | レジストパターン形成方法及び感放射線性樹脂組成物 FI分類-C08F 20/36, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年04月21日 特許庁 / 特許 | 下地用組成物及び自己組織化リソグラフィープロセス FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/004 521, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年04月17日 特許庁 / 特許 | 着色剤、硬化性組成物、硬化膜、並びに表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C08L 101/00, FI分類-C08L 101/02 |
2015年04月16日 特許庁 / 特許 | 表示装置 FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1339 505 |
2015年04月16日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子、位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年04月16日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用ポリシロキサン組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08G 77/04, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-H01L 21/30 573 |
2015年04月14日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/28, FI分類-B32B 27/00 B, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-C09K 3/00 105 |
2015年04月14日 特許庁 / 特許 | 重合体、組成物、硬化物、フィルム状接着剤、及び積層体 FI分類-B32B 5/10, FI分類-C08G 61/10, FI分類-C08L 65/00, FI分類-C09J 165/00, FI分類-C09J 7/02 Z, FI分類-B32B 27/00 D |
2015年04月14日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C09B 57/00 X, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-B32B 7/02 103, FI分類-C09K 3/00 105, FI分類-H04N 5/225 400 |
2015年04月13日 特許庁 / 特許 | ネガ型レジストパターン形成方法及び上層膜形成用組成物 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08L 33/16, FI分類-G03F 7/11 501 |
2015年04月10日 特許庁 / 特許 | シリコン含有膜形成用組成物、パターン形成方法及びポリシロキサン化合物 FI分類-C08G 77/18, FI分類-C09D 183/04, FI分類-C08J 5/18 CFH, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/038 601 |
2015年04月08日 特許庁 / 特許 | 潜像形成体、潜像形成体セット、潜像形成体の製造方法、画像表示方法及び装飾用積層体 FI分類-C08F 8/14, FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08F 20/26, FI分類-C08G 77/38, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2015年04月06日 特許庁 / 特許 | 特定構造を有する化合物およびこれを含む感光性組成物 FI分類-C07D 265/16, FI分類-G03F 7/004 521 |
2015年04月03日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C08F 20/28, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及びレジストパターン微細化用組成物 FI分類-C08F 4/04, FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物、パターン形成方法及びブロック共重合体 FI分類-C08F 297/00, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子、位相差フィルム及びその製造方法、重合体並びに化合物 FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 表示素子用の硬化膜形成用組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法、表示素子及び表示素子の製造方法 FI分類-C08K 5/372, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G03F 7/038 502, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 熱硬化性樹脂組成物およびその用途 FI分類-C08L 61/34, FI分類-C08G 14/073, FI分類-C08L 71/00 Z, FI分類-H05K 1/03 610 H |
2015年03月20日 特許庁 / 特許 | 着色粒子分散液及び着色粒子の保存方法 FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09B 67/46 B |
2015年03月20日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C07F 7/00 A, FI分類-C07F 7/00 Z, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 531, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2015年03月19日 特許庁 / 特許 | 硬化性組成物、硬化膜、赤外光透過フィルタ及び固体撮像装置 FI分類-C08F 2/44, FI分類-C08K 5/00, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H01L 27/14 K, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年03月17日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月16日 特許庁 / 特許 | 半導体デバイス製造用組成物及び加工基板の製造方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503 |
2015年03月13日 特許庁 / 特許 | レジスト下層膜形成用組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 FI分類-C08K 5/05, FI分類-C08G 77/18, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G03F 7/11 503 |
2015年03月13日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、硬化膜、表示素子及び着色剤分散液 FI分類-C08G 59/32, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年03月11日 特許庁 / 特許 | 分散剤及び着色剤分散液 FI分類-B01F 17/52, FI分類-C08G 59/32, FI分類-G03F 7/004 504 |
2015年03月09日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-C08F 299/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年03月06日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/04, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2015年03月06日 特許庁 / 特許 | 配線の製造方法、電子回路の製造方法および電子デバイスの製造方法 FI分類-C08F 2/46, FI分類-H05K 3/10 E, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H05K 1/03 610 H, FI分類-H05K 3/12 630 Z |
2015年03月04日 特許庁 / 特許 | 固相担体、リガンド結合固相担体、標的物質の検出又は分離方法、固相担体の製造方法、及びリガンド結合固相担体の製造方法 FI分類-C08F 8/14, FI分類-C08F 292/00, FI分類-G01N 33/531 B |
2015年03月04日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-C08G 8/20 Z, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 574, FI分類-H01L 21/30 578 |
2015年03月04日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2015年03月03日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用組成物および該多層レジストプロセス用組成物を用いたパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 578, FI分類-H01L 21/302 105 A, FI分類-H01L 21/302 301 Z |
2015年03月02日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその製造方法、並びに有機EL素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501 |
2015年03月02日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 FI分類-C08F 20/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年02月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年02月20日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 265/06, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 69/10 B, FI分類-C09B 69/10 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年02月20日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/22 D, FI分類-C09B 67/22 Z, FI分類-C09B 69/10 B, FI分類-C09B 69/10 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2015年02月20日 特許庁 / 特許 | 光学材料用非晶性重合体、樹脂組成物、樹脂ペレット及び樹脂成形体 FI分類-C08G 64/06, FI分類-C08G 65/40 |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子の製造方法、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2015年02月12日 特許庁 / 特許 | 重合体組成物、液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08F 20/26, FI分類-C08F 20/32, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08L 33/04, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2015年02月10日 特許庁 / 特許 | 標的物質捕獲方法、標的物質捕獲用の固相担体及び当該固相担体の製造方法 FI分類-G01N 33/543 525 E |
2015年02月06日 特許庁 / 特許 | パターン形成用樹脂組成物、絶縁膜、その形成方法及び表示素子 FI分類-C08G 65/40, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/032, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2015年02月06日 特許庁 / 特許 | 固相担体、該固相担体の製造方法、アフィニティ精製用担体、充填剤、クロマトグラフィーカラム及び精製方法 FI分類-B01D 15/38, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 283/00, FI分類-B01J 20/26 L, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-G01N 30/88 101 M, FI分類-G01N 30/88 101 P, FI分類-G01N 30/88 101 S, FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X |
2015年02月06日 特許庁 / 特許 | レンズ用液剤、コンタクトレンズおよびその製造方法 FI分類-C11D 7/22, FI分類-G02C 7/04, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08L 33/24, FI分類-C08L 39/04, FI分類-C11D 17/08, FI分類-G02C 13/00, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/54, FI分類-C08F 226/06 |
2015年02月06日 特許庁 / 特許 | レンズ用液剤、コンタクトレンズおよびその製造方法 FI分類-C11D 7/22, FI分類-G02C 7/04, FI分類-G02C 13/00, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/56 |
2015年02月02日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C09K 3/00 105 |
2015年01月30日 特許庁 / 特許 | 蓄電デバイスの製造方法、蓄電デバイス及び電極の活物質にリチウムを吸蔵させるための装置 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 12/08 K, FI分類-H01G 13/00 381 |
2015年01月26日 特許庁 / 特許 | ドープ電極体の製造方法 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 4/139, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 10/0566 |
2015年01月26日 特許庁 / 特許 | ドープ電極体の製造装置 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/50, FI分類-H01G 11/86, FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01G 13/00 381 |
2015年01月26日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用レジスト下層膜形成組成物及びレジスト下層膜の形成方法 FI分類-C08K 5/13, FI分類-C08L 101/00, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-H01L 21/30 573 |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤および液晶表示素子 FI分類-C08G 61/02, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2015年01月22日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年01月20日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子、並びに位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | 感放射線性着色組成物、スペーサー、その形成方法及び液晶表示素子 FI分類-C08F 2/46, FI分類-C08F 2/48, FI分類-C08K 5/41, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08K 5/3415, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 212/08, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月16日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法及びこれに用いられる組成物 FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/34, FI分類-C08F 220/38, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2015年01月14日 特許庁 / 特許 | 硬化膜形成用感放射線性組成物、硬化膜、表示素子及び硬化膜の形成方法 FI分類-C08G 77/24, FI分類-C08G 77/28, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 20/22, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/12, FI分類-C07C 309/23, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 309/10, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C07D 495/08, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07D 307/32 H, FI分類-C07D 493/08 A, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/19 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | 隔壁の製造方法 FI分類-C08G 8/04, FI分類-G02F 1/17, FI分類-C08F 32/00, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08G 73/22, FI分類-C08G 77/04, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/04, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/032 502, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/075 521 |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | 感光性組成物 FI分類-G02F 1/17, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 511, FI分類-G03F 7/027 502 |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | 表示素子、感光性組成物およびエレクトロウェッティングディスプレイ FI分類-G02F 1/167 |
2015年01月08日 特許庁 / 特許 | 表示素子、感光性組成物およびエレクトロウェッティングディスプレイ FI分類-C08F 2/50, FI分類-G02F 1/17 |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 粒子分散液、標的物質の検出に用いるためのキット、及び標的物質の検出方法 FI分類-G01N 33/545 Z, FI分類-G01N 33/543 581 J |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月23日 特許庁 / 特許 | 重合体組成物、樹脂膜、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08K 5/16, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/04, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2014年12月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、液晶表示素子並びに位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年12月19日 特許庁 / 特許 | 下地膜形成用組成物及び自己組織化リソグラフィープロセス FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B05D 7/00 H, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶表示素子の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08K 5/36, FI分類-C09K 19/56, FI分類-C07C 327/28, FI分類-C07C 327/32, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C07C 327/30 CSP, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2014年12月17日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 511, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2014年12月17日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 20/34, FI分類-G03F 7/033, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年12月09日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C07C 69/54 Z, FI分類-C07C 43/178 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年12月09日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09B 1/22, FI分類-C09B 47/04, FI分類-C09B 47/10, FI分類-C09B 57/04, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-C08F 265/06, FI分類-C09B 55/00 D, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09B 67/20 J, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年12月09日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 20/10, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2014年12月09日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/41, FI分類-C09D 7/63, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 500 |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜、その形成方法及び表示素子 FI分類-C08G 65/34, FI分類-C08G 75/04, FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年11月27日 特許庁 / 特許 | 固相担体、固相担体の製造方法、アフィニティ精製用担体、アフィニティクロマトグラフィー用充填剤の製造方法、アフィニティクロマトグラフィー用充填剤、クロマトグラフィーカラムおよび精製方法 FI分類-B01D 15/38, FI分類-C07K 14/31, FI分類-C07K 16/00, FI分類-C07K 17/06, FI分類-C07K 17/08, FI分類-B01J 20/22 D, FI分類-B01J 20/24 C, FI分類-C07K 1/22 ZNA, FI分類-G01N 30/88 101 M, FI分類-G01N 30/88 101 P, FI分類-G01N 30/88 101 S, FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X |
2014年11月27日 特許庁 / 特許 | 固相担体、固相担体の製造方法、アフィニティ精製用担体、アフィニティクロマトグラフィー用充填剤の製造方法、アフィニティクロマトグラフィー用充填剤、クロマトグラフィーカラムおよび精製方法 FI分類-B01D 15/38, FI分類-C07K 17/06, FI分類-C07K 17/08, FI分類-B01J 20/24 C, FI分類-G01N 30/88 J, FI分類-C07K 1/22 ZNA, FI分類-G01N 30/88 101 M, FI分類-G01N 30/88 101 S, FI分類-G01N 30/88 201 G, FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X |
2014年11月26日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年11月20日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年11月20日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物 FI分類-C08F 20/28, FI分類-C07D 307/32, FI分類-C07D 307/93, FI分類-C07D 311/96, FI分類-C07D 493/08 A, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 307/94 CSP, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年11月18日 特許庁 / 特許 | 位相差フィルム積層体、偏光板及び位相差フィルム積層体の製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-B32B 27/00 A |
2014年11月14日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム、位相差フィルムの製造方法、重合体及び化合物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C07C 211/54, FI分類-C07C 219/34, FI分類-C07C 229/60, FI分類-C07C 217/84 CSP, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年11月14日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年11月14日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08K 5/101, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年11月06日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 224/00, FI分類-C08F 246/00, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年11月06日 特許庁 / 特許 | 分離方法、検出方法、シグナル測定方法、疾患の判定方法、疾患治療薬の薬効評価方法、キット及び液状組成物 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12Q 1/68 A, FI分類-G01N 33/48 P, FI分類-G01N 33/53 Y |
2014年10月30日 特許庁 / 特許 | 親液部と撥液部を有する基材の製造方法、組成物、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイス FI分類-B05D 3/06, FI分類-H05K 3/10 Z, FI分類-B05D 7/24 302 Y |
2014年10月30日 特許庁 / 特許 | 金属線を有する基材の製造方法、偏光素子および電極基板 FI分類-G02B 5/30 |
2014年10月30日 特許庁 / 特許 | 積層体、基材の処理方法、仮固定用組成物および半導体装置 FI分類-B32B 27/18 Z |
2014年10月28日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶表示素子の製造方法、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13 500, FI分類-G02F 1/1337 520, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年10月22日 特許庁 / 特許 | ホールパターンの形成方法、ホールパターン形成用樹脂組成物、および積層体 FI分類-G03F 7/033, FI分類-H05K 3/00 K, FI分類-G03F 7/027 515 |
2014年10月22日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物およびレジストパターンの製造方法 FI分類-C08F 2/38, FI分類-C08F 2/50, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年10月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年10月17日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C09D 201/02, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年10月17日 特許庁 / 特許 | 重合体、樹脂組成物及び樹脂成形体 FI分類-G02B 1/04, FI分類-G02C 7/00, FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08G 63/688 |
2014年10月16日 特許庁 / 特許 | 光学フィルター、固体撮像装置およびカメラモジュール FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 1/115, FI分類-H04N 9/07 A, FI分類-H01L 27/14 D |
2014年10月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及びその製造方法 FI分類-C07C 67/14, FI分類-C07C 231/12, FI分類-C07C 235/06, FI分類-C07C 253/30, FI分類-C07C 255/20, FI分類-C07C 69/675, FI分類-C07D 307/20, FI分類-C07D 307/93, FI分類-C07D 317/40, FI分類-C07D 327/04, FI分類-C07D 407/12, FI分類-C08F 224/00, FI分類-C07C 69/732 Z, FI分類-C07D 307/32 G, FI分類-C07D 307/32 Q, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年10月10日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年10月09日 特許庁 / 特許 | 表示又は照明装置、および絶縁膜の形成方法 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/032, FI分類-G03F 7/033, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/06, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/075 511 |
2014年10月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年10月07日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 22/20, FI分類-C08F 22/22, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年10月07日 特許庁 / 特許 | 重合体及び化合物の製造方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 228/02, FI分類-C07C 69/54 B, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年10月02日 特許庁 / 特許 | レジストパターン微細化用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 220/30, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 新規重合体、該重合体を用いた表面親水化剤および基材表面改質方法 FI分類-C08G 18/86, FI分類-C08G 18/38 Z |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 標的物の精製方法、及び、ミックスモード用担体 FI分類-C07K 1/22 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 FI分類-C08F 28/02, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/032, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 501, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2014年09月22日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、並びに表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C09B 47/10, FI分類-C09B 57/04, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 265/04, FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-C09B 67/20 J, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年09月19日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、膜、パターンが形成された基板の製造方法及び化合物 FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 171/08, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573 |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/14, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08F 24/00, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年09月12日 特許庁 / 特許 | ブロック共重合体及びその製造方法並びにフィルム FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08F 12/02, FI分類-C08G 61/08 |
2014年09月12日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 307/02, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/22, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年09月12日 特許庁 / 特許 | 感光性樹脂組成物、硬化膜の製造方法、硬化膜、液晶表示装置および有機EL表示装置 FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/28, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年09月10日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C09D 133/00, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 201/00, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-C08F 20/00 510, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年09月08日 特許庁 / 特許 | 固相担体、リガンド結合固相担体、標的物質の検出又は分離方法、及び前記固相担体の製造方法 FI分類-C07K 17/02, FI分類-C08F 292/00, FI分類-C08F 293/00, FI分類-C12Q 1/68 A, FI分類-C12N 15/00 A, FI分類-G01N 33/53 D, FI分類-G01N 33/53 M, FI分類-G01N 33/545 Z, FI分類-G01N 33/543 541 A |
2014年09月08日 特許庁 / 特許 | 磁性粒子、リガンド結合粒子、標的物質の検出又は分離方法、及び前記磁性粒子の製造方法 FI分類-C08F 257/02, FI分類-G01N 33/553, FI分類-G01N 33/543 501 J, FI分類-G01N 33/543 525 G, FI分類-G01N 33/543 525 U, FI分類-G01N 33/543 525 W |
2014年09月08日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 16/00, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08F 20/54, FI分類-C08F 26/02, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年09月04日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 FI分類-C08L 23/02, FI分類-C08L 33/04 |
2014年09月04日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 575 |
2014年09月02日 特許庁 / 特許 | 担体の製造方法、担体、クロマトグラフィーカラム、及び目的物質の精製方法 FI分類-G01N 30/88 201 R, FI分類-G01N 30/88 201 X, FI分類-G01N 30/88 201 Y |
2014年09月01日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム及びその製造方法 FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年08月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/28, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年08月25日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、膜、パターンが形成された基板の製造方法及び化合物 FI分類-C08F 12/00, FI分類-C08F 38/00, FI分類-C08G 65/38, FI分類-C07C 255/54, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-C07C 43/23 CSPC |
2014年08月22日 特許庁 / 特許 | 担体、担体の製造方法、及び標的物の精製方法 FI分類-C07K 1/22, FI分類-B01D 15/08, FI分類-B01J 20/30, FI分類-C07K 17/02, FI分類-C07K 17/14, FI分類-C12N 11/02, FI分類-C12N 11/14, FI分類-B01J 20/22 C, FI分類-B01J 20/24 C, FI分類-B01J 20/28 Z, FI分類-B01J 20/34 G |
2014年08月20日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08K 5/101, FI分類-C09D 11/10, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09B 11/28 C, FI分類-C09B 11/28 E, FI分類-C09B 67/46 B, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年08月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向膜の製造方法、液晶表示素子用基板及びその製造方法、並びに液晶表示素子 FI分類-C08K 3/00, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-C08J 7/04 CFGZ, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年08月18日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸拡散制御剤及び化合物 FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年08月18日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 574 |
2014年08月12日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、および発光素子 FI分類-C08K 9/04, FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/10, FI分類-H05B 33/02, FI分類-H05B 33/14 A |
2014年08月12日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C08K 5/3417, FI分類-C08L 101/00, FI分類-B32B 27/00 A, FI分類-B32B 27/00 N, FI分類-B32B 27/18 Z, FI分類-B32B 7/02 103 |
2014年08月11日 特許庁 / 特許 | 電極材料、電極及び蓄電デバイス FI分類-H01M 4/48, FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/24, FI分類-H01G 11/46, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/36 A, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z |
2014年08月06日 特許庁 / 特許 | 被接着物回収方法、被接着物回収装置、ガス発生膜および樹脂組成物 FI分類-C08K 5/23, FI分類-C12M 1/42, FI分類-C12N 1/02, FI分類-C08L 33/00 |
2014年07月31日 特許庁 / 特許 | 半導体基板洗浄用組成物 FI分類-C11D 3/20, FI分類-C11D 3/37, FI分類-C11D 3/43, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2014年07月31日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子 FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/26, FI分類-C08F 222/20, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 502, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月31日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法および記憶媒体 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2014年07月28日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜、その形成方法、及び電子デバイス FI分類-C08F 220/24, FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 230/08, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年07月25日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/22 F, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年07月23日 特許庁 / 特許 | 有機溶剤系二重トーンフォトレジストのためのスルホン酸エステル含有ポリマー FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 515, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月22日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体、化合物及び化合物の製造方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年07月18日 特許庁 / 特許 | マイクロ流体装置およびその製造方法、流路形成用感光性樹脂組成物 FI分類-B81B 1/00, FI分類-B81C 3/00, FI分類-B01J 19/00 321, FI分類-G01N 37/00 101, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 574, FI分類-H01L 21/30 578, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、並びに表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C09B 57/00 Z, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101 |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜および表示素子 FI分類-G03F 7/033, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 重合体 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | 被覆電線用封止材 FI分類-C08F 290/06, FI分類-H02G 1/14 C |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | 電子デバイス、有機EL素子および液晶表示素子 FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 4/02, FI分類-C09J 7/00, FI分類-C09J 11/06, FI分類-H05B 33/04, FI分類-C09J 163/00, FI分類-C09J 185/00, FI分類-C09J 201/00, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/1339 505 |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | 基板の加工方法 FI分類-C08F 212/14, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年07月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C07C 309/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C07C 53/23, FI分類-C07C 69/36, FI分類-C07C 327/04, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C07C 69/757 Z, FI分類-C07D 309/30 D, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-C07D 307/33 210, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月09日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/32, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年07月09日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 220/10, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年07月08日 特許庁 / 特許 | 位相差フィルム積層体及び偏光板 FI分類-G02B 5/30, FI分類-B32B 27/40, FI分類-C08J 7/04 CFFE |
2014年07月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年07月03日 特許庁 / 特許 | 液晶配向膜の製造方法、光配向剤及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 電極材料の製造方法、電極及び蓄電デバイス FI分類-H01G 11/30, FI分類-H01G 11/34, FI分類-H01G 11/44, FI分類-H01M 4/587, FI分類-H01M 4/36 E, FI分類-H01M 4/38 Z |
2014年06月25日 特許庁 / 特許 | 可溶性GPC3タンパク質の測定方法 FI分類-C07K 16/18, FI分類-C07K 16/30, FI分類-C07K 16/46, FI分類-C12N 15/00 A, FI分類-G01N 33/53 D, FI分類-C12Q 1/02 ZNA, FI分類-G01N 33/531 A |
2014年06月23日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物、保護膜の製造方法、液晶表示素子の製造方法、および固体撮像素子の製造方法 FI分類-C08K 5/36, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08L 101/02, FI分類-G02F 1/1335, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H01L 27/14 E, FI分類-H01L 21/312 D |
2014年06月17日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、並びに表示素子及び固体撮像素子 FI分類-C09B 67/20 G, FI分類-C09B 67/20 K, FI分類-C09B 67/22 A, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505 |
2014年06月13日 特許庁 / 特許 | 銀膜形成用組成物、銀膜、配線基板、電子機器および銀粒子の製造方法 FI分類-B22F 1/00 K, FI分類-B22F 9/20 Z, FI分類-H01B 1/22 A, FI分類-H01B 5/14 B, FI分類-H05K 1/09 A, FI分類-B22F 9/24 ZNMF, FI分類-H01B 13/00 501 Z |
2014年06月12日 特許庁 / 特許 | カラーフィルタ用着色組成物、カラーフィルタ用着色硬化膜、表示素子及びカラーフィルタ用着色剤分散液 FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 67/20 L, FI分類-C09B 67/46 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/004 531 |
2014年06月11日 特許庁 / 特許 | 銅膜形成用組成物、銅膜形成方法、銅膜、配線基板および電子機器 FI分類-C23C 18/40, FI分類-H05K 1/09 A |
2014年06月09日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、並びにパターン形成方法 FI分類-C07C 15/54, FI分類-C07C 33/28, FI分類-C08F 38/00, FI分類-C07C 211/53, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-C07C 15/50 CSP, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 574 |
2014年06月06日 特許庁 / 特許 | 共重合体の製造方法 FI分類-C08F 4/34, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08F 212/08 |
2014年06月02日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 A, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年05月27日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび前記フィルターを用いた装置 FI分類-C08K 5/00, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03B 11/00, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09D 201/00 |
2014年05月27日 特許庁 / 特許 | 無機材料で構成される表面用の表面処理剤、表面が改質された器具および装置、該器具および装置の製造方法 FI分類-C08F 220/28, FI分類-C08F 220/36, FI分類-C08F 220/60, FI分類-C09K 3/00 R, FI分類-C03C 17/28 A |
2014年05月26日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09B 69/06, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 69/10 B, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 503 |
2014年05月23日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及びその製造方法、並びに液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年05月23日 特許庁 / 特許 | 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、絶縁膜およびその製法ならびに電子部品 FI分類-C08K 5/548, FI分類-C08L 25/04, FI分類-C08L 61/10, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08L 101/14, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/075 501 |
2014年05月13日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、酸発生体及び化合物 FI分類-C07C 309/17, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 307/00, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年05月13日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 568 |
2014年05月08日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 297/02, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年04月28日 特許庁 / 特許 | 重合体 FI分類-C08G 65/40 |
2014年04月28日 特許庁 / 特許 | 重合体組成物、重合体ペレット、成形体及びフィルム FI分類-C08G 65/34, FI分類-C08L 71/08 |
2014年04月25日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 79/08 Z, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年04月17日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 297/02, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年04月16日 特許庁 / 特許 | 積層フィルム、タッチセンサー、タッチパネル及びデバイス装置 FI分類-C08F 20/28, FI分類-C08F 290/06, FI分類-C08J 7/04 CEZ, FI分類-C08J 7/04 CERL, FI分類-G06F 3/041 460, FI分類-G06F 3/041 495 |
2014年04月15日 特許庁 / 特許 | 新規なケイ素化合物及び重合体 FI分類-C08F 30/08, FI分類-C07F 7/08 C, FI分類-C07F 7/18 CSPD |
2014年04月15日 特許庁 / 特許 | 自己組織化リソグラフィプロセスに用いられる組成物 FI分類-C08G 77/04, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/004 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-H01L 21/30 568, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年04月15日 特許庁 / 特許 | 凹パターンを有する基材の製造方法、組成物、導電膜の形成方法、電子回路および電子デバイス FI分類-H05K 3/10 E, FI分類-G03F 7/26 521, FI分類-G03F 7/004 521, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年04月11日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子の製造方法 FI分類-C08G 77/14, FI分類-C08G 77/38, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2014年04月11日 特許庁 / 特許 | 化合物および硬化物 FI分類-C08G 14/073 |
2014年04月11日 特許庁 / 特許 | 化合物および硬化物 FI分類-C08G 14/073, FI分類-C07D 265/16 CSP |
2014年04月08日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子、感放射線性樹脂組成物、スペーサおよびスペーサの形成方法 FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G03F 7/037 501, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年04月02日 特許庁 / 特許 | アレイ基板、液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-G02F 1/1333 505 |
2014年04月01日 特許庁 / 特許 | ケイ素含有膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08G 77/38, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/075 521 |
2014年04月01日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法 FI分類-G02F 1/1337 525, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2014年04月01日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08K 5/3412, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | パターン形成用組成物及びパターン形成方法 FI分類-C08F 2/38, FI分類-C08F 8/00, FI分類-B82Y 30/00, FI分類-B82Y 40/00, FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 299/02, FI分類-C08J 7/00 307, FI分類-H01L 21/30 570 |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | ブロック共重合体の製造方法 FI分類-C08L 53/00, FI分類-C08F 293/00 |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C09B 11/28 E, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-C09B 67/46 CSPA, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 220/18, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | レジスト用重合体の製造方法 FI分類-C08F 6/00, FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 重合体、感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 20/38, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月24日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物 FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G02F 1/1333 505, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年03月20日 特許庁 / 特許 | 膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法並びにパターン形成方法 FI分類-C08F 12/00, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 573 |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 77/26, FI分類-C08L 79/08, FI分類-C08L 83/08, FI分類-C08G 77/388, FI分類-G02F 1/1337 530 |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 組成物、パターンが形成された基板の製造方法、並びに膜及びその形成方法 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C08L 71/08, FI分類-C07C 255/54, FI分類-G03F 7/11 503 |
2014年03月18日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤および液晶表示素子 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年03月18日 特許庁 / 特許 | ポジ型感光性樹脂組成物 FI分類-C08G 59/32, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/36, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 液晶表示素子、感放射線性樹脂組成物、スペーサー及びスペーサーの台座、その形成方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08G 59/42, FI分類-G03F 7/029, FI分類-G03F 7/031, FI分類-G03F 7/033, FI分類-C08F 220/06, FI分類-C08F 290/12, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 220/06, FI分類-H05B 33/12 E, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 感放射線性組成物、表示素子用スペーサーまたは層間絶縁膜及びそれらの形成方法 FI分類-G03F 7/033, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-G03F 7/075 521, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年03月13日 特許庁 / 特許 | 硬化性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、その形成方法及び表示素子 FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08F 220/40, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/038 501, FI分類-G02F 1/1339 500 |
2014年03月11日 特許庁 / 特許 | 新規シアニン化合物、光学フィルターおよび光学フィルターを用いた装置 FI分類-C08K 5/34, FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C07D 401/12, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-C07D 209/60 CSP |
2014年03月11日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C07C 51/02, FI分類-C07C 59/21, FI分類-C07C 69/36, FI分類-C07C 327/20, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07C 59/185, FI分類-C07C 59/205, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/10, FI分類-C07C 67/30 CSP, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年03月07日 特許庁 / 特許 | フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体 FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 317/72, FI分類-C08F 220/38, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年03月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 309/24, FI分類-C07D 339/08, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 309/04 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年03月03日 特許庁 / 特許 | 窒化炭素膜の製造方法 FI分類-H01M 4/58, FI分類-C01B 37/00, FI分類-C07C 251/24, FI分類-C01B 21/082 K |
2014年03月03日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、液晶表示素子の製造方法、重合体及び化合物 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年03月03日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 FI分類-C08F 12/22, FI分類-C08F 20/26, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 表示又は照明装置 FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z |
2014年02月27日 特許庁 / 特許 | 重合体、樹脂組成物、樹脂ペレット及び樹脂成形体 FI分類-C08G 65/40, FI分類-C07C 323/20 CSP |
2014年02月26日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び重合体 FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 220/16, FI分類-C08F 222/40, FI分類-C08F 232/08, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年02月25日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 FI分類-C08F 8/00, FI分類-C08K 5/54, FI分類-G02B 5/30, FI分類-C08G 77/38, FI分類-C08L 33/06, FI分類-C08L 83/04, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-G02F 1/1337 520 |
2014年02月21日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、絶縁膜及びその形成方法並びに有機EL素子 FI分類-C08L 61/06, FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08L 79/08 B, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年02月19日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-C08F 257/00, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-C09B 69/10 Z, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年02月18日 特許庁 / 特許 | 多層レジストプロセス用無機膜形成組成物及びパターン形成方法 FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年02月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、液晶配向膜の製造方法、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年02月10日 特許庁 / 特許 | ゲート絶縁膜、組成物、硬化膜、半導体素子、半導体素子の製造方法および表示装置 FI分類-H05B 33/08, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-H01L 21/312 C, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/075 511, FI分類-G03F 7/004 503 Z, FI分類-H01L 29/78 617 T, FI分類-H01L 29/78 617 V, FI分類-H01L 29/78 618 B |
2014年02月05日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜、表示素子及び固体撮像素子 FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G02F 1/1335 505 |
2014年02月05日 特許庁 / 特許 | 単一被覆層を有する光ファイバ心線及びその被覆層を形成するための樹脂組成物 FI分類-C08F 290/06, FI分類-C03C 25/02 B, FI分類-G02B 6/44 301 A |
2014年02月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/17 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年02月05日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 FI分類-C08F 20/18, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/19 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年02月04日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生体及び化合物 FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 209/02, FI分類-C07D 487/08, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 231/54 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年01月31日 特許庁 / 特許 | ネガ型感放射線性樹脂組成物、表示素子用硬化膜、表示素子用硬化膜の形成方法及び表示素子 FI分類-C08F 212/14, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年01月29日 特許庁 / 特許 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 FI分類-C08F 220/26, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年01月23日 特許庁 / 特許 | 着色組成物、着色硬化膜及び表示素子 FI分類-C08F 2/44 C, FI分類-G02B 5/20 101, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/027 502, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2014年01月21日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜及び液晶表示素子 FI分類-C08G 18/60, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年01月21日 特許庁 / 特許 | PSAモード液晶表示素子用液晶配向剤、PSAモード液晶表示素子用液晶配向膜、並びにPSAモード液晶表示素子及びその製造方法 FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年01月17日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子、位相差フィルム及び位相差フィルムの製造方法 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/13363, FI分類-G02F 1/1337 525 |
2014年01月14日 特許庁 / 特許 | 重合体、化合物、樹脂組成物、樹脂ペレット及び樹脂成形体 FI分類-C08G 65/34, FI分類-C08L 71/10, FI分類-C07D 333/56, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 339/08 |
2014年01月07日 特許庁 / 特許 | 液晶配向剤 FI分類-C08G 73/10, FI分類-G02F 1/1337 525 |
JSR株式会社の商標情報(48件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年08月31日 特許庁 / 商標 | NSC 01類 |
2023年03月29日 特許庁 / 商標 | JTH 01類 |
2022年11月14日 特許庁 / 商標 | ARTON 01類, 09類 |
2022年09月30日 特許庁 / 商標 | JSR菜々色ファーム 31類, 41類, 44類 |
2022年07月20日 特許庁 / 商標 | UDL 01類 |
2022年06月03日 特許庁 / 商標 | HAG 01類 |
2022年06月01日 特許庁 / 商標 | MOLTIGHT IMB 01類 |
2022年04月18日 特許庁 / 商標 | AYX 01類 |
2022年04月18日 特許庁 / 商標 | PCY 01類 |
2022年04月18日 特許庁 / 商標 | MHO 01類 |
2021年11月04日 特許庁 / 商標 | MOLTIGHT 01類 |
2021年10月01日 特許庁 / 商標 | §ChromNeX 09類, 11類 |
2021年10月01日 特許庁 / 商標 | §Amsphere 01類 |
2021年09月01日 特許庁 / 商標 | NFC SMX 01類 |
2021年08月26日 特許庁 / 商標 | PCX 01類 |
2021年07月21日 特許庁 / 商標 | ChromNeX 09類, 11類 |
2021年07月12日 特許庁 / 商標 | MFR 01類 |
2021年05月19日 特許庁 / 商標 | JSR BiRD 42類 |
2021年05月19日 特許庁 / 商標 | §B∞JSR BiRD 42類 |
2021年05月19日 特許庁 / 商標 | §B 42類 |
2020年08月05日 特許庁 / 商標 | JKiC 01類, 05類 |
2020年05月21日 特許庁 / 商標 | §H∞CURIE＼JSR‐UTokyo Collaboration Hub 42類 |
2020年05月21日 特許庁 / 商標 | §H∞CURIE＼JSR‐UTokyo Collaboration Hub 42類 |
2019年11月07日 特許庁 / 商標 | CLEART 01類, 02類 |
2019年09月18日 特許庁 / 商標 | §H∞ea∞rtnote 10類 |
2019年09月18日 特許庁 / 商標 | JSR 36類, 37類, 38類, 40類, 41類, 44類 |
2019年07月31日 特許庁 / 商標 | JSR 35類, 36類, 37類, 38類, 39類, 40類, 41類, 42類, 44類 |
2019年07月08日 特許庁 / 商標 | Heartnote 10類 |
2017年04月25日 特許庁 / 商標 | AMOGILIS 07類, 09類, 10類, 16類, 40類 |
2017年03月31日 特許庁 / 商標 | JETI 01類 |
2016年08月01日 特許庁 / 商標 | FILLUX 01類, 02類 |
2016年03月23日 特許庁 / 商標 | JEUXS 01類 |
2016年03月04日 特許庁 / 商標 | EUV RMQC 01類, 40類, 42類 |
2016年03月04日 特許庁 / 商標 | §EUV＼RMQC＼EUV RESIST MANUFACTURING＼& QUALIFICATION CENTER 01類, 40類, 42類 |
2016年03月04日 特許庁 / 商標 | §EUV＼RMQC＼EUV RESIST MANUFACTURING＼& QUALIFICATION CENTER 01類, 40類, 42類 |
2016年01月14日 特許庁 / 商標 | LITHOTIGHT 01類 |
2015年12月22日 特許庁 / 商標 | JKiC 42類, 44類 |
2015年11月27日 特許庁 / 商標 | §JSR MOL＼Synthetic Rubber 17類 |
2015年09月29日 特許庁 / 商標 | CMS 01類 |
2015年09月29日 特許庁 / 商標 | JIN 01類 |
2015年05月08日 特許庁 / 商標 | JNPC 01類 |
2015年05月08日 特許庁 / 商標 | JSS 01類 |
2015年01月29日 特許庁 / 商標 | EUVJ 01類 |
2015年01月29日 特許庁 / 商標 | ISX 01類 |
2014年08月22日 特許庁 / 商標 | JSR 35類, 39類, 42類 |
2014年01月22日 特許庁 / 商標 | J-LACC 35類, 39類, 42類 |
2014年01月22日 特許庁 / 商標 | §J∞LACC＼JSR Logistics & Customer Center 35類, 39類, 42類 |
2014年01月22日 特許庁 / 商標 | §J∞LACC＼JSR Logistics & Customer Center 35類, 39類, 42類 |
JSR株式会社の職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | デジタルソリューション事業：高分子材料の開発で培った技術を活用し、半導体チップの製造工程で不可欠な各種の「リソグラフィ材料」「化学的機械的平坦化（CMP）材料」「先端実装材料」、液晶ディスプレイ（LCD）や有機ELなどフラットパネル・ディスプレイ（FPD）の製造に用いる各種の「LCD材料」「次世代ディスプレイ材料」、3次元造形に用いる「紫外線硬化樹脂」などを提供しており、グローバルにトップレベルのシェアをもつ製品が多数あります。
ライフサイエンス事業：JSRグループ内だけでなく、戦略的パートナーをグローバルに拡大しながら、高齢化、個別化医療への対応、開発時間短縮やコスト低減のニーズの高まりに対応すべく、バイオ医薬の創薬から製造まで一貫してサポートする「創薬支援サービス」を展開しています。自社で開発する診断薬材料や抗体医薬品精製用担体など、高分子技術を応用した材料も提供しています。
合成樹脂事業：自動車部品、家庭電化製品、建材など幅広い用途に使用されるABS樹脂を中心として事業展開しています： |
企業規模 | 2,155人 男性 1,746人 / 女性 394人 |
平均勤続年数 範囲 その他 | 男性 12.8年 / 女性 13.3年 |
女性労働者の割合 範囲 その他 | 20.6% |
管理職全体人数 | 444人 男性 415人 / 女性 29人 |
役員全体人数 | 27人 男性 25人 / 女性 2人 |
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