SCIVAX株式会社

SCIVAX株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

SCIVAX株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	SCIVAX株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	サイヴァクス
法人番号	6020001078417
会社法人等番号	0200-01-078417
登記所	横浜地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T6020001078417 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒212-0032 ※地方自治体コードは 14132
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 365,710件
国内所在地（市区町村）市区町村	川崎市幸区 ※川崎市幸区の法人数は 5,763件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	新川崎7番7号
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県川崎市幸区新川崎7番7号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンカワサキシサイワイクシンカワサキ
更新年月日更新日	2018年08月13日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	川崎南労働基準監督署 〒210-0012 神奈川県川崎市川崎区宮前町8-2

SCIVAX株式会社の場所

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SCIVAX株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「SCIVAX株式会社」で、「神奈川県川崎市幸区新川崎7番7号」に新規登録されました。

SCIVAX株式会社の法人活動情報

SCIVAX株式会社の補助金情報(1件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2017年08月08日 経済産業省	平成29年度中小企業知的財産活動支援事業費補助金(中小企業等外国出願支援事業)(川崎市) 中小企業知的財産活動支援事業費補助金 -

SCIVAX株式会社の特許情報(14件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年08月19日 特許庁 / 特許	光学系装置 FI分類-G01S 7/484, FI分類-F21Y 115:30, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G01S 7/481 A, FI分類-F21V 5/04 200, FI分類-F21V 5/04 350, FI分類-F21V 13/02 400
2021年09月01日 特許庁 / 特許	光学素子およびこれを用いた光学系装置 FI分類-G02B 5/02 C, FI分類-G01S 7/481 A
2020年12月21日 特許庁 / 特許	インプリント装置およびインプリント方法 FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2020年12月17日 特許庁 / 特許	光学系装置および光学素子製造方法 FI分類-G01S 7/484, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G01S 7/481 A
2019年10月15日 特許庁 / 特許	微細パターン成形方法、インプリント用モールド製造方法およびインプリント用モールド並びに光学デバイス FI分類-B29C 33/40, FI分類-B29C 33/42, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 502 D
2019年05月28日 特許庁 / 特許	熱電変換装置、電子機器および熱電変換装置の製造方法 FI分類-H01L 35/14, FI分類-H01L 35/30, FI分類-H01L 35/32 A
2019年04月23日 特許庁 / 特許	インプリント用モールドおよび当該インプリント用モールドの製造方法並びに撮像素子製造方法 FI分類-B29C 33/12, FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29L 11:00, FI分類-B29C 59/02 B
2018年04月02日 特許庁 / 特許	光学素子および光学系装置 FI分類-G02B 3/04, FI分類-G02B 3/08, FI分類-F21Y 103:00, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-F21V 5/04 500, FI分類-F21V 5/04 650, FI分類-F21Y 101:00 100
2017年06月26日 特許庁 / 特許	半導体発光素子および半導体発光素子の製造方法 FI分類-H01L 33/22, FI分類-H01L 21/302 105 A
2017年06月26日 特許庁 / 特許	半導体発光素子および半導体発光素子の製造方法 FI分類-H01L 33/22, FI分類-H01L 33/32
2016年09月30日 特許庁 / 特許	半導体発光素子の製造方法 FI分類-H01L 33/22, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 21/302 105 A, FI分類-H01L 21/302 105 B
2015年06月16日 特許庁 / 特許	表面修飾可能な積層体の製法 FI分類-B32B 38/18 F, FI分類-B05D 3/06 102 Z, FI分類-B05D 7/24 301 T
2015年06月03日 特許庁 / 特許	ローラ式加圧装置、インプリント装置およびローラ式加圧方法 FI分類-B29C 59/04 C, FI分類-H01L 21/30 502 D
2014年11月28日 特許庁 / 特許	ナノインプリント用レプリカ金型の製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-B29C 33/40, FI分類-B29C 33/64, FI分類-B32B 27/16, FI分類-B32B 27/26, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D

SCIVAX株式会社の商標情報(7件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年03月01日 特許庁 / 商標	§H∞Dyad 07類
2020年12月28日 特許庁 / 商標	Platanus 09類
2020年12月28日 特許庁 / 商標	Ardisia 09類
2020年07月21日 特許庁 / 商標	§RQ∞RubiQ 07類
2019年05月23日 特許庁 / 商標	yockt 09類
2017年08月07日 特許庁 / 商標	SCiVAX 17類
2014年04月17日 特許庁 / 商標	SCiVAX 07類, 09類, 10類, 40類, 42類

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