リコーPFUコンピューティング株式会社

リコーPFUコンピューティング株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

リコーPFUコンピューティング株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	リコーPFUコンピューティング株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	リコーピーエフユーコンピューティング
法人番号	6020001106219
会社法人等番号	0200-01-106219
登記所	横浜地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T6020001106219 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒243-0437 ※地方自治体コードは 14215
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 366,671件
国内所在地（市区町村）市区町村	海老名市 ※海老名市の法人数は 3,944件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	泉2丁目7番1号
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県海老名市泉2丁目7番1号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンエビナシイズミ2チョウメ
代表者	代表取締役 竹本 浩志
従業員数	1,300人
ホームページHP	http://www.rins.ricoh.co.jp/
更新年月日更新日	2025年04月14日
変更年月日変更日	2025年04月08日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	厚木労働基準監督署 〒243-0018 神奈川県厚木市中町3-2-6厚木Tビル5階

リコーPFUコンピューティング株式会社の場所

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リコーPFUコンピューティング株式会社の登録履歴

日付	内容
2025年04月08日	【住所変更】 国内所在地が「神奈川県海老名市泉2丁目7番1号」に変更されました。
2025年04月04日	【名称変更】 名称が「リコーPFUコンピューティング株式会社」に変更されました。
2021年04月02日	【住所変更】 国内所在地が「東京都大田区中馬込1丁目3番6号」に変更されました。
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「リコーインダストリアルソリューションズ株式会社」で、「神奈川県横浜市港北区新横浜3丁目2番地3」に新規登録されました。

リコーPFUコンピューティング株式会社の法人活動情報

リコーPFUコンピューティング株式会社の表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

リコーPFUコンピューティング株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:リコーインダストリアルソリューションズ株式会社 花巻事業所 PRTR届出データ / PRTR - 精密機械器具製造業(経済産業大臣)

リコーPFUコンピューティング株式会社の特許情報(18件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年10月12日 特許庁 / 特許	投射光学系および画像投射装置 FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G03B 21/28, FI分類-G02B 17/08 A, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 D
2020年04月09日 特許庁 / 特許	レンズ鏡筒及び画像投射装置 FI分類-G02B 7/02 B, FI分類-G02B 7/02 Z, FI分類-G02B 7/04 D, FI分類-G02B 7/04 Z, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 Z
2020年01月31日 特許庁 / 特許	結像光学系および画像表示装置および撮像装置 FI分類-G02B 5/04, FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 5/122, FI分類-G03B 21/28, FI分類-G02B 17/08 A, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 D
2019年11月18日 特許庁 / 特許	画像投影装置 FI分類-G02B 19/00, FI分類-G02B 21/02, FI分類-G02B 7/02 E, FI分類-G02B 7/02 Z, FI分類-G02B 7/04 D, FI分類-H04N 5/74 Z, FI分類-G02B 17/08 Z, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 Z
2019年11月18日 特許庁 / 特許	画像投影装置 FI分類-F21Y 115:10, FI分類-H04N 5/74 Z, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 Z, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21S 2/00 377, FI分類-F21S 2/00 390
2019年11月01日 特許庁 / 特許	画像投射装置 FI分類-F21V 29/76, FI分類-F21V 31/00, FI分類-G03B 21/16, FI分類-H04N 5/74 Z, FI分類-H05K 7/20 H, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21S 2/00 377, FI分類-F21S 2/00 390, FI分類-F21V 23/00 140, FI分類-F21V 29/67 100, FI分類-F21V 29/67 200, FI分類-F21V 29/503 100
2019年03月29日 特許庁 / 特許	レンズ鏡筒及び画像投射装置 FI分類-G02B 7/02 C, FI分類-G03B 21/14 D
2019年02月13日 特許庁 / 特許	検査装置 FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/88 Z
2018年11月30日 特許庁 / 特許	投射用ズームレンズおよび投写型画像表示装置 FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 15/20
2018年09月21日 特許庁 / 特許	スペックル低減モジュール FI分類-G02B 5/30, FI分類-G02B 27/48, FI分類-G02B 5/02 B, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521
2018年09月07日 特許庁 / 特許	投射光学系及び画像投射装置 FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 17/08 A, FI分類-G03B 21/14 D
2018年08月29日 特許庁 / 特許	投射光学系および画像投射装置 FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 17/08 A
2018年05月16日 特許庁 / 特許	レンズユニット及び画像投影装置 FI分類-G03B 21/16, FI分類-G02B 7/02 F, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 Z
2018年05月16日 特許庁 / 特許	レンズユニット及び画像投影装置 FI分類-G03B 17/55, FI分類-G02B 7/02 F, FI分類-G03B 21/14 D
2018年05月07日 特許庁 / 特許	レンズ保持部材及び画像投影装置 FI分類-G02B 7/02 C, FI分類-G02B 7/02 Z, FI分類-G03B 21/00 D, FI分類-G03B 21/14 D
2018年04月12日 特許庁 / 特許	投射用ズームレンズおよび投射型画像表示装置 FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 15/20, FI分類-G03B 21/00 E, FI分類-G03B 21/14 Z
2017年06月06日 特許庁 / 特許	撮像光学系および撮像装置および撮像システム FI分類-G02B 13/00, FI分類-G02B 13/24, FI分類-G03B 15/05, FI分類-G03B 15/02 J, FI分類-G03B 15/02 Q
2017年05月15日 特許庁 / 特許	投射用ズームレンズおよび画像投射装置 FI分類-G02B 13/16, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 15/20, FI分類-G03B 21/14 D

リコーPFUコンピューティング株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	光学・精密機器、製造・検査装置、材料・部品、ソフトウェア・システム等の開発、設計、製造、販売、サービス
企業規模	1,300人
平均勤続年数 範囲 正社員	男性 21.8年 / 女性 23.8年

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