東洋合成工業株式会社とは

東洋合成工業株式会社(トウヨウゴウセイコウギョウ)は、法人番号:6040001027017で千葉県市川市上妙典1603番地に所在する法人として千葉地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役社長 木 村 有 仁。資本金は16億1,800万円。従業員数は939人。登録情報として、補助金情報が3件表彰情報が4件届出情報が4件特許情報が32件職場情報が1件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2019年08月01日です。
インボイス番号:T6040001027017については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は千葉労働局。船橋労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

東洋合成工業株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 東洋合成工業株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ トウヨウゴウセイコウギョウ
法人番号 6040001027017
会社法人等番号 0400-01-027017
登記所 千葉地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T6040001027017
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒272-0012
※地方自治体コードは 12203
国内所在地(都道府県)都道府県 千葉県
※千葉県の法人数は 229,929件
国内所在地(市区町村)市区町村 市川市
※市川市の法人数は 17,938件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 上妙典1603番地
国内所在地(1行表示)1行表示 千葉県市川市上妙典1603番地
国内所在地(読み仮名)読み仮名 チバケンイチカワシカミミョウデン
代表者 代表取締役社長  木  村  有  仁
資本金 16億1,800万円 (2024年07月18日現在)
従業員数 939人 (2024年09月16日現在)
電話番号TEL 047-327-2121
ホームページHP http://www.toyogosei.co.jp
更新年月日更新日 2019年08月01日
変更年月日変更日 2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 千葉労働局
〒260-8612 千葉県千葉市中央区中央4丁目11番1号 千葉第2地方合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 船橋労働基準監督署
〒273-0022 千葉県船橋市海神町2-3-13

東洋合成工業株式会社の場所

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東洋合成工業株式会社の補足情報

項目 内容
企業名 読み仮名 トウヨウゴウセイコウギョウカブシキガイシャ
企業名 英語 toyo gosei co.,ltd.
上場・非上場 上場
資本金 16億1,800万円
業種 化学
証券コード 49700

東洋合成工業株式会社の登録履歴

日付 内容
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「東洋合成工業株式会社」で、「千葉県市川市上妙典1603番地」に新規登録されました。

東洋合成工業株式会社の関連情報

項目内容
情報名東洋合成工業株式会社
情報名 読みトウヨウゴウセイコウギョウ
住所千葉県市川市上妙典1603
電話番号047-327-8080

東洋合成工業株式会社の関連情報

項目内容
情報名東洋合成工業株式会社 市川工場
情報名 読みトウヨウゴウセイコウギョウイチカワコウジョウ
住所千葉県市川市上妙典1603
電話番号047-327-2121

東洋合成工業株式会社の法人活動情報

東洋合成工業株式会社の補助金情報(3件)

期間
公表組織
活動名称 / 活動対象 / 金額
2007年01月01日
地域新規産業創造技術開発費補助金
光ナノインプリントリソグラフィー用光硬化性樹脂の開発
-
2006年01月01日
地域新規産業創造技術開発費補助金
有機ラジカルポリマー電池材料の開発
-
2005年01月01日
地域新規産業創造技術開発費補助金
有機ラジカルポリマー電池材料の開発
-

東洋合成工業株式会社の表彰情報(4件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2024年09月16日
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2023
2024年09月16日
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2019
2017年12月04日
女性の活躍推進企業
2017年12月04日
両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

東洋合成工業株式会社の届出情報(4件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年11月29日
支店:東洋合成工業株式会社 千葉工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2017年11月29日
支店:東洋合成工業株式会社 香料工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2017年11月29日
支店:東洋合成工業株式会社 市川工場
PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)
2001年04月24日
アルコール事業 - 許可使用者

東洋合成工業株式会社の特許情報(32件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2019年07月26日
特許庁 / 特許
成形物の製造方法、レプリカモールドの製造方法及びデバイスの製造方法
FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 541 P
2019年04月19日
特許庁 / 特許
オニウム塩、組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-C07D 209/86, FI分類-C07D 307/91, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 405/04, FI分類-C07D 409/10, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年09月26日
特許庁 / 特許
光酸発生剤、レジスト組成物及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
FI分類-C07C 211/62, FI分類-C07C 233/05, FI分類-C07C 233/07, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 233/06 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年04月17日
特許庁 / 特許
組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-C07D 311/86, FI分類-C07D 335/16, FI分類-C07D 409/04, FI分類-C08F 212/08, FI分類-C08F 220/02, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年01月31日
特許庁 / 特許
アルケニル化合物の合成方法及び製造方法
FI分類-C07C 51/38, FI分類-C07C 57/03, FI分類-C07C 59/52, FI分類-C07C 59/56, FI分類-C07C 59/58, FI分類-C07C 67/08, FI分類-C07C 201/12, FI分類-C07C 205/56, FI分類-C07C 227/10, FI分類-C07C 229/44, FI分類-C07C 253/30, FI分類-C07C 255/36, FI分類-C07C 69/157
2018年01月31日
特許庁 / 特許
スルホニウム塩、光酸発生剤、それを含む組成物、及び、デバイスの製造方法
FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 335/16 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年12月14日
特許庁 / 特許
光酸発生剤、レジスト組成物、及び、該レジスト組成物を用いたデバイスの製造方法
FI分類-C07C 309/12, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 211/78, FI分類-C07D 327/06, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年10月13日
特許庁 / 特許
組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-C08F 12/24, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C07C 43/315, FI分類-C07D 317/22, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年05月26日
特許庁 / 特許
ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-C08F 230/04, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年05月12日
特許庁 / 特許
ヨードニウム塩化合物、それを含有する光酸発生剤及び組成物、並びに、デバイスの製造方法
FI分類-C07C 255/13, FI分類-C07C 255/16, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 49/84 CSPD, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年05月10日
特許庁 / 特許
塩基発生剤、試剤、有機塩、組成物、素子の製造方法、硬化膜及び素子
FI分類-C07F 7/07, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-C07C 215/66, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-B05D 7/24 301 B, FI分類-B05D 7/24 302 F, FI分類-B05D 7/24 302 J, FI分類-B05D 7/24 302 P, FI分類-B05D 7/24 302 U, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-B05D 7/24 302 Z, FI分類-B05D 7/24 303 E, FI分類-C07C 211/63 CSP
2017年04月26日
特許庁 / 特許
レジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-C08F 12/24, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C08F 20/30, FI分類-C08F 20/38, FI分類-C07C 323/19, FI分類-C07C 323/20, FI分類-C07D 317/18, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2017年03月10日
特許庁 / 特許
担持型金属触媒
FI分類-C07C 1/32, FI分類-C07C 5/03, FI分類-C07C 9/22, FI分類-C07C 15/46, FI分類-C07C 41/30, FI分類-C07C 45/61, FI分類-C07C 45/62, FI分類-C07C 45/68, FI分類-C07C 47/02, FI分類-C07C 209/10, FI分類-C07C 211/52, FI分類-C07C 253/14, FI分類-C07C 255/50, FI分類-C07C 269/06, FI分類-C07C 271/22, FI分類-C07C 49/786, FI分類-C07C 67/343, FI分類-C07D 209/08, FI分類-C07D 239/26, FI分類-C07F 7/08 F, FI分類-B01J 31/28 Z, FI分類-C07C 43/205 B, FI分類-C07C 49/255 B, FI分類-C07C 69/738 Z, FI分類-B01J 37/04 102, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-B01J 31/36 ZABZ
2016年12月26日
特許庁 / 特許
化合物及び有機材料の製造方法
FI分類-C08F 8/00, FI分類-C07C 227/32, FI分類-C07C 229/12, FI分類-C08F 212/14, FI分類-C08F 212/36, FI分類-C07B 61/00 300
2016年12月19日
特許庁 / 特許
ポリマー、感放射線性組成物、化合物及びデバイスの製造方法
FI分類-C08F 20/18, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601
2016年09月29日
特許庁 / 特許
ポリマー、該ポリマーを含有するレジスト組成物及びそれを用いたデバイスの製造方法
FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C08F 220/18, FI分類-C08F 220/38
2016年09月12日
特許庁 / 特許
部品の製造方法
FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D
2016年08月24日
特許庁 / 特許
デバイスの製造方法及び組成物
FI分類-C08F 2/44 B, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2016年01月15日
特許庁 / 特許
光学部材の製造方法及びそれに用いられる組成物
FI分類-C08F 290/06, FI分類-B29C 59/02 ZNMZ, FI分類-H01L 21/30 502 D
2015年11月26日
特許庁 / 特許
スルホン酸誘導体、それを用いた光酸発生剤、レジスト組成物及びデバイスの製造方法
FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 309/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年09月12日
特許庁 / 特許
高分子担持遷移触媒
FI分類-C07C 1/32, FI分類-C07C 2/68, FI分類-C07C 5/08, FI分類-C07C 15/18, FI分類-C07C 15/54, FI分類-C07C 51/36, FI分類-C07C 57/30, FI分類-C07C 57/44, FI分類-C07C 209/36, FI分類-C07C 211/46, FI分類-C07C 51/353, FI分類-C07C 67/293, FI分類-C07C 69/157, FI分類-B01J 31/06 Z, FI分類-C07B 61/00 300
2015年05月13日
特許庁 / 特許
オニウム塩、光酸発生剤、感光性樹脂組成物及びデバイスの製造方法
FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年05月08日
特許庁 / 特許
レジスト組成物、スルホン酸誘導体、該スルホン酸誘導体の製造方法及びデバイスの製造方法
FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 307/02 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年03月30日
特許庁 / 特許
組成物及び部品の製造方法
FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 4/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08F 20/10, FI分類-C08F 2/44 B
2014年09月19日
特許庁 / 特許
マイクロ流路を有する構造体の製造方法
FI分類-C08J 7/04 CEYT, FI分類-G01N 37/00 101
2014年08月07日
特許庁 / 特許
化学増幅フォトレジスト組成物及び装置の製造方法
FI分類-C08F 220/30, FI分類-C09K 3/00 T, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2014年06月23日
特許庁 / 特許
化学増幅型レジスト組成物および装置の製造方法
FI分類-C09K 3/00 T, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601
2014年06月06日
特許庁 / 特許
ナノインプリント用組成物、部材の製造方法及びデバイスの製造方法
FI分類-C09D 4/00, FI分類-C08F 220/20, FI分類-C08F 230/08, FI分類-B05D 7/24 302 Y
2014年05月13日
特許庁 / 特許
化学増幅レジスト組成物および化学増幅レジスト組成物を用いてデバイスを製造する方法
FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C09K 3/00 T, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2014年05月09日
特許庁 / 特許
樹脂、樹脂の製造方法及び部品
FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 220/10
2014年04月23日
特許庁 / 特許
樹脂モールド及び複数の部品の製造方法
FI分類-B29C 33/40, FI分類-H01L 21/30 502 D
2014年03月03日
特許庁 / 特許
組成物、樹脂モールド、光インプリント方法、光学素子の製造方法、及び電子素子の製造方法
FI分類-C08F 290/06 ZNM

東洋合成工業株式会社の職場情報

項目 データ
事業概要
1.有機工業薬品・有機溶剤等の製造並びに販売 2.画像形成用の感光性材料の製造並びに販売 3.電子表示機器の材料等の開発、製造並びに販売 4.電池材料ならびに電気二重層材料等の研究開発、製造並びに販売 5.酵素蛋白、細胞を特定形状化するための感光性樹脂の研究開発、応用品の製造並びに販売 6.倉庫業(液体化学品の保管管理) 7.貨物運送取扱業
企業規模
939人
男性 805人 / 女性 134人
平均勤続年数
範囲 その他
男性 20.4年 / 女性 18.4年

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