法人番号:6050001041264

AIメカテック株式会社

情報更新日:2024年08月31日

AIメカテック株式会社とは

AIメカテック株式会社（アイメカテック）は、法人番号:6050001041264で茨城県龍ケ崎市向陽台5丁目2番地に所在する法人として水戸地方法務局で法人登録され、2016年07月07日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役執行役員社長阿部猪佐雄。資本金は4億5,000万円。従業員数は220人。登録情報として、特許情報が108件、商標情報が5件、意匠情報が1件が登録されています。なお、2023年03月02日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2023年05月02日です。

インボイス番号:T6050001041264については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。

この地域の労働局は茨城労働局。龍ヶ崎労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

AIメカテック株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	AIメカテック株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	アイメカテック
法人番号	6050001041264
会社法人等番号	0500-01-041264
登記所	水戸地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新インボイス番号	T6050001041264 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒301-0852 ※地方自治体コードは 08208
国内所在地（都道府県）都道府県	茨城県 ※茨城県の法人数は 95,244件
国内所在地（市区町村）市区町村	龍ケ崎市 ※龍ケ崎市の法人数は 2,434件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	向陽台5丁目2番地
国内所在地（1行表示）1行表示	茨城県龍ケ崎市向陽台5丁目2番地
国内所在地（読み仮名）読み仮名	イバラキケンリュウガサキシコウヨウダイ5チョウメ
英語表記	AIMECHATEC,Ltd.
国内所在地（英語表示）英語表示	5-2,Koyodai, Ryugasaki shi, Ibaraki
代表者	代表取締役執行役員社長阿部猪佐雄
資本金	4億5,000万円 (2023年12月09日現在)
従業員数	220人 (2023年12月09日現在)
更新年月日更新日	2023年05月02日
変更年月日変更日	2023年03月02日
法人番号指定年月日指定日	2016年07月07日
管轄の労働局労働局	茨城労働局〒310-8511 茨城県水戸市宮町1丁目8-31茨城労働総合庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	龍ヶ崎労働基準監督署〒301-0005 茨城県龍ヶ崎市川原代町四区6336-1

AIメカテック株式会社の場所

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AIメカテック株式会社の補足情報

項目	内容
企業名読み仮名	アイメカテックカブシキガイシャ
上場・非上場	上場
資本金	4億5,000万円
業種	電気機器
証券コード	62270

AIメカテック株式会社の登録履歴

日付	内容
2023年03月02日	【吸収合併】令和5年3月1日川崎市中原区中丸子150番地プロセス機器事業分割準備株式会社(5020001149499)を合併
2017年07月14日	【吸収合併】平成29年7月1日東京都千代田区丸の内一丁目9番1号ヒューストン・ホールディングス株式会社(9010001174255)を合併
2016年07月07日	【新規登録】名称が「AIメカテック株式会社」で、「茨城県龍ケ崎市向陽台5丁目2番地」に新規登録されました。

AIメカテック株式会社の法人活動情報

AIメカテック株式会社の特許情報(108件)

日付公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年05月02日特許庁 / 特許	基板洗浄方法及び基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2022年04月12日特許庁 / 特許	基板洗浄装置及び基板洗浄方法 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 5/02 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2022年01月28日特許庁 / 特許	基板貼り付け装置及び基板貼り付け方法 FI分類-H01L 21/02 B
2021年10月27日特許庁 / 特許	インピーダンス整合装置、及び処理装置 FI分類-H03H 7/40, FI分類-H05H 1/46 R
2021年02月10日特許庁 / 特許	基板貼り付け装置及び基板貼り付け方法 FI分類-H01L 21/68 N
2021年01月27日特許庁 / 特許	バンプ形成装置、バンプ形成方法、ハンダボールリペア装置、及び、ハンダボールリペア方法 FI分類-B23K 1/00 A, FI分類-B23K 1/20 H, FI分類-B23K 3/04 Z, FI分類-B23K 3/06 H, FI分類-B23K 1/005 A, FI分類-B23K 1/00 330 E, FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 A
2021年01月26日特許庁 / 特許	吸着パッド及び基板搬送装置 FI分類-B25J 15/06 D
2020年12月15日特許庁 / 特許	洗浄装置、及び洗浄方法 FI分類-B08B 3/02 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2020年06月05日特許庁 / 特許	基板検出装置、基板検出方法、及び基板処理ユニット FI分類-H01L 21/68 L
2020年05月19日特許庁 / 特許	ノズル、塗布装置および調整機構 FI分類-B05C 5/02
2020年04月24日特許庁 / 特許	微細構造転写装置及び微細構造転写方法 FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2020年01月09日特許庁 / 特許	塗布装置、及び塗布方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05C 5/00 101
2020年01月09日特許庁 / 特許	塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05C 5/00 101
2020年01月09日特許庁 / 特許	塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101
2019年08月09日特許庁 / 特許	微細構造転写装置及び微細構造転写方法 FI分類-B29L 7:00, FI分類-B29C 41/30, FI分類-B29C 41/36, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2019年08月09日特許庁 / 特許	微細構造転写装置 FI分類-B29C 59/04 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2019年05月16日特許庁 / 特許	ノズル管理装置、ノズル管理方法、及び塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2019年05月14日特許庁 / 特許	塗布装置及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D
2019年05月14日特許庁 / 特許	シム、ノズルおよび塗布装置 FI分類-B05C 5/02
2019年05月09日特許庁 / 特許	基板洗浄装置 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2019年05月09日特許庁 / 特許	基板支持装置及び基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z
2019年05月09日特許庁 / 特許	基板支持装置、基板処理装置、及び基板支持方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-B23Q 3/08 A, FI分類-B23Q 7/04 A, FI分類-H01L 21/68 B
2019年03月20日特許庁 / 特許	加熱装置、基板処理システム、及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N
2018年09月27日特許庁 / 特許	積層体処理システム及び積層体処理方法 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M
2018年09月12日特許庁 / 特許	最適制御装置、最適制御方法及び最適制御プログラム FI分類-G05B 13/04, FI分類-G05B 19/418 Z
2018年09月12日特許庁 / 特許	塗布装置 FI分類-G05B 13/04
2018年07月09日特許庁 / 特許	基板組立装置及び基板組立方法 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G09F 9/00 342
2018年07月09日特許庁 / 特許	基板組立装置及び基板組立方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G02F 1/1339 505, FI分類-B23P 21/00 305 Z
2018年07月09日特許庁 / 特許	基板組立装置及び基板組立方法 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-G02F 1/1339 500
2018年01月15日特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643, FI分類-H01L 21/304 645 C
2017年12月28日特許庁 / 特許	塗布装置及び塗布装置の制御方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B
2017年11月10日特許庁 / 特許	ポンプ及び塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-F04B 43/12 C
2017年11月10日特許庁 / 特許	ポンプ、塗布装置および塗布方法 FI分類-F04B 53/06
2017年11月10日特許庁 / 特許	ノズルおよび塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10
2017年06月23日特許庁 / 特許	積層体の製造方法、電子装置の製造方法、積層体、及び積層体製造システム FI分類-B32B 3/04, FI分類-B32B 17/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-B05D 7/00 E
2017年05月31日特許庁 / 特許	チャンバ、チャンバの製造方法、チャンバのメンテナンス方法、プラズマ処理装置、及びプラズマ処理方法 FI分類-C23C 16/507, FI分類-H01L 21/205, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 C
2017年03月28日特許庁 / 特許	トレイ、積層体処理システム、及び積層体処理方法 FI分類-B08B 11/02, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/68 U
2017年03月10日特許庁 / 特許	紫外線照射装置及び紫外線照射方法 FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 571
2016年12月20日特許庁 / 特許	塗布装置、及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-H01L 21/68 P
2016年12月20日特許庁 / 特許	塗布装置、及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 3/00 B
2016年10月07日特許庁 / 特許	貼付装置 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N
2016年09月30日特許庁 / 特許	塗布装置、及び塗布方法 FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05C 5/00 101
2016年09月30日特許庁 / 特許	プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、及び塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-F16K 3/22 Z, FI分類-F16K 3/24 B, FI分類-F16K 3/26 Z, FI分類-F16K 5/04 E, FI分類-B05C 5/00 101
2016年07月26日特許庁 / 特許	支持体分離装置及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N
2016年07月19日特許庁 / 特許	支持体分離装置および支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N
2016年07月04日特許庁 / 特許	基板洗浄装置、基板洗浄方法、搬送装置、及び、基板処理システム FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A
2016年06月29日特許庁 / 特許	支持体分離装置、および支持体分離方法 FI分類-H01L 21/68 N
2016年06月29日特許庁 / 特許	支持体分離方法、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/78 N
2016年06月29日特許庁 / 特許	支持体分離装置、及び支持体分離方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 21/68 N
2016年06月15日特許庁 / 特許	重ね合わせ装置、貼付装置、重ね合わせ方法および貼付方法 FI分類-H01L 21/68 N
2016年05月18日特許庁 / 特許	封止体の製造方法 FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/12 501 P
2016年03月31日特許庁 / 特許	基板処理装置、及び、基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/68 N
2016年03月31日特許庁 / 特許	塗布装置及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-F04B 23/06, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2016年03月30日特許庁 / 特許	塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H05B 33/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B05D 3/06 102 Z, FI分類-B05D 7/24 301 T
2016年03月30日特許庁 / 特許	塗布装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05C 5/00 101
2016年02月17日特許庁 / 特許	支持体分離装置及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/304 622 L
2016年02月17日特許庁 / 特許	貼付装置、貼付システム、及び貼付方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 F
2016年02月10日特許庁 / 特許	真空貼合装置、その装置を用いた真空貼合システム、及び、そのシステムを用いた真空貼合方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101
2016年02月10日特許庁 / 特許	真空貼合装置 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2016年02月10日特許庁 / 特許	真空貼合装置 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2016年01月19日特許庁 / 特許	紫外線照射装置及び紫外線照射方法 FI分類-H01L 21/30 571
2015年11月11日特許庁 / 特許	積層体の製造方法および基板の処理方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C
2015年11月11日特許庁 / 特許	積層体の製造方法および基板の処理方法 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/304 643 A
2015年11月10日特許庁 / 特許	基板組立システム、そのシステムに用いる基板組立装置、及び、そのシステムを用いた基板組立方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101
2015年11月06日特許庁 / 特許	支持体分離装置及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 622 J
2015年11月06日特許庁 / 特許	支持体分離装置及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/68 N
2015年11月06日特許庁 / 特許	支持体分離装置及び支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 622 J
2015年10月30日特許庁 / 特許	基板組立装置、その装置を用いた基板組立システム、及び、そのシステムを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 342, FI分類-B23P 21/00 305 Z
2015年10月30日特許庁 / 特許	基板組立装置、その装置を用いた基板組立システム、及び、そのシステムを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-B23P 21/00 305 Z
2015年10月30日特許庁 / 特許	ノズル機構、当該ノズル機構を用いるペースト塗布装置、及び、ペースト塗布方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B05D 7/24 301 E
2015年10月26日特許庁 / 特許	支持体分離方法 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N
2015年10月23日特許庁 / 特許	レジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-H01L 21/30 570
2015年10月06日特許庁 / 特許	塗布装置及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-F04B 43/06 C, FI分類-F04B 49/02 311
2015年09月30日特許庁 / 特許	基板組立システム、そのシステムに用いる基板組立装置、及び、そのシステムを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2015年09月30日特許庁 / 特許	基板組立装置 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2015年09月30日特許庁 / 特許	基板組立装置 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2015年08月18日特許庁 / 特許	清掃部材、塗布装置及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B08B 1/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/12 Z, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2015年08月11日特許庁 / 特許	レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 571
2015年08月10日特許庁 / 特許	紫外線照射装置、レジストパターン形成装置、紫外線照射方法及びレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/26, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 571
2015年08月03日特許庁 / 特許	紫外線照射装置及び紫外線照射方法 FI分類-H01L 21/30 571
2015年07月31日特許庁 / 特許	光学フィルム貼付装置、及び、光学フィルム貼付システム FI分類-B26D 7/27, FI分類-G02B 5/30, FI分類-B29C 63/02, FI分類-B32B 37/00, FI分類-B26D 7/18 C, FI分類-B26F 1/00 G, FI分類-G02F 1/1335, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-B23P 21/00 305 Z
2015年07月31日特許庁 / 特許	光学フィルム貼付システム FI分類-G02B 5/30, FI分類-G02F 1/13 101
2015年05月13日特許庁 / 特許	塗布装置、塗布システム及び塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/12 A, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2015年05月11日特許庁 / 特許	紫外線照射装置、及び基板組立システム FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置とそれを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 342
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置とそれを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/1339, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-B23P 21/00 305 Z
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置とそのテーブル構造 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G02F 1/13 101
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101
2015年03月31日特許庁 / 特許	基板組立装置 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1339 505
2015年02月20日特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 H
2015年02月20日特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 H
2015年02月20日特許庁 / 特許	検査・リペア装置 FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 H
2015年02月20日特許庁 / 特許	検査・リペア装置 FI分類-B23K 3/06 H, FI分類-B23K 3/06 S, FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 H
2015年02月03日特許庁 / 特許	ポンプおよび塗布装置 FI分類-F04B 43/12 C, FI分類-F04B 43/12 T
2015年01月30日特許庁 / 特許	基板処理システム及び基板処理方法 FI分類-H05K 3/34 503 B, FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H05K 3/34 505 C, FI分類-H05K 3/34 512 A, FI分類-H01L 21/92 604 H, FI分類-H01L 21/92 604 T
2014年12月15日特許庁 / 特許	紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 570
2014年12月03日特許庁 / 特許	積層体の製造方法、封止基板積層体の製造方法及び積層体 FI分類-B24B 7/00 Z, FI分類-H01L 21/56 R, FI分類-H01L 23/12 F, FI分類-B24B 9/00 601 H
2014年12月03日特許庁 / 特許	搬送方法 FI分類-B25J 13/00 Z, FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N
2014年11月14日特許庁 / 特許	基板組立装置とそれを用いた基板組立方法 FI分類-G02F 1/13 101
2014年10月31日特許庁 / 特許	レジストパターン形成装置およびレジストパターン形成方法 FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 571
2014年10月30日特許庁 / 特許	支持体分離方法 FI分類-B23K 26/57, FI分類-H01L 21/68 N
2014年09月09日特許庁 / 特許	紫外線照射装置、紫外線照射方法、基板処理装置、及び基板処理装置の製造方法 FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 527, FI分類-H01L 21/30 571
2014年04月22日特許庁 / 特許	プラグバルブ、液体供給方法、液体供給装置、および塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-F16K 3/22 Z, FI分類-F16K 5/06 E
2014年03月24日特許庁 / 特許	貼付方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 N
2014年03月11日特許庁 / 特許	塗布装置、基板処理装置、塗布方法及び基板処理方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2014年02月25日特許庁 / 特許	ノズルおよび塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2014年02月13日特許庁 / 特許	貼付方法 FI分類-B30B 15/32, FI分類-B30B 15/34 A, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N

AIメカテック株式会社の商標情報(5件)

日付公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年03月15日特許庁 / 商標	§AIMECHATEC 07類
2016年05月27日特許庁 / 商標	§AIMECHATEC 07類, 09類, 37類
2016年05月13日特許庁 / 商標	AIMECHATEC 07類, 09類, 37類
2016年04月19日特許庁 / 商標	AIメカテック 07類, 09類, 37類
2016年04月19日特許庁 / 商標	アイメカテック 07類, 09類, 37類

AIメカテック株式会社の意匠情報(1件)

日付公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年11月30日特許庁 / 意匠	スピンチャック意匠新分類-K719200

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カガミクリスタル株式会社

法人番号:2050001025188 / 更新:2025年07月24日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台4丁目5番地

竜ヶ崎フードワークス株式会社

法人番号:8050001025414 / 更新:2018年07月18日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台1丁目7番

ダイライト株式会社

法人番号:3050001025294 / 更新:2018年06月14日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台4丁目4番地

株式会社三巴ゴム工業所

法人番号:4050001025376 / 更新:2018年05月28日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台2丁目1番1号(つくばの里工業団地内)

クボタベンディングサービス株式会社

法人番号:4050001025789 / 更新:2018年04月04日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台5丁目6番

株式会社クボタ関東ベンダーセンター

法人番号:7050001025803 / 更新:2016年08月23日
所在地:茨城県龍ケ崎市向陽台5丁目6番

前の法人:株式会社タイジフーズ次の法人:株式会社ハーケン

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