法人番号:6130001003272
株式会社SCREENホールディングス
情報更新日:2024年08月31日
株式会社SCREENホールディングスとは
株式会社SCREENホールディングス（スクリーンホールディングス）は、法人番号:6130001003272で京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1に所在する法人として京都地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役廣江敏朗。設立日は1943年10月11日。資本金は540億4,400万円。従業員数は529人。登録情報として、調達情報が2件、表彰情報が4件、届出情報が2件、特許情報が1,856件、商標情報が75件、意匠情報が5件、職場情報が1件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2018年07月13日です。
インボイス番号:T6130001003272については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は京都労働局。京都上労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
株式会社SCREENホールディングスの基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 株式会社SCREENホールディングス |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | スクリーンホールディングス |
| 法人番号 | 6130001003272 |
| 会社法人等番号 | 1300-01-003272 |
| 登記所 | 京都地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T6130001003272 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒602-0000 ※地方自治体コードは 26102 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 京都府 ※京都府の法人数は 112,269件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 京都市上京区 ※京都市上京区の法人数は 5,857件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | キョウトフキョウトシカミギョウクテンジンキタマチ |
| 代表者 | 代表取締役 廣江 敏朗 |
| 設立日 | 1943年10月11日 |
| 資本金 | 540億4,400万円 (2024年06月25日現在) |
| 従業員数 | 529人 (2024年09月16日現在) |
| ホームページHP | http://www.screen.co.jp/ |
| 更新年月日更新日 | 2018年07月13日 |
| 変更年月日変更日 | 2015年10月05日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 京都労働局 〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 京都上労働基準監督署 〒604-8467 京都府京都市中京区西ノ京大炊御門町19-19 |
株式会社SCREENホールディングスの場所
株式会社SCREENホールディングスの補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | カブシキガイシャスクリーンホールディングス |
| 企業名 英語 | SCREEN Holdings Co., Ltd. |
| 上場・非上場 | 上場 |
| 資本金 | 540億4,400万円 |
| 業種 | 電気機器 |
| 証券コード | 77350 |
株式会社SCREENホールディングスの登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「株式会社SCREENホールディングス」で、「京都府京都市上京区堀川通寺之内上る四丁目天神北町1番地の1」に新規登録されました。 |
株式会社SCREENホールディングスの法人活動情報
株式会社SCREENホールディングスの調達情報(2件)
| 期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
|---|---|
2023年08月01日 | 衛星光通信用次世代補償光学デバイスの研究開発 121,200,000円 |
2017年06月26日 | エネルギー・環境新技術先導プログラム 更なる省エネ照明社会の実現に資するIoTステーション 7,128,000円 |
株式会社SCREENホールディングスの表彰情報(4件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2024年09月16日 | 次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2021 |
2023年04月18日 | 知財功労賞(知的財産権制度活用優良企業等表彰) 知財活用企業(特許) 知的財産権制度を有効に活用しその発展に寄与した企業等 |
2017年12月04日 | 女性の活躍推進企業 |
2017年12月04日 | 両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表 |
株式会社SCREENホールディングスの届出情報(2件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:株式会社SCREENホールディングス 野洲事業所 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣) |
- | 代表者:代表取締役 廣江 敏朗 全省庁統一資格 / - |
株式会社SCREENホールディングスの特許情報(1856件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年06月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2022年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2022年08月24日 特許庁 / 特許 | 塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02 |
2022年07月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2022年06月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2022年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2022年03月22日 特許庁 / 特許 | 現像装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2022年03月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2022年02月22日 特許庁 / 特許 | 制御パラメータ調整方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D |
2022年02月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 502 J, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2022年01月25日 特許庁 / 特許 | パラメータ最適化方法、プログラム、記録媒体および基板処理装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-F04B 49/06 311, FI分類-G06N 99/00 180 |
2022年01月25日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 25/00 A |
2022年01月24日 特許庁 / 特許 | 処理チャンバおよび基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 D |
2021年10月21日 特許庁 / 特許 | 現像装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2021年09月13日 特許庁 / 特許 | 膜電極接合体、水素製造装置、触媒インクの製造方法、および膜電極接合体の製造方法 FI分類-C25B 1/04, FI分類-C25B 9/23, FI分類-C25B 11/052, FI分類-C25B 11/091, FI分類-C25B 11/095, FI分類-C25B 9/00 A |
2021年09月10日 特許庁 / 特許 | 触媒インクの製造方法、および膜電極接合体の製造方法 FI分類-H01M 4/92, FI分類-H01M 4/86 M, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/10 101 |
2021年09月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D |
2021年08月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567 |
2021年08月20日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置、減圧乾燥方法およびプログラム FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 9/06 Z, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 567 |
2021年06月30日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/12, FI分類-H05B 33/10, FI分類-F26B 25/00 A, FI分類-H05B 33/14 A |
2021年06月24日 特許庁 / 特許 | スリットノズル、スリットノズルの調整方法および基板処理装置 FI分類-B05C 5/02 |
2021年03月19日 特許庁 / 特許 | ガス拡散層付膜電極接合体およびその製造方法 FI分類-H01M 4/86 M, FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2021年03月08日 特許庁 / 特許 | 膜電極接合体および膜電極接合体の製造方法 FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2021年03月03日 特許庁 / 特許 | 給液装置、塗布装置、エージング装置、給液方法、およびエージング方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B01D 61/00, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B01D 19/00 H, FI分類-B01D 29/00 D, FI分類-B01D 19/00 101, FI分類-B05D 7/24 301 K, FI分類-B01D 29/10 510 E, FI分類-B01D 29/10 530 A |
2021年02月26日 特許庁 / 特許 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 A, FI分類-B05D 3/10 F |
2021年02月22日 特許庁 / 特許 | ノズル洗浄装置、ノズル洗浄方法および塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z |
2021年01月29日 特許庁 / 特許 | 画像形成装置および画像形成方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305 |
2021年01月22日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置、現像装置および現像方法 FI分類-B65G 13/04, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2020年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、洗浄ユニット、および、多連弁洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2020年12月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および管理方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 451 |
2020年12月21日 特許庁 / 特許 | ノズル洗浄装置および塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10 |
2020年12月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2020年12月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/316 S, FI分類-H01L 21/318 A |
2020年11月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/308 E, FI分類-H01L 27/11556, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371 |
2020年11月30日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置 FI分類-F26B 5/04 |
2020年11月09日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 2/165, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401 |
2020年11月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/302 101 G |
2020年10月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F, FI分類-H01L 21/304 648 B |
2020年10月01日 特許庁 / 特許 | 配線データ生成装置、描画システムおよび配線データ生成方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G06F 17/50 658 M |
2020年09月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/324 K |
2020年09月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および断熱部材 FI分類-H01L 21/02 Z |
2020年09月23日 特許庁 / 特許 | 描画装置 FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562 |
2020年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 Z, FI分類-H01L 21/30 562 |
2020年09月23日 特許庁 / 特許 | 描画システム FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年09月23日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷システム FI分類-B41J 2/01, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置および乾燥方法 FI分類-F26B 13/14, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-B65H 20/10 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 K |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 真空処理装置 FI分類-H01L 21/68 K |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置、および、基板保持方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 201 B |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置およびそれを備える基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 E, FI分類-H01L 21/304 644 F, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 E, FI分類-H01L 21/304 644 F, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2020年09月18日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G01N 21/64 F |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 導電装置およびローラコンベア装置 FI分類-B65G 13/11, FI分類-H01L 21/68 A |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 現像装置および現像方法 FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 現像装置および現像方法 FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 移動装置、移動方法および印刷装置 FI分類-B41J 2/01 301 |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2020年09月17日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05C 5/00 101 |
2020年09月15日 特許庁 / 特許 | 細胞計測プレート FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 27/30 F, FI分類-G01N 27/416 341 M |
2020年09月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2020年09月09日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、情報処理システムおよび情報処理方法 FI分類-G06N 10/00, FI分類-G06N 20/00 |
2020年08月31日 特許庁 / 特許 | 大気圧プラズマ源、および、基板処理装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年08月31日 特許庁 / 特許 | 撮像システム FI分類-G01N 21/64 E, FI分類-G01N 21/17 630 |
2020年08月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2020年08月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/04, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2020年08月19日 特許庁 / 特許 | インクジェットヘッドと制御基板との接続構造及びそれを用いた印刷装置 FI分類-B41J 2/14 611 |
2020年08月18日 特許庁 / 特許 | スケジュール作成方法およびスケジュール作成装置 FI分類-H01L 21/02 Z |
2020年08月18日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥装置の制御方法 FI分類-F26B 13/10 D, FI分類-F26B 21/04 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 301 |
2020年08月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J |
2020年08月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 J |
2020年07月22日 特許庁 / 特許 | 位置検出装置、描画システムおよび位置検出方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年07月22日 特許庁 / 特許 | 塗布装置 FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2020年07月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2020年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理監視に用いる設定情報の設定方法、基板処理装置の監視方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年06月25日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置、外観検査装置、画像処理方法、およびプログラム FI分類-G06T 7/00 350 B |
2020年06月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理液 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年06月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N |
2020年06月19日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-G06T 7/00 614, FI分類-G01N 21/17 620 |
2020年06月19日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G06T 7/00 614, FI分類-G01N 21/17 620 |
2020年06月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、および、学習済モデル FI分類-G06N 20/00 130, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年05月29日 特許庁 / 特許 | 周縁部塗布装置および周縁部塗布方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/12 Z, FI分類-B05D 7/00 P, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2020年05月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、及び学習済モデル FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2020年05月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年05月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-G05B 11/36 J, FI分類-G05D 23/00 F, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 571 |
2020年05月19日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、および、学習済モデル FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、学習用データの生成方法、学習方法、学習装置、学習済モデルの生成方法、および、学習済モデル FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 A, FI分類-H01L 21/304 645 B, FI分類-H01L 21/304 645 D |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G01N 21/17 630 |
2020年04月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理用の処理液の交換方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2020年04月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R |
2020年04月23日 特許庁 / 特許 | 学習用データ処理装置、学習装置、学習用データ処理方法、およびプログラム FI分類-G06N 3/08, FI分類-G06N 20/00, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2020年04月17日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置およびそれを備える基板搬送装置 FI分類-B25J 9/06 D, FI分類-H01L 21/68 B, FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2020年04月14日 特許庁 / 特許 | 臓器収容容器 FI分類-A61B 46/20, FI分類-A61B 50/30 |
2020年04月06日 特許庁 / 特許 | 光学装置および3次元造形装置 FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G02B 26/10 104 Z |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 J, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年04月01日 特許庁 / 特許 | 合焦位置検出方法、合焦位置検出装置および合焦位置検出用プログラム FI分類-G02B 7/36, FI分類-G03B 13/36, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G02B 7/28 J, FI分類-G02B 7/28 N, FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-H04N 5/232 120, FI分類-H04N 5/232 133 |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | エッチング方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 G, FI分類-H01L 21/308 D |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2020年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 F, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2020年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-F26B 7/00, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年03月30日 特許庁 / 特許 | 印刷システム FI分類-B42C 11/02, FI分類-B42C 19/02, FI分類-B65H 39/075, FI分類-G06F 3/12 304, FI分類-G06F 3/12 337, FI分類-G06F 3/12 382, FI分類-B41J 29/38 201 |
2020年03月30日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびその端部センサの異常検出方法 FI分類-B65H 7/14, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2020年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-G01B 11/00 D, FI分類-H01L 21/68 G |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月25日 特許庁 / 特許 | 3次元造形装置 FI分類-B22F 3/16, FI分類-B22F 3/105, FI分類-B33Y 30/00, FI分類-B33Y 50/02, FI分類-B29C 64/153, FI分類-B29C 64/264, FI分類-B29C 64/393, FI分類-G02B 26/10 104 Z |
2020年03月25日 特許庁 / 特許 | 3次元造形装置 FI分類-B22F 3/16, FI分類-B22F 3/105, FI分類-B33Y 30/00, FI分類-B33Y 50/02, FI分類-B29C 64/153, FI分類-B29C 64/264, FI分類-B29C 64/393, FI分類-G02B 26/10 104 Z |
2020年03月25日 特許庁 / 特許 | インク吐出補完方法、印刷装置 FI分類-B41J 2/01 205, FI分類-B41J 2/01 207 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/465, FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/308 E |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 描画装置、データ処理装置、描画方法、および描画データ生成方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置および画像記録方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置及びその制御方法 FI分類-F26B 13/08 A, FI分類-F26B 23/04 B, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 29/38 206, FI分類-B41J 29/38 301 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 基材搬送装置、印刷装置、塗工装置および基材ロール径取得方法 FI分類-B65H 26/08, FI分類-B65H 43/00 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-G01B 11/02 G, FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/306 R |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 光変調器の検査方法および検査装置 FI分類-G01M 11/00 T, FI分類-G02B 26/02 A |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 光変調器の検査方法および検査装置 FI分類-G02B 26/02, FI分類-G01M 11/00 T |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B65H 20/02 A, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-B41J 2/01 305 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | 処理液温調方法、基板処理方法、処理液温調装置、及び、基板処理システム FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 G, FI分類-H01L 21/306 J |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 FI分類-F26B 13/10 D, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、印刷システムおよび乾燥方法 FI分類-F26B 13/08, FI分類-F26B 13/10 D, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷システムおよび印刷方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 調整方法および印刷装置 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 26/00, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 画像検査装置、印刷装置、および撮像画像の保存処理方法 FI分類-G06N 20/00, FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G01N 21/892 A, FI分類-B41J 29/393 105 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 細胞保持容器 FI分類-C12M 1/34 D, FI分類-G01N 27/00 Z |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/17 207 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 印刷方法および印刷装置 FI分類-B65B 57/00 A, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/165 209 |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/316 S, FI分類-H01L 21/318 A, FI分類-H01L 21/318 C |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月16日 特許庁 / 特許 | 異常検知方法および搬送装置 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 26/02, FI分類-G05B 23/02 302 Y |
2020年03月11日 特許庁 / 特許 | 検査装置、検査方法、プログラム、学習装置、学習方法、および学習済みデータセット FI分類-G01N 21/85 A, FI分類-G01N 21/88 Z |
2020年03月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理液、基板処理方法および基板処理装置 FI分類-C23F 1/26, FI分類-C23F 1/38, FI分類-H01L 21/308 F |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 G |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-B41J 29/46 Z, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 29/38 302 |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | 処理装置と切換バルブユニット FI分類-F16K 1/34 A, FI分類-F16K 1/44 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | 学習装置、画像検査装置、学習済みパラメータ、学習方法、および画像検査方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 1/00 300, FI分類-G06T 7/00 350 C, FI分類-G06T 7/00 610 Z |
2020年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年03月06日 特許庁 / 特許 | 増幅回路 FI分類-H03F 1/34, FI分類-H03F 1/42, FI分類-H03K 19/0944, FI分類-H01L 27/092 C, FI分類-H01L 27/06 102 A, FI分類-H01L 29/78 613 A, FI分類-H01L 27/088 331 E |
2020年03月03日 特許庁 / 特許 | 描画装置 FI分類-G03F 7/20 505 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 651 A |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 153, FI分類-B41J 2/175 301, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 類似度算出装置、類似度算出プログラム、および、類似度算出方法 FI分類-G06F 40/247 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 印刷方法 FI分類-B41J 5/30 Z, FI分類-G06F 3/12 303, FI分類-G06F 3/12 340, FI分類-G06F 3/12 341, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-G06F 3/12 355, FI分類-G06F 3/12 356, FI分類-G06F 3/12 360, FI分類-G06F 3/12 387, FI分類-B41J 29/38 201 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B08B 1/04, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 G |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2020年02月27日 特許庁 / 特許 | RIPシミュレーション装置およびRIPシミュレーションプログラム FI分類-G06F 3/12 303, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-G06F 3/12 356, FI分類-H04N 1/00 350 |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | 学習装置、画像検査装置、プログラム、および学習方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 7/00 610, FI分類-G06N 20/00 130, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02 |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年02月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/318 C |
2020年02月21日 特許庁 / 特許 | 配線パターン生成装置、描画システム、配線パターン生成方法および配線パターン生成プログラム FI分類-H05K 3/00 D, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2020年02月14日 特許庁 / 特許 | パラメータ更新装置、分類装置、パラメータ更新プログラム、および、パラメータ更新方法 FI分類-G06N 3/08 |
2020年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/31 A, FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2020年02月14日 特許庁 / 特許 | 臓器収容容器 FI分類-A61B 46/20, FI分類-A61J 1/00 Z |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | エッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/26, FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/26, FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 562 |
2020年02月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2020年02月06日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷装置のメンテナンス方法 FI分類-B41J 2/17, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 203 |
2020年02月03日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/31 E |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-G05D 7/06 B, FI分類-G01F 1/66 101, FI分類-G01F 1/66 103, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | プラズマ発生装置および基板処理装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-A01G 7/04 A, FI分類-H01L 21/30 572 A, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2020年01月31日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置、網点画像生成装置、印刷システムおよび画像処理方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/205, FI分類-B41J 2/525, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G06T 5/00 735, FI分類-H04N 1/60 770, FI分類-H04N 1/405 512 |
2020年01月30日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および搬送方法 FI分類-G05B 11/36 D, FI分類-G05B 13/02 A, FI分類-G05B 13/02 L, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 N |
2020年01月30日 特許庁 / 特許 | 処理条件特定方法、基板処理方法、基板製品製造方法、コンピュータープログラム、記憶媒体、処理条件特定装置、及び、基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R |
2020年01月30日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置およびプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 23/02 301 U |
2020年01月30日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置およびプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 23/02 301 U |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置、画像処理システムおよび画像処理方法 FI分類-G01N 33/48 M, FI分類-G06T 1/00 295 |
2020年01月29日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体の製造装置および製造方法 FI分類-B29C 65/44, FI分類-B26D 5/30 A, FI分類-B26F 1/00 G, FI分類-B26F 1/40 B, FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/0286, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2020年01月28日 特許庁 / 特許 | ステージ姿勢推定装置、搬送装置、およびステージ姿勢推定方法 FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年01月23日 特許庁 / 特許 | エージング装置、処理システム、およびエージング方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-B01D 39/00 Z |
2020年01月22日 特許庁 / 特許 | ノズル清掃装置、塗布装置、ノズル清掃方法、および、スクレーパー FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2020年01月17日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101 |
2020年01月15日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10 |
2020年01月10日 特許庁 / 特許 | 搬送処理装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 45/22 B |
2020年01月10日 特許庁 / 特許 | 搬送処理装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 45/22 A, FI分類-B65G 45/22 B |
2020年01月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 A |
2019年12月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2019年12月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 5/04, FI分類-H01L 21/68 N |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | エッジ露光装置およびエッジ露光方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および錠剤印刷装置 FI分類-B65B 35/08, FI分類-B65B 35/40, FI分類-B65B 35/56, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 47/84 C |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置、および、熱処理方法 FI分類-G01J 5/28, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-G01J 5/00 101 C, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 配管洗浄方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2019年12月23日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置、基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年12月19日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10 |
2019年12月09日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置におけるヘッドの高さ傾き検出方法 FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年12月09日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年12月04日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H05K 13/00 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2019年12月04日 特許庁 / 特許 | エッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A |
2019年11月29日 特許庁 / 特許 | 三次元形状計測装置および三次元形状計測方法 FI分類-G01B 11/25 H |
2019年11月29日 特許庁 / 特許 | 現像装置 FI分類-B05B 7/04, FI分類-B05C 11/08, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2019年11月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置、およびレシピ選択方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年11月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年11月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年11月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2019年11月25日 特許庁 / 特許 | 基板支持装置、熱処理装置、基板支持方法、熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2019年11月19日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法およびその方法を含んだ半導体の製造方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年11月18日 特許庁 / 特許 | 温度測定装置、温度測定システム、および温度測定装置を用いた温度測定方法 FI分類-G01K 1/02 E, FI分類-G01K 1/14 L, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 566 |
2019年11月18日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体の製造装置および製造方法 FI分類-B29C 65/00, FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体の製造装置および製造方法 FI分類-B29C 65/48, FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年11月15日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体の製造方法および製造装置、サブガスケット付膜電極接合体 FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/0286, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年11月12日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/17 103 |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | チャックピン、基板処理装置、基板処理システム FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年11月05日 特許庁 / 特許 | サセプタの製造方法、サセプタおよび熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年10月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/30 562 |
2019年10月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/306 U |
2019年10月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 D |
2019年10月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 645 B |
2019年10月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 Z |
2019年10月21日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | 色変換テーブル作成方法、印刷方法、色変換方法、および色変換テーブル作成プログラム FI分類-G06T 1/00 510, FI分類-H04N 1/60 300 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 26/04, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | 印刷装置におけるテンション調整方法および印刷装置 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 23/188 |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置およびブラシ収納容器 FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 Z |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及び印刷方法 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B65H 26/02, FI分類-B65H 43/04, FI分類-B65H 23/032, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G03G 21/00 500 |
2019年09月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置における調整方法および印刷装置 FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/015 101 |
2019年09月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置、熱処理システムおよび熱処理方法 FI分類-F27B 17/00 B, FI分類-F27D 19/00 A, FI分類-H01L 21/02 Z |
2019年09月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 A |
2019年09月24日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2019年09月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-G03F 7/42 |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 凹版印刷用スキージ装置および印刷装置 FI分類-B41F 3/36, FI分類-B41F 3/38, FI分類-B41F 3/81, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41F 17/14 E |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷装置における液体循環方法 FI分類-B41J 2/18, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 203, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 503 |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-B25J 15/06 M, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-B65G 49/07 G, FI分類-H01L 21/68 C |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B25J 15/06 M, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-B65G 49/07 G, FI分類-H01L 21/68 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 撮像装置 FI分類-G01N 21/89 Z |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置および基板搬送装置のハンドの位置補正方法 FI分類-B25J 9/22 A, FI分類-G05B 19/19 H, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G05B 19/4155 V |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02 |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 塗布装置、高さ検出方法および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 印刷装置およびインク循環方法 FI分類-B41J 2/18, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 101 |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 学習装置、検査装置、学習方法および検査方法 FI分類-G06N 20/00, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 B, FI分類-G06T 7/00 350 C, FI分類-G06T 7/00 610 B |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 参照画像生成装置、検査装置、アライメント装置および参照画像生成方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 7/00 610, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | プラズマ発生装置 FI分類-H05H 1/26 |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年09月19日 特許庁 / 特許 | 学習装置、検査装置、アライメント装置および学習方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 7/00 350 C, FI分類-G06T 7/00 610 C |
2019年09月18日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物、化粧品組成物及びインクジェット用インク組成物 FI分類-A61K 8/29, FI分類-A61K 8/34, FI分類-A61K 8/81, FI分類-A61Q 1/02, FI分類-C09C 1/36, FI分類-C09C 3/10, FI分類-A61Q 17/04, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09D 11/326 |
2019年09月17日 特許庁 / 特許 | 撮像装置、画像取得方法および検査装置 FI分類-G01N 21/88 Z |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | ノズル内部における気液界面の検出方法および基板処理装置 FI分類-G06T 7/11, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G01N 21/85 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/30 564 |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 印刷方法および印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 Z |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、及び、半導体製造方法 FI分類-H01L 21/306 R |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-G06T 7/00 610 Z, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 搬送処理装置および搬送処理方法 FI分類-B07C 5/342, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 47/08 D, FI分類-B65G 47/52 B |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | インク供給部、印刷装置、および錠剤印刷装置 FI分類-B41J 2/19, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/175 143, FI分類-B41J 2/175 503 |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | 搬送処理装置および搬送処理方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B41M 1/40 Z |
2019年09月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | 臓器収容容器 FI分類-A61B 46/20 |
2019年09月11日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/12 Z |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/316 Y |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-C23F 1/02, FI分類-C23F 1/08 103, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板搬送方法 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B08B 3/10 Z, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 半導体装置形成方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 E, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371 |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | ステージ姿勢推定装置、搬送装置、ステージ姿勢推定方法、および搬送方法 FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 501 |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | 導電装置およびローラコンベア装置 FI分類-B65G 39/00 Z, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2019年08月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/314 A, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2019年08月23日 特許庁 / 特許 | パターン形成方法およびその方法を含んだ半導体の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 573 |
2019年08月22日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2019年08月21日 特許庁 / 特許 | 描画方法、および、描画装置 FI分類-G03F 7/22 Z |
2019年08月21日 特許庁 / 特許 | 加熱部材の清浄方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2019年08月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 E, FI分類-H01L 21/304 642 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年08月19日 特許庁 / 特許 | 基板の偏芯低減方法およびティーチング装置 FI分類-H01L 21/68 F |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 教師データ生成方法および吐出状態の判定方法 FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B41J 2/01 207 |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理装置の洗浄方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 色合わせ方法および色合わせプログラム FI分類-B41J 2/21, FI分類-H04N 1/50, FI分類-B41J 29/42 F, FI分類-B41J 2/01 205, FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/165 201, FI分類-B41J 29/393 107 |
2019年08月09日 特許庁 / 特許 | 固体製剤及び固体製剤への印刷方法 FI分類-A61K 9/30, FI分類-A61K 9/32, FI分類-A61K 9/34, FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 47/08, FI分類-A61K 47/10, FI分類-A61K 47/14, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61K 47/44, FI分類-C09D 11/36, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 120 |
2019年08月07日 特許庁 / 特許 | 処理システム FI分類-B25J 9/06 D, FI分類-H01L 21/68 A |
2019年08月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年07月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年07月25日 特許庁 / 特許 | 灌流装置 FI分類-A01N 1/02 |
2019年07月24日 特許庁 / 特許 | 追加露光装置およびパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 501 |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2019年07月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | 膜電極接合体の製造装置、および、その製造方法 FI分類-H01M 8/04 Z, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体の製造方法およびその製造装置、並びに、サブガスケット基材 FI分類-B26D 3/08 Z, FI分類-H01M 8/0273, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | サブガスケット付膜電極接合体製造装置およびサブガスケット付膜電極接合体の製造方法 FI分類-H01M 8/02, FI分類-H01M 8/0286, FI分類-H01M 8/10 101 |
2019年07月17日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2019年07月16日 特許庁 / 特許 | 継ぎ目補正方法および継ぎ目補正装置 FI分類-B41C 1/00, FI分類-B41M 1/30, FI分類-B41M 1/34, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41M 1/40 Z |
2019年07月08日 特許庁 / 特許 | 描画装置 FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年07月04日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 574, FI分類-H01L 21/30 575, FI分類-H01L 21/30 502 J, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年06月27日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 9/48, FI分類-C09D 11/30, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120, FI分類-B41M 5/00 134 |
2019年06月27日 特許庁 / 特許 | 画像判別モデル構築方法、画像判別装置、および画像判別方法 FI分類-H04N 1/387 110, FI分類-G06T 1/00 310 A, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2019年06月26日 特許庁 / 特許 | フレームおよび臓器保持具 FI分類-A01N 1/02, FI分類-F16C 11/06 Z |
2019年06月25日 特許庁 / 特許 | 細胞電位測定装置 FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 27/00 Z, FI分類-G01N 27/416 341 M |
2019年06月25日 特許庁 / 特許 | 補正方法、補正装置および撮像装置 FI分類-G01N 21/17 625 |
2019年06月25日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B65G 47/86 F |
2019年06月24日 特許庁 / 特許 | 検査装置 FI分類-G01N 21/85 A |
2019年06月20日 特許庁 / 特許 | 検査装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-G01N 21/85 A |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システム及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | AlNバッファー層を備えるテンプレート基板および窒化物半導体素子ならびにそれらの製造方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C30B 25/18, FI分類-H01L 33/32, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-C30B 29/38 C |
2019年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年05月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 昇華性物質含有液の製造方法、基板乾燥方法、および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 A, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2019年05月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 A, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | データ収集方法、学習方法、データ収集システムおよび学習システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H04Q 9/00 301 Z, FI分類-H04Q 9/00 311 K |
2019年05月20日 特許庁 / 特許 | ステージ姿勢把握装置、ステージ移動装置、ステージ姿勢把握方法、およびステージ姿勢修正方法 FI分類-G05D 3/10 Z, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年05月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年05月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年05月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/302 201 |
2019年05月14日 特許庁 / 特許 | 現像方法および現像装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年05月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 567 |
2019年04月26日 特許庁 / 特許 | 印刷版位置決め装置および画像記録装置 FI分類-B41C 1/00, FI分類-G03F 7/24 G, FI分類-G03F 9/00 G, FI分類-G03F 7/20 511 |
2019年04月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、半導体製造方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年04月25日 特許庁 / 特許 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/54 F |
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | 薬効評価方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G01N 33/50 Z, FI分類-G01N 33/483 C, FI分類-G06T 7/00 630 |
2019年04月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2019年04月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年04月18日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 3/00 C |
2019年04月18日 特許庁 / 特許 | 処理液調製装置、基板処理装置、処理液調製方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2019年04月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 G |
2019年04月11日 特許庁 / 特許 | 有機薄膜トランジスタ用の電極形成方法および電極形成装置ならびに有機薄膜トランジスタの製造方法 FI分類-H01L 21/28 Z, FI分類-H01L 29/50 M, FI分類-H01L 29/28 370, FI分類-H01L 21/28 301 B, FI分類-H01L 29/28 100 A, FI分類-H01L 29/78 616 K, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 626 C |
2019年04月09日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/22 P, FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/225 R |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 画像形成装置、画像形成方法およびプログラム FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/06 D, FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 401 |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 基材処理方法 FI分類-B65H 7/14, FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B65H 23/038 Z |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および検出方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 23/188, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 三次元造形物の製造装置及び三次元造形物の製造方法 FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 30/00, FI分類-B33Y 50/02, FI分類-B29C 64/153, FI分類-B29C 64/268, FI分類-B29C 64/393 |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 色予測方法および色予測プログラム FI分類-G01J 3/50, FI分類-G06T 1/40, FI分類-G06T 1/00 510 |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置およびその搬送制御方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 21/14, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及びその印刷方法 FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-F26B 13/18 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | ウェブ乾燥装置 FI分類-F26B 13/08 Z |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 閾値決定方法、画像処理方法、標本画像の評価方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-G06T 7/90 C, FI分類-G01N 33/48 M, FI分類-G01N 33/48 P, FI分類-G06T 7/00 630 |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 判定装置、判定方法、錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-G01N 21/85 A |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2019年03月22日 特許庁 / 特許 | 画像形成装置、画像形成方法およびプログラム FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/01 401 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 同義語判定方法、同義語判定プログラム、および、同義語判定装置 FI分類-G06F 16/35, FI分類-G06F 16/36, FI分類-G06F 17/27 695 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 文字列検索装置、文字列検索方法、および、文字列検索プログラム FI分類-G06F 16/58, FI分類-G06F 16/532, FI分類-G06K 9/00 S |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および乾燥方法 FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、半導体製造方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/306 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 645 D |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 F, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 洗浄ヘッド、センタブラシ、外周ブラシ、基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 644 C |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 Z |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置における対象物の搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法 FI分類-H02P 8/14, FI分類-H02P 8/24, FI分類-H02P 8/36, FI分類-F16K 31/04 Z, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | オーバーレイ計測装置およびオーバーレイ計測方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理装置の配管洗浄方法 FI分類-B08B 9/032 325, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2019年03月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B65G 49/07 K, FI分類-B65G 51/03 A, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2019年03月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置のスピンチャック FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | 校正支援方法および校正支援プログラム FI分類-G06Q 50/10, FI分類-B41J 21/00 Z |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置、および乾燥前処理液 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年03月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05D 1/30, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/12 Z, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2019年03月15日 特許庁 / 特許 | 処理条件選択方法、基板処理方法、基板製品製造方法、処理条件選択装置、コンピュータープログラム、および、記憶媒体 FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年03月14日 特許庁 / 特許 | 検査条件作成支援装置、検査条件作成支援方法、検査条件作成支援プログラムおよび記録媒体 FI分類-G01B 11/25 H, FI分類-G01N 21/88 J |
2019年03月14日 特許庁 / 特許 | 検査条件作成支援装置、検査条件作成支援方法、検査条件作成支援プログラムおよび記録媒体 FI分類-G01N 21/88 Z |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 645 D |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | ウェブ乾燥装置およびウェブ乾燥方法 FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-F26B 13/10 D, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2019年03月12日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-H05K 3/00 Q, FI分類-G01N 21/956 B |
2019年03月12日 特許庁 / 特許 | フォーカス調整方法、画像取得方法、および画像取得装置 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G02B 7/28 J, FI分類-G01N 21/17 A |
2019年03月12日 特許庁 / 特許 | 光学系調整方法、画像取得方法、および画像取得装置 FI分類-G02B 21/36, FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-C12M 1/34 Z, FI分類-G01N 21/27 A |
2019年03月11日 特許庁 / 特許 | 露光装置、露光方法およびプログラム FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年03月08日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/316 S |
2019年03月08日 特許庁 / 特許 | 灌流装置 FI分類-A01N 1/02 |
2019年03月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2019年03月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/324 Q, FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H01L 21/30 567 |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H01L 21/30 567 |
2019年03月01日 特許庁 / 特許 | 検査用デバイス FI分類-C12M 1/34 D, FI分類-G01N 27/04 Z |
2019年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理システム FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | 電極基板、測定装置および測定方法 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 27/04 Z |
2019年02月25日 特許庁 / 特許 | 撮像システム FI分類-C12M 1/04, FI分類-C12M 1/00 C, FI分類-C12M 1/34 D |
2019年02月22日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/84 C, FI分類-G01N 21/95 Z |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/68 N |
2019年02月18日 特許庁 / 特許 | 印刷装置およびインク供給方法 FI分類-B41J 2/19, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/175 117, FI分類-B41J 2/175 119, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 133, FI分類-B41J 2/175 309, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503 |
2019年02月18日 特許庁 / 特許 | 印刷装置およびインク供給方法 FI分類-B41J 2/175 111, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 301, FI分類-B41J 2/175 501 |
2019年02月15日 特許庁 / 特許 | 液処理装置および液処理方法 FI分類-B05B 1/04, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05B 1/14 Z, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2019年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板乾燥方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年02月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B |
2019年02月13日 特許庁 / 特許 | 生成装置、基板処理装置、及び基板処理方法 FI分類-H05H 1/26, FI分類-C01B 15/06, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2019年02月08日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/04 Z |
2019年02月08日 特許庁 / 特許 | モデルデータ生成方法、パターン測定方法、補正パターンデータ生成方法およびモデルデータ生成装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-G01N 21/956 A |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 搬送装置、露光装置および搬送方法 FI分類-F16C 29/02, FI分類-F16C 29/04, FI分類-B65G 51/03 E, FI分類-F16C 32/06 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、情報処理方法、情報処理プログラム、学習方法および学習済モデル FI分類-G06T 7/00 350 C, FI分類-G06T 7/00 610 C |
2019年01月29日 特許庁 / 特許 | ガス検知方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T |
2019年01月29日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/316 C, FI分類-H01L 21/316 X |
2019年01月29日 特許庁 / 特許 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 FI分類-H05K 3/00 Q, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 色予測方法および色予測プログラム FI分類-G01J 3/50, FI分類-B41J 2/525 |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2019年01月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-B08B 3/08 A, FI分類-B01J 19/08 E, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | パターン形成装置、パターン形成方法および吐出データ生成方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 H, FI分類-H05K 3/28 B, FI分類-B05C 5/00 101 |
2019年01月17日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物、インクジェット用水性インク組成物及び固体製剤 FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120 |
2019年01月15日 特許庁 / 特許 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 FI分類-C23C 16/52, FI分類-H05H 1/46 L |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 A |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および搬送モジュール FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 J |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 J, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 B |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、キャリア搬送方法およびキャリアバッファ装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | 色予測モデル構築方法、色予測方法、および色予測モデル構築プログラム FI分類-G01J 3/52, FI分類-G06N 3/04 154, FI分類-H04N 1/60 300 |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置およびフィルタの気泡抜き方法 FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年12月20日 特許庁 / 特許 | 細胞培養容器 FI分類-C12M 1/34 D |
2018年12月18日 特許庁 / 特許 | 両面塗工装置および塗膜形成システム FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/04, FI分類-B05C 9/14 |
2018年12月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/304 642 A |
2018年12月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2018年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年12月13日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/324 W |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 処理チャンバおよび基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 処理チャンバおよび基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置および塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/00, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年12月12日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年12月10日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置および印字不良検出方法 FI分類-B41J 2/14, FI分類-B41J 2/01 205, FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/01 305 |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | ワーク保持装置、印刷システムおよび印刷方法 FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41F 17/20 G |
2018年11月29日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置、基板処理装置および基板保持方法 FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/68 P |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 加熱装置および加熱方法 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 564 |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 電極保持部材 FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-G01N 27/04 Z |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2018年11月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B01D 19/02, FI分類-B01D 36/00, FI分類-B01D 19/00 H, FI分類-B01D 29/00 A, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2018年11月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 F, FI分類-H01L 21/306 R |
2018年11月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年11月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305 |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2018年11月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 C, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年11月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年11月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、3次元メモリデバイスの製造方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/302 201 A, FI分類-H01L 21/304 645 B |
2018年11月15日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記憶媒体 FI分類-G06T 7/12, FI分類-G06T 7/00 630 |
2018年11月12日 特許庁 / 特許 | エッチング方法およびエッチング装置 FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 104 Z, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2018年11月09日 特許庁 / 特許 | 基板乾燥方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2018年11月08日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置および基板搬送方法 FI分類-B25J 13/00 Z, FI分類-H01L 21/68 B |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年11月07日 特許庁 / 特許 | 処理カップユニットおよび基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2018年11月05日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | インクジェット用オーバーコート組成物及び印刷物 FI分類-C09D 11/38, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 134 |
2018年11月01日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 粒状物搬送装置および粒状物処理装置 FI分類-A61J 3/06 Q |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 303, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/14 501 |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 569 B, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年10月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年10月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | 描画方法および描画装置 FI分類-G03F 7/207 H, FI分類-G03F 7/207 Z, FI分類-G03F 7/20 505 |
2018年10月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2018年10月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年10月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年09月25日 特許庁 / 特許 | 三次元形状検査装置、三次元形状検査方法、三次元形状検査プログラム、コンピュータ FI分類-G06T 7/521, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-G01B 11/25 H, FI分類-G01B 11/30 A |
2018年09月25日 特許庁 / 特許 | 示温固体製剤 FI分類-A61K 47/44, FI分類-A61J 3/06 Q |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | スリットノズルおよび基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 補正方法およびインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/14, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-C12Q 1/04, FI分類-C12M 1/00 A, FI分類-C12M 1/34 Z, FI分類-G06T 7/254 A, FI分類-G06T 7/00 630 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-C12Q 1/04, FI分類-G06T 7/12, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G06T 7/00 630 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷システム、印刷方法 FI分類-B41J 2/18, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 501 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 臓器収容袋および移植方法 FI分類-C12N 1/04, FI分類-A61B 46/20, FI分類-A61K 35/12, FI分類-A61P 41/00, FI分類-A61L 27/36 100 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | インク供給部、印刷装置、錠剤印刷装置、およびインクパウチ FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/175 143, FI分類-B41J 2/175 153, FI分類-B41J 2/175 503 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインク供給方法 FI分類-B41J 2/175 115, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 309, FI分類-B41J 2/175 315, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびメンテナンス方法 FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/17 101, FI分類-B41J 2/175 501 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 印刷方法及び印刷装置 FI分類-B41J 2/52, FI分類-B41J 2/205, FI分類-H04N 1/405, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-G06T 1/00 310 Z |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 569 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 569 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/30 502 J |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および、基板処理装置の制御方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、位置合わせ装置および位置合わせ方法 FI分類-B25J 9/10 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/30 502 J |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 分類器構築方法、画像分類方法、分類器構築装置および画像分類装置 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 Z, FI分類-G06N 99/00 153, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 加熱装置および加熱方法 FI分類-H01L 21/50 J, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、および、データ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 23/02 301 N |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | データ処理方法およびデータ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | データ処理方法およびデータ処理プログラム FI分類-G06Q 50/04, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 23/02 302 T |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | データ処理方法およびデータ処理プログラム FI分類-G06N 3/04, FI分類-G06Q 10/04, FI分類-H01L 21/02 Z |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | レシピ表示装置、レシピ表示方法、およびレシピ表示プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-B05D 5/00 A, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-B05D 7/24 303 C, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 A |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 膜形成方法および膜形成装置 FI分類-B05C 9/06, FI分類-G03F 7/26, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/24 301 T, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および検出方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B65H 23/032 |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および検出方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B65H 23/032 |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | レシピ変換方法、レシピ変換プログラム、レシピ変換装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及びそのズレ量算出方法 FI分類-B41J 3/54, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 29/393 101 |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 3/54, FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 25/20, FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷システム、印刷方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/205, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41J 2/165 209 |
2018年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2018年09月18日 特許庁 / 特許 | 経路案内プログラム、経路案内装置、および経路案内システム FI分類-G01C 21/34, FI分類-G01C 21/26 P |
2018年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年09月14日 特許庁 / 特許 | 描画装置、及び描画方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年09月14日 特許庁 / 特許 | 処理装置、処理システム、および処理方法 FI分類-B01D 35/00, FI分類-B05C 11/00 |
2018年09月14日 特許庁 / 特許 | 供給装置、塗布装置、および供給方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B01D 63/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B01D 19/00 H, FI分類-B01D 61/00 500, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2018年09月14日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物、固体製剤の印刷画像の褪色抑制方法及び固体製剤 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/10, FI分類-A61K 47/26, FI分類-A61K 47/36, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法および基板処理のためのコンピュータプログラム FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年09月13日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年09月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 A, FI分類-B05D 3/12 E |
2018年09月06日 特許庁 / 特許 | 印刷方法 FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41F 3/20 C, FI分類-B41J 2/01 101, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100 |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | ステージ測定治具、塗布装置およびステージ測定方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | ゲート絶縁膜の形成方法および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/316 P, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 29/78 301 B, FI分類-H01L 29/78 301 G |
2018年08月30日 特許庁 / 特許 | ゲート絶縁膜の形成方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/316 P, FI分類-H01L 21/316 X |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 T |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 金属除去装置、基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、及びコンピュータープログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 検索装置、検索方法及び検索プログラム FI分類-G06F 17/30 110 C, FI分類-G06F 17/30 120 A |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/265 601 A |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 可動部位置検出方法、基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 G, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 J, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | p型窒化ガリウム系半導体の製造方法および熱処理方法 FI分類-H01L 21/265 601 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年08月27日 特許庁 / 特許 | 露光装置 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、処理液および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月22日 特許庁 / 特許 | 印刷方法および印刷装置 FI分類-B41F 3/58, FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41M 1/34, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41F 3/20 C, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41M 1/40 Z, FI分類-B41F 17/20 Z |
2018年08月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月20日 特許庁 / 特許 | 印刷方法および印刷装置 FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41M 1/14, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41F 3/20 C, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41F 17/20 G, FI分類-B41F 23/04 B |
2018年08月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置および基板処理システム FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年08月07日 特許庁 / 特許 | 印刷された固体製剤の製造方法、固体製剤の保管方法、固体製剤の印刷物、固体製剤の製造装置及び固体製剤の製造システム FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/10, FI分類-A61K 47/14, FI分類-A23L 5/00 A, FI分類-A23L 5/00 C, FI分類-A23L 5/00 Z, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/07 Q, FI分類-C09D 11/328, FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-B01D 8/00 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/265 601 A |
2018年08月01日 特許庁 / 特許 | インクセット、印刷方法及び印刷物 FI分類-C09D 11/30, FI分類-C09D 11/54, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120, FI分類-B41M 5/00 134 |
2018年07月31日 特許庁 / 特許 | 分類器生成方法および分類器生成装置 FI分類-G06N 99/00 153, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2018年07月30日 特許庁 / 特許 | 歪み補正方法および歪み補正装置 FI分類-B41C 1/00, FI分類-B41F 3/82, FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41M 1/40 Z, FI分類-B41F 17/20 Z, FI分類-G01B 11/16 H, FI分類-G06T 3/00 770, FI分類-B41F 33/00 290 |
2018年07月30日 特許庁 / 特許 | 臓器保存容器および灌流装置 FI分類-A01N 1/02, FI分類-B65D 81/38 D |
2018年07月27日 特許庁 / 特許 | 色予測方法、印刷データ生成方法、印刷データ生成装置、および色予測プログラム FI分類-B41J 2/21, FI分類-H04N 1/60, FI分類-G01J 3/46 Z, FI分類-G06T 1/00 510 |
2018年07月27日 特許庁 / 特許 | 刻印検査装置、刻印検査方法および物品検査装置 FI分類-G06K 9/00 S, FI分類-G01N 21/88 Z, FI分類-G06K 9/20 360 B, FI分類-G06T 7/00 610 C |
2018年07月27日 特許庁 / 特許 | 色予測方法 FI分類-H04N 1/54, FI分類-B41J 2/525, FI分類-G01J 3/46 Z, FI分類-H04N 1/60 160, FI分類-H04N 1/60 300, FI分類-B41F 33/00 280 |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置、基板処理装置および減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 21/10, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年07月24日 特許庁 / 特許 | 印刷システムおよび印刷方法 FI分類-B41M 1/34, FI分類-B41F 17/22, FI分類-B41M 1/40 Z, FI分類-B41F 17/20 Z |
2018年07月20日 特許庁 / 特許 | 描画装置および描画方法 FI分類-H05K 3/10 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年07月13日 特許庁 / 特許 | 基板エッチング方法 FI分類-H01L 21/306 L |
2018年07月13日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-F26B 3/30, FI分類-F26B 13/10 Z, FI分類-F26B 23/04 B, FI分類-B41J 2/01 121 |
2018年07月13日 特許庁 / 特許 | 塗布処理装置および塗布処理方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D |
2018年07月10日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-G06T 7/00 630 |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2018年07月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 基板熱処理装置及び基板熱処理方法 FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-G01J 5/00 101 C |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-G01J 5/00 101 C |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 5/16, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2018年06月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/16, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | 形状測定装置および形状測定方法 FI分類-G06T 7/521, FI分類-G01B 11/25 H, FI分類-G06T 7/00 610 B |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷システム FI分類-B65H 20/02, FI分類-B65H 23/32, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2018年06月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置のメンテナンス装置およびメンテナンス方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 A |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 645 C |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 補正方法、基板処理装置、及び基板処理システム FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年06月27日 特許庁 / 特許 | 補正方法、基板処理装置、及び補正データ生成装置 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/306 E |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | 錠剤および錠剤印刷装置 FI分類-A61K 9/44, FI分類-B41J 2/21, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-G06K 1/12 H, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-G06K 19/06 037, FI分類-G06K 19/06 140 |
2018年06月26日 特許庁 / 特許 | 処理液温度調整装置、基板処理装置、および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年06月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年06月22日 特許庁 / 特許 | 錠剤および錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q |
2018年06月22日 特許庁 / 特許 | マーク位置検出装置、描画装置およびマーク位置検出方法 FI分類-G03F 9/00, FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-H05K 3/00 J, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/20 505 |
2018年06月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2018年06月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2018年06月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2018年06月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理装置の雰囲気置換方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/318 A |
2018年06月18日 特許庁 / 特許 | チャック部材及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2018年06月15日 特許庁 / 特許 | 処理装置および処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 J |
2018年06月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年06月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年06月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年06月13日 特許庁 / 特許 | 半導体検査装置および半導体検査方法 FI分類-G01N 21/63 Z, FI分類-H01L 21/66 Q, FI分類-H01L 29/78 301 T |
2018年06月13日 特許庁 / 特許 | 無電解めっき方法、無電解めっき装置およびプログラム FI分類-C23C 18/34, FI分類-C23C 18/16 B, FI分類-C23C 18/31 E |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-F26B 5/04, FI分類-B05C 13/00, FI分類-B05C 15/00, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2018年05月30日 特許庁 / 特許 | 撮像装置 FI分類-G01N 21/954 Z |
2018年05月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年05月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年05月29日 特許庁 / 特許 | ヒューム判定方法、基板処理方法、および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | 検査装置及びそれを備えた印刷装置並びに読み取り装置 FI分類-B65H 27/00 A, FI分類-B65H 27/00 B, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G01N 21/892 A |
2018年05月22日 特許庁 / 特許 | フォトマスク検査装置およびフォトマスク検査方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A |
2018年05月21日 特許庁 / 特許 | 液中プラズマ発生装置および液体処理装置 FI分類-H05H 1/24, FI分類-C02F 1/48 B, FI分類-C02F 1/68 510 A, FI分類-C02F 1/68 520 B, FI分類-C02F 1/68 530 A, FI分類-C02F 1/68 540 E |
2018年05月11日 特許庁 / 特許 | 処理液吐出装置、処理液吐出方法、および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年05月11日 特許庁 / 特許 | 処理液吐出方法および処理液吐出装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/30 572 Z |
2018年05月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置、およびコンピュータプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年05月10日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/175, FI分類-B41J 2/175 111, FI分類-B41J 2/175 301, FI分類-B41J 2/175 501 |
2018年05月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、電力制御装置、基板処理方法および電力制御方法 FI分類-H02J 3/14, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H02J 3/00 170, FI分類-H02J 13/00 311 T |
2018年04月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2018年04月26日 特許庁 / 特許 | 液滴検査方法および液滴検査装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年04月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、遅延期間設定方法およびプログラム FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年04月23日 特許庁 / 特許 | 振動フィーダおよび印刷装置 FI分類-B65B 35/14, FI分類-B65G 47/14 101 A |
2018年04月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 A, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2018年04月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年04月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/16, FI分類-F26B 9/00 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年03月30日 特許庁 / 特許 | 潜像用水性インク前駆体組成物、その製造方法及び潜像用水性インク組成物 FI分類-A61K 47/44, FI分類-B41M 3/00 Z, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 112, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年03月29日 特許庁 / 特許 | 試料容器 FI分類-G01N 21/01 B, FI分類-G01N 21/03 Z, FI分類-G01N 21/17 630 |
2018年03月28日 特許庁 / 特許 | 前処理剤組成物、前処理剤組成物の製造方法、記録媒体、記録媒体の製造方法および記録方法 FI分類-C09D 7/20, FI分類-C09D 7/61, FI分類-C09D 11/30, FI分類-C09D 11/54, FI分類-C09D 201/00, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 112, FI分類-B41M 5/00 116, FI分類-B41M 5/00 120, FI分類-B41M 5/00 132 |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109 |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷装置における印刷媒体加熱方法 FI分類-F26B 3/20, FI分類-F26B 13/08 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 撮像方法および撮像装置 FI分類-G02B 21/26, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/17 A |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 A |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷装置における長尺印刷用紙搬送方法 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 23/14, FI分類-B41J 29/00 H, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理装置および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 光干渉断層撮像装置および光干渉断層撮像方法 FI分類-A61B 10/00 E, FI分類-G01N 21/17 630 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 合紙除去装置および合紙除去方法 FI分類-B65H 3/00 A, FI分類-B65H 3/08 310 A |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及びその排気方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置用のピトー管式流量計、基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年03月22日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および搬送方法 FI分類-B65B 35/44, FI分類-B65B 35/46, FI分類-B65G 47/52 B, FI分類-B65G 47/84 C |
2018年03月22日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置及びそれを備えたインクジェット印刷装置 FI分類-F26B 3/04, FI分類-B41J 11/00 Z, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-F26B 13/10 D, FI分類-F26B 21/00 B, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2018年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-F26B 21/00 C, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01M 4/139, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/12 A, FI分類-B05D 7/00 A, FI分類-H01M 4/04 Z, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/10 101 |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置を備えたシステムおよびPTP包装の製造方法 FI分類-B41J 2/01, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 116 |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | テキストマイニング方法、テキストマイニングプログラム、および、テキストマイニング装置 FI分類-G06F 17/30 170 A, FI分類-G06F 17/30 210 D, FI分類-G06F 17/30 220 Z |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | テキストマイニング方法、テキストマイニングプログラム、および、テキストマイニング装置 FI分類-G06F 17/30 170 A, FI分類-G06F 17/30 220 Z, FI分類-G06F 17/30 419 B |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | パターン描画装置およびパターン描画方法 FI分類-G03F 9/00, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年03月20日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置、基板処理装置および減圧乾燥方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 21/10 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 吻合補助具 FI分類-A61B 17/11 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 支持フィルム、貼り付け方法、膜・電極接合体の製造方法および製造装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/1023, FI分類-H01M 8/10 101 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、コンピュータプログラムおよび記録媒体 FI分類-G01N 33/48 M, FI分類-G01N 33/48 Z, FI分類-G06T 7/00 630 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 吻合補助具の本体部、および吻合補助具 FI分類-A61B 17/11 |
2018年03月15日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B65H 21/00, FI分類-B05D 7/00 N |
2018年03月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-F26B 21/00 H, FI分類-H01L 21/30 567 |
2018年03月14日 特許庁 / 特許 | 画像データ処理方法および印刷システム FI分類-B41J 2/205, FI分類-H04N 1/419, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | ノズルの検査方法、ノズルの検査装置、および印刷装置 FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/165 501 |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B65G 47/248 G |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41M 3/00 Z, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/52 100, FI分類-B65G 47/248 G |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B65G 47/248 G |
2018年03月12日 特許庁 / 特許 | 粒状物処理装置および粒状物処理方法 FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 47/248 G |
2018年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2018年03月07日 特許庁 / 特許 | 薬液制御弁および基板処理装置 FI分類-F16K 27/02, FI分類-F16K 1/44 B, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年03月07日 特許庁 / 特許 | 基板検査装置、基板処理装置および基板検査方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G06T 1/00 305 C |
2018年03月07日 特許庁 / 特許 | 基板検査装置、基板処理装置および基板検査方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G06T 5/00 725, FI分類-G06T 1/00 305 Z |
2018年03月07日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性コーティング組成物、印刷方法及び印刷物 FI分類-C09D 11/38, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/324 G |
2018年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H05B 3/62, FI分類-H01L 21/324 K |
2018年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/324 R, FI分類-H01L 21/324 T |
2018年03月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/324 K |
2018年03月05日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305 |
2018年03月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 B, FI分類-H01L 27/11556, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年03月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理システム FI分類-H01L 21/68 N |
2018年03月01日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物、使用方法及び印刷物 FI分類-C09D 11/32, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | シェーディング補正方法およびインクジェット印刷装置 FI分類-H04N 1/401, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 205, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 教師データ作成支援方法および教師データ作成支援装置 FI分類-G01N 21/956 A |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-G01N 1/22 B, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 E |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理装置における処理液排出方法、基板処理装置における処理液交換方法、基板処理装置における基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷装置におけるインク残量検出方法 FI分類-B41J 2/175 111, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 301, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503 |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 液体供給装置、基板処理装置および液体供給方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10 |
2018年02月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/14 301, FI分類-B41J 2/165 401 |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | 芯ズレ検出装置および芯ズレ検出方法 FI分類-G01B 11/27 H, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/954 Z |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | ポンプ装置および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-F04B 43/02 B, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年02月26日 特許庁 / 特許 | 光学ユニットおよび光学装置 FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年02月26日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷方法、隠蔽率補正用テーブルの作成方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/205, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年02月26日 特許庁 / 特許 | センタリング装置、センタリング方法、基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 A |
2018年02月23日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置のノズル動作状況確認方法及びインクジェット印刷装置並びにそのプログラム FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年02月23日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置、および、インクジェット印刷方法 FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 29/40 Z, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G06F 3/12 303, FI分類-G06F 3/12 351, FI分類-G06F 3/12 381, FI分類-B41J 2/165 209 |
2018年02月23日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 D |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 印刷データ生成装置、印刷データ生成方法、および印刷データ生成プログラム FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-G06F 3/12 306, FI分類-G06F 3/12 350, FI分類-G06F 3/12 351 |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | 印刷データ生成装置、印刷データ生成方法、および印刷データ生成プログラム FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-G06F 3/12 306, FI分類-G06F 3/12 350, FI分類-G06F 3/12 351 |
2018年02月16日 特許庁 / 特許 | 検査装置、インクジェット印刷装置、および検査方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年02月14日 特許庁 / 特許 | 検査装置、検査方法、錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-G01N 21/85 A |
2018年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年02月13日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年02月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2018年02月09日 特許庁 / 特許 | 判定装置、判定方法、錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-G01N 21/85 A |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、および、データ処理プログラム FI分類-G05B 23/02 301 Q |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、および、データ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、および、データ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、データ処理システム、およびデータ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 23/02 302 Z |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、データ処理システム、およびデータ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G06Q 10/00 300, FI分類-G05B 23/02 302 Z |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | データ処理方法、データ処理装置、データ処理システム、およびデータ処理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G06Q 10/00 300, FI分類-G05B 23/02 302 Z |
2018年02月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 645 A |
2018年02月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2018年02月05日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/225 Q |
2018年02月05日 特許庁 / 特許 | 画像取得装置、画像取得方法および検査装置 FI分類-G01N 21/88 J |
2018年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年01月31日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-C12N 5/073, FI分類-G01N 21/17 620, FI分類-G06T 1/00 290 B |
2018年01月31日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、画像判定方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-G06T 7/11, FI分類-G01N 21/17 630 |
2018年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2018年01月30日 特許庁 / 特許 | 処理液吐出配管および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年01月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2018年01月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2018年01月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-G01N 21/55, FI分類-G01N 21/47 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2018年01月26日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 7/00 K |
2018年01月25日 特許庁 / 特許 | ICタグ付物品、脱着監視装置、脱着監視方法およびICタグ FI分類-G06K 19/077, FI分類-G06K 7/10 100, FI分類-G06K 19/07 160, FI分類-G06K 19/07 230, FI分類-G06K 19/077 152 |
2018年01月25日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 U |
2018年01月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2018年01月25日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄ブラシおよび基板洗浄装置 FI分類-B08B 1/04, FI分類-B08B 3/04 A, FI分類-B08B 7/04 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 G, FI分類-H01L 21/304 644 Z |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2018年01月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2018年01月22日 特許庁 / 特許 | 補正情報生成方法、描画方法、補正情報生成装置および描画装置 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年01月19日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/04, FI分類-A61K 47/20, FI分類-A61K 47/22, FI分類-A61K 47/26, FI分類-A61K 47/36, FI分類-C09D 11/32, FI分類-C09D 11/38 |
2018年01月15日 特許庁 / 特許 | 錠剤検査方法および錠剤検査装置 FI分類-G01N 21/85 A |
2018年01月15日 特許庁 / 特許 | 錠剤検査方法および錠剤検査装置 FI分類-G06T 7/13, FI分類-G01N 21/85 A, FI分類-G06T 7/00 610 Z, FI分類-G06T 7/60 200 C |
2018年01月15日 特許庁 / 特許 | 錠剤検査方法および錠剤検査装置 FI分類-G01N 21/85 A |
2018年01月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/308 B, FI分類-H01L 21/308 D |
2018年01月12日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置及びその脱気方法 FI分類-B01D 19/00 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2018年01月11日 特許庁 / 特許 | 印刷物、読取装置、読取方法、印刷方法、および印刷装置 FI分類-A61K 9/20, FI分類-B41M 3/14, FI分類-A61K 47/02, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 120 |
2018年01月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-B08B 3/12 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2018年01月10日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および蛇行予測方法 FI分類-B65H 7/14, FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 23/032, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2018年01月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2018年01月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および基材処理方法 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 23/188, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、転写ローラ FI分類-B41F 13/193, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41F 17/14 E |
2017年12月22日 特許庁 / 特許 | エッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A, FI分類-H01L 21/302 301 S |
2017年12月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年12月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年12月18日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2017年12月18日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年12月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板処理システムの制御方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年12月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年12月08日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年12月08日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年12月06日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置のヘッド電圧補正方法及びそれを用いた装置並びにそのプログラム FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年12月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年12月04日 特許庁 / 特許 | 判定方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年12月04日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 血流調整装置 FI分類-A61B 17/122, FI分類-A61B 5/02 633 G |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 前処理剤組成物、記録方法、記録媒体及び記録媒体の製造方法 FI分類-C09D 11/54, FI分類-C09D 193/00, FI分類-C09D 5/00 D, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 100, FI分類-B41M 5/00 112, FI分類-B41M 5/00 132 |
2017年11月28日 特許庁 / 特許 | 臓器収容器 FI分類-A01N 1/02 |
2017年11月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年11月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年11月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年11月17日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 21/16, FI分類-B41J 25/20, FI分類-G03G 15/23, FI分類-G03G 21/14, FI分類-B41J 29/38 Z |
2017年11月16日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 11/70, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2017年11月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R |
2017年11月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年11月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年11月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年11月06日 特許庁 / 特許 | 基板受渡システムおよび基板受渡方法 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 567 |
2017年10月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R |
2017年10月30日 特許庁 / 特許 | 荷重測定装置および荷重測定方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-G01L 5/00 101 Z, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年10月30日 特許庁 / 特許 | 液滴撮像装置、液滴特性測定装置、液滴吐出装置、液滴撮像方法、液滴特性測定方法、および液滴吐出方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-G01P 3/38, FI分類-B05C 11/00, FI分類-G03B 15/05, FI分類-G01B 11/04 H, FI分類-G03B 15/00 H, FI分類-G03B 15/00 T, FI分類-G03B 15/02 C, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/165 501, FI分類-H04N 5/225 600 |
2017年10月26日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理装置、および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年10月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年10月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年10月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年10月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理装置の洗浄方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年10月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2017年10月11日 特許庁 / 特許 | 膜厚測定装置、基板検査装置、膜厚測定方法および基板検査方法 FI分類-G01B 11/06 H, FI分類-G01N 21/956 A |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 教師データ作成支援装置、分類装置および教師データ作成支援方法 FI分類-G06N 99/00 153, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D, FI分類-G06F 17/30 220 Z |
2017年09月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置のヘッド電圧補正方法及びそれを用いた装置 FI分類-B41J 2/045, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年09月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびその調整方法 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2017年09月27日 特許庁 / 特許 | 可食性顔料組成物 FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09D 11/322, FI分類-C09D 11/326, FI分類-B41J 2/01 501 |
2017年09月27日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-H05H 1/00 A, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 U |
2017年09月27日 特許庁 / 特許 | 描画装置および描画方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-H01L 21/68 K, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年09月26日 特許庁 / 特許 | ステージ駆動装置および描画装置 FI分類-H02K 41/02 C, FI分類-H02K 41/03 B |
2017年09月26日 特許庁 / 特許 | 有機半導体の製造方法および光照射装置 FI分類-H01L 21/208 L, FI分類-H01L 29/28 100 A, FI分類-H01L 29/28 310 L, FI分類-H01L 29/78 618 B, FI分類-H01L 29/78 627 G |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | プラズマ発生装置およびプラズマ発生用電極体 FI分類-H05H 1/24 |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 異常検知装置、及び異常検知方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-G05B 23/02 302 S, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 3次元造形製造装置および3次元造形製造方法 FI分類-B22F 3/16, FI分類-B28B 1/30, FI分類-B22F 3/105, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 30/00, FI分類-B33Y 50/02, FI分類-B29C 64/153, FI分類-B29C 64/268, FI分類-B29C 64/393 |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 基板反転装置、基板処理装置および基板挟持装置 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/88 Z, FI分類-G01N 21/95 Z |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および検出方法 FI分類-B65H 26/02, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理液及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置および濃淡補正方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/205, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年09月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 吸光度測定装置および吸光度測定方法 FI分類-G01N 21/03 Z, FI分類-G01N 21/27 Z, FI分類-G01N 21/59 Z |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/956 B |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 15/16, FI分類-B41J 2/155, FI分類-B41J 11/00 Z, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/17 207 |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 描画装置、及び描画装置の汚染防止方法 FI分類-B41C 1/18, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 511 |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/06, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 A |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 F, FI分類-H01L 21/306 R |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年09月22日 特許庁 / 特許 | 薬液生成方法、薬液生成装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 位相差測定装置および位相差測定方法 FI分類-G01J 9/02, FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01M 11/00 T |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年09月21日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | 生細胞検出方法、プログラムおよび記録媒体 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 33/48 M |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | サジェスト生成装置、サジェスト生成プログラム及びサジェスト生成方法 FI分類-G06F 17/30 170 A, FI分類-G06F 17/30 210 D, FI分類-G06F 17/30 350 C |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | パーティクル除去方法および熱処理装置 FI分類-F27B 17/00 B, FI分類-F27D 11/02 A, FI分類-H01L 21/26 G |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B08B 3/04 A, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 G, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年09月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-C11D 17/08, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2017年09月19日 特許庁 / 特許 | 基板検査装置、基板処理装置、基板検査方法および基板処理方法 FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 5/00 705, FI分類-G06T 1/00 305 A |
2017年09月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法及び基板処理装置の制御方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 5/16, FI分類-F26B 25/00 A, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2017年09月15日 特許庁 / 特許 | レジスト除去方法およびレジスト除去装置 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 572 A |
2017年09月15日 特許庁 / 特許 | レジスト除去方法およびレジスト除去装置 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 A, FI分類-H01L 21/302 104 H |
2017年09月14日 特許庁 / 特許 | 成膜方法および成膜装置 FI分類-C23C 14/44, FI分類-H05H 1/46 L |
2017年09月13日 特許庁 / 特許 | 洗浄器具、洗浄方法および液体供給装置 FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05D 7/00 Z, FI分類-B05D 7/22 E, FI分類-B05C 11/10 ZAB |
2017年09月06日 特許庁 / 特許 | 印刷制御装置、印刷制御方法、および印刷制御プログラム FI分類-B41J 5/30 Z, FI分類-G06F 3/12 319, FI分類-G06F 3/12 343, FI分類-G06F 3/12 350, FI分類-G06F 3/12 351, FI分類-G06F 3/12 364 |
2017年09月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 563 |
2017年09月04日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 B |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | ファイル生成方法およびファイル生成プログラム FI分類-G06F 3/12 303, FI分類-G06F 3/12 344 |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 密着強化処理装置および密着強化処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 563 |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および検出方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B65H 23/195, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | ポンプ装置、処理液供給装置、基板処理装置、液抜き方法および液置換方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-F04B 53/04, FI分類-F04B 53/06, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板乾燥方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/00, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板乾燥方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/00, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年08月31日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 47/10, FI分類-A61K 47/14, FI分類-A61K 47/32, FI分類-A61K 47/36, FI分類-A61K 47/38, FI分類-C09D 11/30, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板反転装置、基板処理装置および基板支持装置 FI分類-B65G 49/07 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 644 B |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-G01M 3/26 N, FI分類-B65G 49/00 A, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/268 T, FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | ポンプ装置、処理液供給装置および基板処理装置 FI分類-B01D 19/00 B, FI分類-F04B 43/02 D, FI分類-B01J 4/00 103, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2017年08月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年08月25日 特許庁 / 特許 | ポンプ装置および基板処理装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-F04B 43/02 F, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-F04B 49/06 321 A |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-C23C 18/31 E, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-C23C 18/16 B, FI分類-C23C 18/31 E |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-C23C 18/31 E |
2017年08月23日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置 FI分類-F04B 43/02 A, FI分類-F04B 53/08 Z, FI分類-H01L 21/02 Z |
2017年08月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年08月18日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置、および、インクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年08月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年08月16日 特許庁 / 特許 | 薬液供給装置、基板処理装置、薬液供給方法、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年08月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、位置合わせ装置および位置合わせ方法 FI分類-B25J 9/10 Z, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A |
2017年08月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 7/00 H, FI分類-H01L 21/30 569 F, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年07月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置、および、インクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41J 2/165 209 |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理装置の部品検査方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理装置の部品検査方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、及び基板処理装置の部品検査方法 FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理液及び基板処理装置 FI分類-F26B 5/06, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年07月28日 特許庁 / 特許 | 処理液除電方法、基板処理方法および基板処理システム FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年07月27日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置の排気方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/316 P, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年07月27日 特許庁 / 特許 | パラメータ設計支援装置、及びパラメータ設計支援方法 FI分類-H01L 21/02 Z |
2017年07月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2017年07月14日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年07月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B08B 9/032, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年06月29日 特許庁 / 特許 | 半導体検査装置及び半導体検査方法 FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-H01L 21/66 Q, FI分類-H01L 31/04 240 |
2017年06月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年06月14日 特許庁 / 特許 | 位置合せ方法、位置合せ装置および検査装置 FI分類-G06T 7/32, FI分類-G01N 21/95 A, FI分類-G01N 21/956 A |
2017年06月13日 特許庁 / 特許 | 固体製剤及びその検査方法 FI分類-A61K 9/28, FI分類-G01N 21/85 A |
2017年06月13日 特許庁 / 特許 | 固体製剤及びその検査方法 FI分類-A61K 9/28, FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 47/22, FI分類-G01N 21/88 Z |
2017年06月09日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年06月07日 特許庁 / 特許 | 搬送装置、搬送方法および検査システム FI分類-G01N 21/84 C |
2017年06月07日 特許庁 / 特許 | 固体製剤の印刷物及び固体製剤の印刷方法 FI分類-A61K 9/44, FI分類-B41M 3/14, FI分類-C09D 11/32, FI分類-C09D 11/50, FI分類-C09K 11/06, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 501 |
2017年06月05日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 1/00 300 |
2017年06月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 分類器構築方法、分類器および分類器構築装置 FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | クリーニング装置、クリーニング方法、印刷装置および印刷方法 FI分類-B41F 3/82, FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41F 35/06, FI分類-B41F 3/20 C, FI分類-B41F 3/20 D, FI分類-B41F 17/14 E |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置、画像記録方法および補正情報取得方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/155, FI分類-H04N 1/40 D, FI分類-H04N 1/46 Z, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G06T 1/00 510 |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年05月29日 特許庁 / 特許 | 印刷方法、印刷装置 FI分類-B41J 2/01 101, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2017年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年05月29日 特許庁 / 特許 | 露光装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年05月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年05月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2017年05月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2017年05月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2017年05月17日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-C23C 16/455, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年05月17日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T |
2017年05月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置のメンテナンス方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年05月11日 特許庁 / 特許 | 塗布装置、塗布方法およびノズル FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z |
2017年05月11日 特許庁 / 特許 | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/12 E |
2017年05月11日 特許庁 / 特許 | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/12 Z |
2017年04月28日 特許庁 / 特許 | 試料容器およびこれを用いる撮像方法 FI分類-G01N 21/03 Z, FI分類-G01N 21/17 630 |
2017年04月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年04月28日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2017年04月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2017年04月24日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2017年04月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年04月24日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B |
2017年04月21日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置のメンテナンス方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/324 R, FI分類-H01L 21/30 566 |
2017年04月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年04月20日 特許庁 / 特許 | 外観検査装置、表面処理システム、外観検査方法、プログラム、および投射材交換判断方法 FI分類-G06T 5/50, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/88 Z |
2017年04月20日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置、それを備える基板処理装置および基板搬送装置のティーチング方法 FI分類-B25J 13/08 A, FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A |
2017年04月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E |
2017年04月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年04月18日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/31 A |
2017年04月13日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567 |
2017年04月13日 特許庁 / 特許 | 周縁処理装置および周縁処理方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年04月12日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年04月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理システム、基板処理システムの制御方法およびプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | 描画装置 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B65H 7/02, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置の補正値取得方法及びインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | ヒートローラおよびそれを備えた印刷装置 FI分類-B41J 29/00 H, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-F16C 13/00 C, FI分類-F26B 13/08 A, FI分類-G03G 15/20 515 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、およびそれを備えた印刷装置 FI分類-F26B 3/20, FI分類-F26B 25/20, FI分類-B41F 23/04 A, FI分類-F26B 13/08 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | 担持量測定装置および担持量測定方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/86 Z |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | グラフ表示装置、グラフ表示方法、基板処理システム、基板処理方法、およびグラフ表示プログラム FI分類-G01D 7/10, FI分類-G06F 3/0481, FI分類-G09G 5/02 B, FI分類-G09G 5/14 A, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-G09G 5/00 510 D, FI分類-G09G 5/36 510 A, FI分類-G05B 23/02 301 Q, FI分類-G05B 23/02 301 V |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | 担持量測定装置および担持量測定方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-B01J 37/34, FI分類-H01M 4/86 Z, FI分類-H01M 8/04 Z, FI分類-B01J 23/42 M, FI分類-G01N 21/3581 |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法および紫外線照射手段の選択方法 FI分類-H01L 21/304 645 D |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 分類装置の製造方法、画像の分類方法、画像の分類装置、半導体の検査装置および分類基準モジュール FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、および、基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 G, FI分類-H01L 21/306 J |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム記録媒体 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法、基板洗浄装置およびプログラム記録媒体 FI分類-H01L 21/304 644 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年03月26日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および基材処理方法 FI分類-B65H 43/00, FI分類-B65H 23/038 Z |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 凹版の製造方法および凹版製造装置 FI分類-G03F 7/00 505, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 511, FI分類-G03F 7/38 511 |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-G06T 7/13, FI分類-G06T 1/00 300 |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-G06T 7/13, FI分類-G06T 1/00 300 |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G06T 7/60 200 D |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 描画装置および描画方法 FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像取得方法および画像取得装置 FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/27 A |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 領域判定方法 FI分類-G06T 7/11, FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G06T 7/00 630 |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 画像取得装置、露光装置、及び画像取得方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05B 1/14 Z, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05B 1/04 ZNM |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/20, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-B65G 49/00 A, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2017年03月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年03月22日 特許庁 / 特許 | クロック発生装置、クロック発生方法、および、画像記録装置 FI分類-G03F 7/24 G, FI分類-B41J 2/44 103, FI分類-B41J 2/44 101 B, FI分類-B41J 2/44 101 D, FI分類-B41J 2/44 101 P |
2017年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置およびノズル構造 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2017年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システム、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 15/00, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/00 A, FI分類-H01M 4/88 K |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 搬送制御方法及び搬送装置並びに印刷装置 FI分類-B65H 23/192, FI分類-G05B 11/36 501 A |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | フィルタ連結装置およびこれを備えた基板処理装置 FI分類-B01D 35/00, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月17日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/00 A, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2017年03月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年03月17日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および放射温度計の測定位置調整方法 FI分類-H01L 21/26 T |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 567 |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 568, FI分類-H01L 21/30 571 |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理装置、および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年03月15日 特許庁 / 特許 | テキストマイニング支援方法および装置 FI分類-G06F 3/0481, FI分類-G06F 17/30 220 Z, FI分類-G06F 17/30 310 B, FI分類-G06F 17/30 360 Z |
2017年03月15日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および基材処理方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E, FI分類-H01M 8/02 P, FI分類-B65H 41/00 A |
2017年03月13日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/95 Z |
2017年03月13日 特許庁 / 特許 | ワーク保持装置、検査装置およびワーク位置補正方法 FI分類-G01N 21/84 C, FI分類-G01N 21/95 Z |
2017年03月13日 特許庁 / 特許 | 芯ズレ検出装置および芯ズレ検出方法 FI分類-G01B 11/27 H, FI分類-G01N 21/95 Z, FI分類-G06T 1/00 300 |
2017年03月13日 特許庁 / 特許 | 検査方法および検査装置 FI分類-G01N 21/952, FI分類-G01B 11/00 D, FI分類-G01N 21/84 C |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | ノズルクリーニング装置およびノズルクリーニング方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05D 1/18, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/12 E |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | エッチング装置 FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年03月09日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F |
2017年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理システム及び基板処理システムの搬入制御方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2017年03月03日 特許庁 / 特許 | 浮上量算出装置、塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B65G 51/03 C, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年03月03日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C |
2017年03月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板処理装置 FI分類-G06Q 50/04, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G05B 19/418 Z |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板保持装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月27日 特許庁 / 特許 | ガスケット付加装置およびガスケット付加方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-B29C 65/48, FI分類-H01M 8/02 S |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 印刷データ処理方法、印刷データ処理装置、および印刷データ処理プログラム FI分類-B41J 5/30 Z, FI分類-G06F 3/12 308, FI分類-G06F 3/12 342, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-G06F 3/12 356, FI分類-G06T 1/00 310 A |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理装置、および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2017年02月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年02月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-F15D 1/02 E, FI分類-F16K 31/06 330, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年02月21日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及び印刷方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム記録媒体 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 644 C |
2017年02月17日 特許庁 / 特許 | 撮像方法および撮像装置 FI分類-G01N 21/17 625 |
2017年02月17日 特許庁 / 特許 | 撮像方法および撮像装置 FI分類-G01N 21/17 625 |
2017年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N |
2017年02月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G01F 1/64, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G01F 1/00 U, FI分類-G01F 1/00 X, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 衝撃力測定装置、基板処理装置、衝撃力測定方法、および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及びその装置 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及びその装置 FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及びその装置 FI分類-H01L 21/324 R, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置、それを備える基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年02月13日 特許庁 / 特許 | 異物除去処理評価方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年02月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2017年02月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法およびプログラム FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年02月01日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 29/00 G, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H05F 3/06, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 564, FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/302 400, FI分類-H01L 21/304 646 |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | パラメータ管理装置 FI分類-G05B 23/02 301 V |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | ローラとエンコーダとの連結構造、およびそれを備えた印刷装置 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 43/00 |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理装置、および処理液供給方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年01月30日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H05B 3/00 370, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H05B 3/00 310 D |
2017年01月27日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置、検出位置較正方法および基板処理装置 FI分類-B25J 13/08 A, FI分類-B65G 49/07 D, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F |
2017年01月27日 特許庁 / 特許 | データ処理システム、データ処理方法およびプログラム FI分類-G06F 17/15, FI分類-G06Q 50/04, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z |
2017年01月26日 特許庁 / 特許 | 現像方法および現像装置 FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および間隙洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2017年01月23日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/175 171, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503 |
2017年01月23日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物 FI分類-C09D 17/00 |
2017年01月20日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/04 Z |
2017年01月20日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D |
2017年01月20日 特許庁 / 特許 | 位置ずれ量取得装置、検査装置、位置ずれ量取得方法および検査方法 FI分類-G06T 7/33, FI分類-H05K 3/00 Q, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01N 21/956 B, FI分類-G06T 7/00 610 |
2017年01月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2017年01月17日 特許庁 / 特許 | 印刷制御装置、ラスタデータ生成方法、および、ラスタデータ生成プログラム FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-G06F 3/12 308, FI分類-G06F 3/12 343, FI分類-G06F 3/12 344 |
2017年01月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B08B 3/02 G, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2017年01月13日 特許庁 / 特許 | 結晶構造制御方法および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/316 X |
2017年01月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2017年01月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2017年01月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2017年01月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 13/00, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-G01B 11/30 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N |
2017年01月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の異状検知方法 FI分類-B65G 49/07 J, FI分類-H01L 21/68 A |
2017年01月10日 特許庁 / 特許 | 粒状物、読取装置、および印刷装置 FI分類-A23L 5/40, FI分類-A61K 9/16, FI分類-A61K 9/44, FI分類-A23L 33/00, FI分類-B41J 3/407, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305 |
2017年01月10日 特許庁 / 特許 | 粒状物、読取装置、および印刷装置 FI分類-A23L 5/40, FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 9/28, FI分類-A61K 9/44, FI分類-B41J 2/21, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 451 |
2017年01月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 除電装置および除電方法 FI分類-H05F 3/06 |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理システム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 645 D |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥方法および減圧乾燥装置 FI分類-F26B 5/04, FI分類-B29C 41/12, FI分類-B29C 41/34, FI分類-B29C 41/46, FI分類-B29K 79:00, FI分類-F26B 25/00 A, FI分類-C08J 5/18 CFG |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 三次元造形装置および三次元造形方法 FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 30/00 |
2016年12月26日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G01N 21/17 625 |
2016年12月21日 特許庁 / 特許 | 計測値の校正方法、搬送装置および校正プログラム FI分類-B65H 26/00, FI分類-B65H 43/00, FI分類-G01L 5/10 Z, FI分類-G01L 25/00 B |
2016年12月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B01D 19/00 B, FI分類-B01D 19/00 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年12月20日 特許庁 / 特許 | 化学物質の評価方法 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01B 11/24 D, FI分類-G01N 33/15 Z |
2016年12月20日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物、固体製剤の印刷画像の褪色抑制方法及び固体製剤 FI分類-C09D 11/38, FI分類-C09D 11/328, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2016年12月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、送液方法、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年12月15日 特許庁 / 特許 | 搬送装置及びそれを備えた印刷装置 FI分類-B41J 15/16, FI分類-B65H 23/188 |
2016年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C |
2016年12月14日 特許庁 / 特許 | 欠陥検出装置および欠陥検出方法 FI分類-G01N 21/88 Z |
2016年12月12日 特許庁 / 特許 | シリコン基板の熱処理方法 FI分類-C30B 33/02, FI分類-C30B 29/06 B, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/322 Y, FI分類-H01L 21/324 X |
2016年12月12日 特許庁 / 特許 | ドーパント導入方法および熱処理方法 FI分類-F27D 11/02 C, FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/225 Q, FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 21/22 501 L, FI分類-H01L 29/78 301 S, FI分類-H01L 29/78 301 Y |
2016年12月12日 特許庁 / 特許 | ドーパント導入方法および熱処理方法 FI分類-F27D 7/06 C, FI分類-F27D 11/02 C, FI分類-H01L 21/22 P, FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/225 Q, FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 29/78 301 P, FI分類-H01L 29/78 301 S |
2016年12月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年12月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R |
2016年11月29日 特許庁 / 特許 | スミア検出装置、レーザビア加工装置およびレーザビア加工方法 FI分類-H05K 3/00 N, FI分類-H05K 3/46 N, FI分類-H05K 3/46 X, FI分類-H05K 3/46 Y, FI分類-B23K 26/00 M, FI分類-B23K 26/00 P, FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-G01N 21/956 B, FI分類-H05K 3/42 610 A |
2016年11月25日 特許庁 / 特許 | コネクタおよびカテーテル FI分類-A61M 39/12, FI分類-A61M 25/00 534 |
2016年11月21日 特許庁 / 特許 | バルブユニットおよび基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-F16K 31/04 K, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2016年11月18日 特許庁 / 特許 | ドーパント導入方法および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/225 Q |
2016年11月18日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および印刷装置 FI分類-B65B 35/12, FI分類-B65B 35/46, FI分類-B65G 47/78 A, FI分類-B65G 47/86 H |
2016年11月18日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 47/84 C, FI分類-B65G 47/84 F, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305 |
2016年11月18日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41F 17/36 B, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 47/84 C, FI分類-B65G 47/84 F, FI分類-B41J 2/01 305 |
2016年11月15日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年11月14日 特許庁 / 特許 | 顔料定着用組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 47/32, FI分類-C09D 11/54, FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 134 |
2016年11月11日 特許庁 / 特許 | 現像装置、基板処理装置、現像方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2016年10月26日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置および画像記録方法 FI分類-B41C 1/00, FI分類-B41F 27/00 A |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 三次元造形方法 FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 10/00 |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | エッチング方法及びエッチング装置 FI分類-H01L 21/302 201 A, FI分類-H01L 21/304 645 B, FI分類-H01L 21/304 645 Z |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 加熱装置 FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-H05B 3/00 335, FI分類-G03G 15/20 515 |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板整列装置、基板処理装置、基板配列装置、基板整列方法、基板処理方法および基板配列方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 M, FI分類-H01L 21/304 642 B |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置および基板搬送方法 FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板配列装置および基板配列方法 FI分類-H01L 21/68 M |
2016年09月29日 特許庁 / 特許 | 姿勢変更装置 FI分類-H01L 21/68 A |
2016年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/306 Z |
2016年09月28日 特許庁 / 特許 | 3次元造形物の製造方法 FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 10/00, FI分類-B33Y 30/00 |
2016年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 645 Z |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 洗浄液カートリッジおよび該洗浄液カートリッジを用いた洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 位置計測装置および位置計測方法 FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G06T 1/00 300 |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 位置計測装置および位置計測方法 FI分類-G03F 9/00 H, FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G06T 1/00 305 |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 2/165, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 121 |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 J, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法、基板洗浄レシピ作成方法、および基板洗浄レシピ作成装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 回収配管洗浄方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置、および、記録媒体 FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 Z |
2016年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 P, FI分類-H01L 21/324 Q, FI分類-H01L 21/324 S, FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H01L 21/30 567 |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 積層装置および三次元造形装置 FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 30/00 |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G01N 21/17 620 |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-H04N 7/18 B, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 1/00 300, FI分類-G06T 7/00 300 E |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年09月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年09月21日 特許庁 / 特許 | 試料容器の位置ずれ検出方法およびそれを用いた撮像方法、ならびに試料容器の位置ずれ検出装置 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G01B 11/26 H |
2016年09月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 Z |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理管理装置、基板処理管理方法および基板処理管理プログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/30 562 |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及びズレ量算出方法並びに検査用チャート FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 29/393 101 |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及びズレ量算出方法 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G01N 21/892 A |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、画像処理装置、および撮像装置 FI分類-G06T 5/50, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-H04N 5/232 Z |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | ノズル洗浄方法、塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-B08B 3/04 Z |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | 異常予測システム、プログラム、および異常予測方法 FI分類-B41J 29/46 Z, FI分類-G03G 21/00 510, FI分類-G06F 11/34 147, FI分類-G06F 11/34 152, FI分類-G06F 11/30 140 D, FI分類-G06F 17/30 220 Z |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | パターン倒壊回復方法、基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 645 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年09月15日 特許庁 / 特許 | 搬送条件設定装置、基板処理装置、および搬送条件設定方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2016年09月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理レシピ判定方法、および基板処理レシピ判定プログラム FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 570 |
2016年09月15日 特許庁 / 特許 | エッチング装置、基板処理装置、エッチング方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年09月14日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/268 T |
2016年09月14日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/268 Z, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | ノズル清掃部材、ノズル清掃装置、塗布装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10 ZNM |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 D |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置、基板処理装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年09月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2016年09月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2016年09月12日 特許庁 / 特許 | 犠牲膜形成方法、基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05D 7/00 N, FI分類-H01L 21/306 Z, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年09月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年09月09日 特許庁 / 特許 | パターン露光装置、露光ヘッドおよびパターン露光方法 FI分類-G02B 7/08 B, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年09月09日 特許庁 / 特許 | 塗工装置およびフィルム回収方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2016年09月09日 特許庁 / 特許 | 印刷装置用の消耗品の使用妥当性管理システム、および、印刷装置用の消耗品の使用妥当性管理方法 FI分類-B41J 29/00 Z, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-G06F 3/12 310, FI分類-G06F 3/12 334, FI分類-G03G 15/08 330, FI分類-G03G 21/00 390 |
2016年09月08日 特許庁 / 特許 | インク消費量見積もり方法 FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-G06F 3/12 303, FI分類-G06F 3/12 343, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-B41J 2/175 303 |
2016年09月08日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B |
2016年09月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2016年09月08日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置、基板処理装置、基板洗浄方法および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 644 B |
2016年09月06日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置、減圧乾燥システム、減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 9/06 A |
2016年09月05日 特許庁 / 特許 | 撮像配置決定方法、撮像方法、および撮像装置 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G01N 21/01 D, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-H04N 5/225 Z |
2016年09月05日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、画像処理装置、および撮像装置 FI分類-G06T 5/50, FI分類-H04N 5/225 F, FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-G06T 5/00 710 |
2016年09月05日 特許庁 / 特許 | 光変調素子、空間光変調器および露光装置 FI分類-G02F 1/03 503, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年09月05日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置およびそれを備える基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 Z |
2016年09月01日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置および画像処理方法 FI分類-G01N 21/17 630 |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年08月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年08月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年08月29日 特許庁 / 特許 | 液中プラズマ発生装置、液中プラズマ発生方法、処理液精製装置および処理液精製方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-C02F 1/48 B, FI分類-B01J 19/08 E |
2016年08月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年08月26日 特許庁 / 特許 | 触媒担持量測定装置、塗工システムおよび触媒担持量測定方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/86 Z, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-B01J 37/02 301 D |
2016年08月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年08月25日 特許庁 / 特許 | 周縁部処理装置および周縁部処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 1/40 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 577 |
2016年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 J |
2016年08月19日 特許庁 / 特許 | 吸着ローラ、塗工装置および膜・電極接合体の製造装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E, FI分類-F16C 13/00 E |
2016年08月19日 特許庁 / 特許 | 変位検出装置、変位検出方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/306 R |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 565 |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/88 Z |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置、基板処理装置、熱処理方法および基板処理方法 FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 502 R |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-H01L 21/30 563 |
2016年08月10日 特許庁 / 特許 | パターン倒壊状況画像およびその生成方法 FI分類-G01N 23/225 310 |
2016年07月29日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、画像処理装置、および撮像装置 FI分類-G02B 21/26, FI分類-G02B 21/36, FI分類-H04N 5/232 Z |
2016年07月27日 特許庁 / 特許 | インク消費量見積もり方法、インク消費量見積もり装置、および印刷システム FI分類-B41J 2/165 207, FI分類-B41J 2/175 303 |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-C30B 29/08, FI分類-C30B 33/02, FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/324 X |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 転写装置および転写方法 FI分類-B41F 1/16, FI分類-B41F 1/54, FI分類-B41M 1/34, FI分類-B41F 16/00 Z, FI分類-B41F 17/14 E, FI分類-H01L 21/68 N |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および蛇行予測方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 15/06, FI分類-B65H 26/02 |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | テキストマイニング方法、テキストマイニングプログラム、および、テキストマイニング装置 FI分類-G06F 17/30 170 A, FI分類-G06F 17/30 210 D, FI分類-G06F 17/30 360 Z |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/316 P, FI分類-H01L 29/78 301 F, FI分類-H01L 29/78 301 G, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷システム、印刷方法および動作制御プログラム FI分類-B41J 11/46, FI分類-B41J 11/66, FI分類-B41J 25/20, FI分類-B41J 29/38 Z |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置、基板処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2016年07月21日 特許庁 / 特許 | 印刷データ処理方法、印刷データ処理装置、および印刷データ処理プログラム FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 203 |
2016年07月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および処理カップ洗浄方法 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年07月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01H 35/00 N, FI分類-H01H 35/00 U, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年07月13日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G06T 5/50, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G03B 15/00 H, FI分類-H04N 5/225 F, FI分類-H04N 5/225 Z, FI分類-H04N 5/232 A, FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-G06T 1/00 295 |
2016年07月06日 特許庁 / 特許 | 半導体装置の製造方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/28 B, FI分類-H01L 29/50 M, FI分類-H01L 21/225 M, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 21/22 501 L, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 29/78 301 F, FI分類-H01L 29/78 301 G |
2016年07月06日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05D 7/04, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-H01M 4/88 K |
2016年07月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年07月05日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/00 D |
2016年07月04日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-G02F 1/13 101 |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年06月28日 特許庁 / 特許 | データ処理装置、錠剤印刷装置、データ処理方法および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-G06F 3/12 308, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-G06F 3/12 378 |
2016年06月28日 特許庁 / 特許 | 臓器保護用シート FI分類-A61B 46/20 |
2016年06月27日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305 |
2016年06月27日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 47/86 F, FI分類-B65G 47/91 D, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2016年06月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 641, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2016年06月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-B05D 3/12 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年06月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年06月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-F26B 5/16, FI分類-H01L 21/30 569 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年06月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2016年06月15日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 FI分類-C09C 1/24, FI分類-C09C 3/10, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09D 11/322, FI分類-B41M 5/00 120 |
2016年06月15日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 FI分類-C09D 11/322, FI分類-C09D 11/326, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2016年05月26日 特許庁 / 特許 | ノズル清掃装置、塗布装置およびノズル清掃方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B08B 3/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 Z |
2016年05月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 569, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 A |
2016年05月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/318 C |
2016年05月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/28 B, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 21/28 301 S, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年05月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/28 B, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 29/58 G, FI分類-H01L 21/318 A, FI分類-H01L 21/318 C, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 29/78 301 G |
2016年05月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 F, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/28 301 S |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/165 101, FI分類-B41J 2/165 209, FI分類-B41J 2/165 303, FI分類-B41J 2/165 401, FI分類-A61J 3/00 310 Z |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | 乾燥ユニットおよび錠剤印刷装置 FI分類-F26B 3/04, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 Z, FI分類-F26B 15/00 B, FI分類-F26B 21/00 B, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125 |
2016年05月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年05月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の洗浄方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年05月11日 特許庁 / 特許 | 熱処理用サセプタおよび熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2016年04月18日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置およびその制御方法 FI分類-G05D 7/06 Z, FI分類-F16K 31/04 K, FI分類-F16K 37/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2016年04月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年04月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G05D 7/06 B, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法、基板処理装置およびプログラム記録媒体 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法およびプログラム記録媒体 FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年03月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年03月29日 特許庁 / 特許 | ラスタライズ処理装置、ラスタライズ処理方法、およびプログラム FI分類-B41J 5/30 Z, FI分類-G06F 3/12 308, FI分類-G06F 3/12 344, FI分類-G06F 3/12 353, FI分類-H04N 1/00 107 A |
2016年03月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 209 |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | 印刷システム及び印刷物検品方法 FI分類-B41J 3/36 Z, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 29/46 C |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/17 103, FI分類-B41J 2/165 101, FI分類-B41J 2/165 503 |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基材処理装置および基材処理方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-F26B 3/04, FI分類-B05C 13/00, FI分類-B65H 23/10, FI分類-F26B 13/20, FI分類-H01M 4/139, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/02 D, FI分類-B65H 20/02 Z, FI分類-F26B 13/10 H |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 M, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/38 501, FI分類-H01L 21/30 563 |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の回転位置決め方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 645 B |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、制御プログラムおよび画像処理装置 FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G06T 1/00 295, FI分類-G06T 7/00 630, FI分類-G06T 7/60 200 C |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 処理液冷却装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | オーバーレイ計測装置およびオーバーレイ計測方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年03月23日 特許庁 / 特許 | 処理液冷却装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年03月23日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置および画像処理方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-H01L 21/66 C, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2016年03月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年03月18日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置および基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 G, FI分類-H01L 21/68 P |
2016年03月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年03月17日 特許庁 / 特許 | 塗膜検査装置、塗膜検査方法および膜・触媒層接合体の製造装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/14, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 11/00, FI分類-H01M 4/86 Z, FI分類-H01M 4/88 K |
2016年03月16日 特許庁 / 特許 | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 1/00 300 |
2016年03月16日 特許庁 / 特許 | 欠陥検出装置、欠陥検出方法およびプログラム FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 1/00 300 |
2016年03月14日 特許庁 / 特許 | エッチング装置及びエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A |
2016年03月11日 特許庁 / 特許 | 膜・電極層接合体の製造装置および製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/86 Z, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2016年03月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A |
2016年03月10日 特許庁 / 特許 | 教師データ作成支援装置、画像分類装置、教師データ作成支援方法および画像分類方法 FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2016年03月10日 特許庁 / 特許 | ブレードクリーニング装置、ブレードクリーニング方法、印刷装置および印刷方法 FI分類-B41F 3/38, FI分類-B41M 1/10, FI分類-B41F 31/20 |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 D, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2016年03月08日 特許庁 / 特許 | 最適化方法、最適化装置、プログラムおよび画像処理装置 FI分類-G06N 3/12 160, FI分類-G06N 99/00 153, FI分類-G06T 7/00 300 E, FI分類-G06T 7/00 350 D |
2016年03月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年03月04日 特許庁 / 特許 | 信号増幅装置及び半導体検査装置 FI分類-H03D 7/00 Z, FI分類-G01R 23/14 D |
2016年03月01日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 21/17 A |
2016年03月01日 特許庁 / 特許 | 撮像装置 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-H04N 5/225 D, FI分類-H04N 5/225 Z, FI分類-H04N 5/238 Z |
2016年02月29日 特許庁 / 特許 | 照明装置、および検査装置 FI分類-F21Y 107:10, FI分類-F21Y 115:00, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/956 B, FI分類-F21V 33/00 300 |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年02月24日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年02月22日 特許庁 / 特許 | 膜・電極接合体の製造装置 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-C25D 17/00 G, FI分類-C25D 17/00 L, FI分類-C25D 19/00 A, FI分類-C25D 19/00 C |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | めっき装置およびめっき方法 FI分類-C25D 7/12, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-C25D 5/02 A, FI分類-C25D 17/00 G, FI分類-C25D 17/06 H, FI分類-H01L 21/304 643 B |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 563 |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A |
2016年02月18日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J |
2016年02月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 混雑度推定方法、人数推定方法、混雑度推定プログラム、人数推定プログラム、および人数推定システム FI分類-G08G 1/13, FI分類-G06Q 50/10, FI分類-G08G 1/01 A, FI分類-G01C 21/26 P |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 現像ユニット、基板処理装置、現像方法および基板処理方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05D 3/06 D, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-B05D 3/06 102 Z, FI分類-H01L 21/30 502 J |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板保持状態の異常検査の検査領域の自動決定方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2016年02月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2016年02月16日 特許庁 / 特許 | 細胞観察装置および細胞観察方法 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-G02B 7/36, FI分類-G02B 21/00, FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G03B 17/00 Q, FI分類-H04N 5/225 Z, FI分類-H04N 5/232 H |
2016年02月16日 特許庁 / 特許 | ポンプ装置および基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-F04B 23/04, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2016年02月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 647 A |
2016年02月15日 特許庁 / 特許 | 検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 21/00 B, FI分類-G01N 21/63 Z, FI分類-H01L 21/66 Q |
2016年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年02月09日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2016年02月08日 特許庁 / 特許 | 基準位置取得方法、基準位置取得装置、パターン描画方法、パターン描画装置およびプログラム FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 P |
2016年02月08日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造装置および製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | 熱処理用サセプタおよび熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | 熱処理用サセプタおよび熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2016年02月03日 特許庁 / 特許 | 処理液気化装置と基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2016年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G11B 7/26 521, FI分類-G02F 1/1333 500, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2016年01月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2016年01月25日 特許庁 / 特許 | 基板保持方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2016年01月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2016年01月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 642 F |
2016年01月18日 特許庁 / 特許 | 平坦化装置 FI分類-B29C 67/00, FI分類-B33Y 30/00 |
2016年01月18日 特許庁 / 特許 | 平坦化装置 FI分類-B29C 64/35, FI分類-B29C 64/112, FI分類-B29C 64/218, FI分類-B29C 64/241, FI分類-B29C 64/295, FI分類-B29C 64/357 |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/01 B, FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-G03B 15/02 G |
2016年01月12日 特許庁 / 特許 | 検査システム、プログラム、および、検査方法 FI分類-G01N 21/88 Z |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置の画像処理装置及びその画像処理方法 FI分類-B65H 7/14, FI分類-B41J 5/30 Z, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | インクジェットプリンタおよび送液状態確認方法 FI分類-B41J 2/18, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 171, FI分類-B41J 2/175 501 |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1333 500, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年12月22日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G11B 7/26 521, FI分類-G02F 1/1333 500, FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年12月22日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-G01J 5/00 101 C |
2015年12月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年12月16日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置、塗布装置、基板保持方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01L 21/68 G |
2015年12月16日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、印刷装置、および乾燥方法 FI分類-F26B 3/04, FI分類-F26B 3/20, FI分類-F26B 17/28 A, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2015年12月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 1/82, FI分類-B08B 3/12 A, FI分類-H01L 21/304 642 E, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年12月11日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/31 E |
2015年12月11日 特許庁 / 特許 | 撮像装置 FI分類-G01N 21/03 Z, FI分類-G01N 21/45 Z, FI分類-G01N 21/17 620 |
2015年12月10日 特許庁 / 特許 | 画像分類方法および画像分類装置 FI分類-G06T 7/00 300 F, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2015年12月08日 特許庁 / 特許 | 教師データ作成支援方法、画像分類方法、教師データ作成支援装置および画像分類装置 FI分類-G06T 7/00 U, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2015年11月19日 特許庁 / 特許 | 基板の温度分布調整方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年11月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 9/04, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05B 1/20 101, FI分類-B05C 1/02 102 |
2015年11月16日 特許庁 / 特許 | 塗布装置、製造装置および測定方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01M 4/88 K |
2015年11月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2015年11月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 D |
2015年11月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2015年11月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 502 J, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2015年11月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562 |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 分類器構成方法および細胞の生死判定方法 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G01N 21/64 F, FI分類-G01N 33/48 P |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 吐出判定方法および吐出装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G01N 21/17 A |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | ノズル待機装置および基板処理装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | ノズル待機装置および基板処理装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法 FI分類-F16K 31/04 A, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 膜処理ユニットおよび基板処理装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 膜処理ユニット、基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年11月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、膜形成ユニット、基板処理方法および膜形成方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年11月04日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年11月04日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年11月04日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-C23C 16/56, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/28 B |
2015年11月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年10月29日 特許庁 / 特許 | フィルタ連結装置およびこれを備えた基板処理装置 FI分類-B01D 35/00, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年10月27日 特許庁 / 特許 | 変位検出装置および変位検出方法ならびに基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G01B 11/00 H |
2015年10月26日 特許庁 / 特許 | 時系列データ処理方法、時系列データ処理プログラム、および、時系列データ処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G06Q 50/10 130 |
2015年10月22日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年10月22日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法およびシェーディング基準データ作成方法 FI分類-G02B 21/36, FI分類-H04N 5/243, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-H04N 1/40 101 A |
2015年10月21日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 FI分類-C09D 11/38, FI分類-C09D 17/00, FI分類-C09D 11/324, FI分類-C09D 11/326, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 110, FI分類-B41M 5/00 120 |
2015年10月20日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年10月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 補正情報生成装置、描画装置、補正情報生成方法および描画方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理システム FI分類-H01L 21/68 A |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置およびインクジェット印刷方法 FI分類-B41J 2/01 127, FI分類-B41J 2/01 305 |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 検査用チャート及びインクジェット印刷装置の補正値取得方法並びにインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/205, FI分類-B41J 29/46 A, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/015 101 |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及びその処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置におけるフィルタ交換方法 FI分類-H01L 21/304 648 F |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造方法および製造装置 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 接続方法、塗工方法、接続装置および塗工装置 FI分類-H01M 8/10, FI分類-B65H 19/18, FI分類-B65H 19/20, FI分類-H01M 4/88 K |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造装置および製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/30 572 Z, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置およびこれを備える基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板保持装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 光沢判定装置、光沢判定プログラム、および、光沢判定方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/525, FI分類-B41J 2/01 129 |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置、基板処理システムおよび処理液供給方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B08B 3/02 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および光照射装置 FI分類-H01J 61/76, FI分類-H01J 61/80, FI分類-H01J 61/54 N, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | 分類器構築方法、画像分類方法、分類器構築装置および画像分類装置 FI分類-G06T 7/00 U, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06N 99/00 156, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | 塗工装置および塗工方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B01F 7/04 A, FI分類-B05D 1/26 Z |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | 印刷装置、印刷方法、及び印刷システム FI分類-B41F 3/14, FI分類-B41F 3/60, FI分類-B41F 17/14 E, FI分類-B41F 33/06 S, FI分類-H05K 3/12 630 Z |
2015年09月25日 特許庁 / 特許 | 膜厚測定装置及び膜厚測定方法 FI分類-G01B 11/06 Z, FI分類-G01B 15/02 Z |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | 塗工装置 FI分類-B05C 13/00, FI分類-B65H 26/02, FI分類-B65H 23/025 |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 D |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61K 9/48, FI分類-A61K 47/02, FI分類-A61K 47/14, FI分類-C09D 11/32, FI分類-C09D 11/38, FI分類-B41M 5/00 E, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 501 |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 13/00, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 J, FI分類-H01L 21/68 A |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | インクジェット用水性インク組成物及び固体製剤 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61K 9/48, FI分類-C09D 11/38, FI分類-C09D 11/328, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41M 5/00 120 |
2015年09月14日 特許庁 / 特許 | 塗工装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/00 D |
2015年09月11日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-G03F 7/26, FI分類-F26B 9/06 A |
2015年09月10日 特許庁 / 特許 | 画像分類方法、分類器の構成方法および画像分類装置 FI分類-G06T 7/00 300 F, FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2015年09月08日 特許庁 / 特許 | 画像分類装置および画像分類方法 FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2015年09月02日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2015年09月02日 特許庁 / 特許 | 画像表示装置、画像表示方法、および、画像表示プログラム FI分類-G06F 3/0483, FI分類-G09G 5/00 510 A |
2015年09月02日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 127 |
2015年09月01日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/10 N, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置および補正方法 FI分類-B41J 29/46 A, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | 光規制器具および撮像方法 FI分類-G02B 5/00 A, FI分類-G01N 21/01 D, FI分類-G01N 21/17 A |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | ティーチング方法、治具、および、基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年08月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および吐出ヘッド FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年08月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2015年08月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年08月24日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 D |
2015年08月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2015年08月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/16 502, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562 |
2015年08月19日 特許庁 / 特許 | 教示支援方法および画像分類方法 FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 J |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 J |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2015年08月17日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年08月17日 特許庁 / 特許 | 欠陥検査装置 FI分類-G01N 21/956 A |
2015年08月14日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年08月14日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年08月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年08月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および処理液吐出方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年08月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年08月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年07月31日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R |
2015年07月31日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z |
2015年07月30日 特許庁 / 特許 | 位置計測装置、データ補正装置、位置計測方法、およびデータ補正方法 FI分類-G03F 9/00 A, FI分類-G01B 11/00 D, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G06T 1/00 305 |
2015年07月29日 特許庁 / 特許 | 流下判定方法、流下判定装置および吐出装置 FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-G06T 1/00 300, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-G06T 1/00 305 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z |
2015年07月28日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-G06T 3/40 710, FI分類-H04N 1/40 101 D |
2015年07月28日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および塗布方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B01D 19/00 B, FI分類-B01D 19/00 102, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2015年07月27日 特許庁 / 特許 | データ補正装置、描画装置、検査装置、データ補正方法、描画方法、検査方法およびプログラム FI分類-H05K 3/00 D, FI分類-H05K 3/06 D, FI分類-G03F 7/20 505 |
2015年07月27日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷方法およびインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/155, FI分類-B41J 2/165 209 |
2015年07月24日 特許庁 / 特許 | データ補正装置、描画装置、検査装置、データ補正方法、描画方法、検査方法およびプログラム FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-H05K 3/00 Q, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/956 B, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 511, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年07月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年07月23日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置及びそのフラッシング方法 FI分類-B41J 2/165 209 |
2015年07月22日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および露光装置 FI分類-B41C 1/00, FI分類-G03F 7/20 511 |
2015年07月17日 特許庁 / 特許 | 露光データ補正装置、配線パターン形成システム、及び配線基板の製造方法 FI分類-H05K 3/00 G, FI分類-H05K 3/00 H, FI分類-G03F 7/20 501 |
2015年07月15日 特許庁 / 特許 | インク吐出量制限方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 129 |
2015年07月06日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年06月29日 特許庁 / 特許 | 保持機構、外観検査装置、および保持方法 FI分類-B25J 15/08 C, FI分類-G01N 21/84 C |
2015年06月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年06月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法及びその装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 642 B, FI分類-H01L 21/304 642 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年06月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-G01J 5/00 B, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G01J 5/00 101 C |
2015年06月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/16 502, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2015年06月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2015年06月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2015年06月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年06月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年06月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年06月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/30 567 |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | クラック検知方法、クラック検知装置および基板処理装置 FI分類-G01N 29/12, FI分類-H01L 21/66 K, FI分類-H01L 21/68 A |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年06月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年06月12日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G02B 21/00, FI分類-G03B 15/05, FI分類-G03B 7/091, FI分類-G03B 15/02 F, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-H04N 5/232 A, FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-H04N 5/238 Z |
2015年06月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/12 E, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2015年06月08日 特許庁 / 特許 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-C04B 35/00 J, FI分類-C23C 14/08 D, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/35 Z, FI分類-H01L 21/285 S, FI分類-H01B 13/00 503 B |
2015年06月05日 特許庁 / 特許 | 分極反転構造の製造方法、光学デバイスの製造方法、反転用電極および電気光学結晶基板 FI分類-G02F 1/03 |
2015年06月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 検査装置および基板処理装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 検査装置および基板処理装置 FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G01N 21/956 Z, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年05月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H05B 3/68, FI分類-H05B 3/02 B, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H05B 3/20 316 |
2015年05月21日 特許庁 / 特許 | 顔料組成物及びインクジェット用水性インク組成物 FI分類-C09C 1/48, FI分類-C09D 11/324 |
2015年05月15日 特許庁 / 特許 | 液充填方法および充填材層形成方法 FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年05月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年05月13日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年05月11日 特許庁 / 特許 | ポリイミドフィルムの製造方法、電子機器の製造方法および塗膜の剥離方法 FI分類-C08L 79/08, FI分類-B05D 5/00 A, FI分類-C08J 3/24 Z, FI分類-H05K 3/00 L, FI分類-C08J 5/18 CFG, FI分類-B05D 7/24 302 X, FI分類-H05K 1/03 610 N |
2015年04月30日 特許庁 / 特許 | 光照射装置および描画装置 FI分類-G02B 27/48, FI分類-B23K 26/067, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-B23K 26/064 Z, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/268 J |
2015年04月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年04月23日 特許庁 / 特許 | 検査装置および基板処理装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 565, FI分類-H01L 21/30 570 |
2015年04月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G03F 7/38 511, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | マグネットドラム、画像記録装置、および、マグネットドラムの製造方法 FI分類-B41C 1/00, FI分類-B41F 27/02, FI分類-B41J 11/04, FI分類-G03F 7/24 G |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 時系列データ処理方法、時系列データ処理プログラム、および、時系列データ処理装置 FI分類-G06F 17/30 415, FI分類-G06F 17/30 320 A, FI分類-G06F 17/30 340 Z, FI分類-G06F 17/30 350 C |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 欠陥分類装置および欠陥分類方法 FI分類-G01N 21/956, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/88 J, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 脱酸素装置および基板処理装置 FI分類-B01D 19/00 F, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 基板搬送装置、基板処理装置および基板搬送方法 FI分類-F24F 11/04 G, FI分類-F24F 11/04 Z, FI分類-F24F 7/007 B, FI分類-H01L 21/68 A |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 撮像装置、撮像方法および培養容器 FI分類-C12M 1/22, FI分類-G01N 21/01 Z, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G01N 21/21 Z |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 信号処理方法および画像処理装置 FI分類-G01N 21/03 Z, FI分類-G01N 21/17 630 |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-F26B 21/00 H, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 乾燥装置、塗膜形成システム、乾燥方法および塗膜形成方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05D 3/00 Z, FI分類-H01M 4/04 Z, FI分類-F26B 13/08 Z, FI分類-B05D 7/24 301 E |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 流量制御方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置および処理液供給装置の制御方法 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 冷却用ローラ及びそれを備えた印刷装置 FI分類-B41J 3/60, FI分類-B41J 29/00 G, FI分類-B41J 29/00 H, FI分類-F16C 13/00 C, FI分類-F26B 13/18 Z, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G03G 21/00 530 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-F27D 19/00 Z, FI分類-H01L 21/31 E, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/324 Q, FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H01L 21/324 W |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/22 E, FI分類-H01L 21/22 P, FI分類-H01L 21/225 R, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置と処理ガス供給ノズル FI分類-H01L 21/30 563, FI分類-H01L 21/30 567 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 画像検査装置及びその再印刷指定方法及びそのプログラム並びにそれを備えた印刷装置 FI分類-B41J 29/46 B, FI分類-G06F 3/12 310, FI分類-G06F 3/12 334, FI分類-G06F 3/12 337 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 塗工装置、塗工方法および塗膜形成システム FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/04, FI分類-B05C 11/04, FI分類-H01M 4/139, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 G, FI分類-B05D 7/00 B, FI分類-H01M 4/04 A, FI分類-H01M 4/70 A |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置、および熱処理装置の調整方法 FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 567 |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 塗布方法 FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 露光装置、基板処理装置、基板の露光方法および基板処理方法 FI分類-G03F 7/20 501 |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | 露光装置および基板処理装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年03月25日 特許庁 / 特許 | インクジェット記録装置 FI分類-B41J 2/165, FI分類-B41J 2/165 209 |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | 領域検出装置および領域検出方法 FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A, FI分類-G06T 7/00 200 C, FI分類-G06T 7/00 350 B |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | 剥離装置のレシピ作成方法 FI分類-B65H 41/00 B, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年03月23日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/165 101, FI分類-B41J 2/165 303, FI分類-B41J 2/165 305 |
2015年03月23日 特許庁 / 特許 | ネガティブ現像処理方法およびネガティブ現像処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2015年03月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B23K 26/03, FI分類-B23K 26/10, FI分類-B23K 26/146, FI分類-B23K 26/08 D, FI分類-H01L 21/304 642 D, FI分類-H01L 21/304 645 D, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年03月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 569 F, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2015年03月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年03月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年03月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-F27B 5/14, FI分類-B65G 49/07 E, FI分類-F27B 17/00 E, FI分類-F27D 11/02 Z, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N |
2015年03月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置及びそのチャック洗浄方法 FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 502 J, FI分類-H01L 21/304 642 Z, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年03月10日 特許庁 / 特許 | 検査方法及び検査装置 FI分類-G02B 5/08 Z, FI分類-G03F 9/02 H, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年03月06日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年03月04日 特許庁 / 特許 | 印刷データ生成装置、印刷データ生成方法、および印刷データ生成プログラム FI分類-G06F 3/12 306, FI分類-G06F 3/12 343, FI分類-G06F 3/12 347 |
2015年03月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年03月03日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年03月02日 特許庁 / 特許 | 基板温度調整方法 FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理システムおよび基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置ならびに流体ノズル FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の制御方法 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2015年02月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年02月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2015年02月24日 特許庁 / 特許 | 光学デバイスおよび露光装置 FI分類-G02F 1/03 505, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 515 D |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | 蒸気供給装置、蒸気乾燥装置、蒸気供給方法および蒸気乾燥方法 FI分類-F26B 21/00 P, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | パターン検査装置およびパターン検査方法 FI分類-G01B 11/24 F, FI分類-G01N 21/956 B |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G01N 27/10, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | 測定装置および測定方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 8/04 Z, FI分類-B01J 23/42 M, FI分類-G01N 21/3586 |
2015年02月18日 特許庁 / 特許 | 脱気装置、塗布装置、および脱気方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B01D 19/00 B |
2015年02月18日 特許庁 / 特許 | スリットノズル、塗布装置、および塗布方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2015年02月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年02月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 C |
2015年02月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 C |
2015年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2015年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年02月09日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置および画像記録方法 FI分類-B41J 11/04, FI分類-B41J 11/20, FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 15/04, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/01 501 |
2015年02月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2015年02月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年01月29日 特許庁 / 特許 | 検査装置、描画装置及び検査方法 FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G03F 7/20 505 |
2015年01月29日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/52, FI分類-H05H 1/46 L |
2015年01月27日 特許庁 / 特許 | 蒸気供給装置、蒸気乾燥装置、蒸気供給方法および蒸気乾燥方法 FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 H |
2015年01月26日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及び印刷媒体の変形検出方法 FI分類-B41J 29/46 D, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年01月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | オーバーレイ計測装置およびオーバーレイ計測方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 V |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | インクジェットプリンタ FI分類-B41J 2/155, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 401 |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2015年01月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2015年01月22日 特許庁 / 特許 | プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/509, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C |
2015年01月21日 特許庁 / 特許 | 印刷位置補正方法及びそれを用いた印刷装置 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 451 |
2015年01月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2015年01月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-F16K 31/04 Z, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/31 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/316 B, FI分類-H01L 21/316 S, FI分類-H01L 21/318 A |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 現像方法 FI分類-G03F 7/30 502, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法およびゲート形成方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/316 P |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 現像方法 FI分類-G03F 7/30, FI分類-G03F 7/38, FI分類-H01L 21/30 569 F |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷装置のクリーニング方法 FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/165 211, FI分類-B41J 2/165 303 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、制御プログラムおよび画像処理装置 FI分類-G02B 7/36, FI分類-G06T 5/50, FI分類-G03B 13/36, FI分類-G03B 7/091, FI分類-G02B 7/28 H, FI分類-G03B 15/00 H, FI分類-G03B 15/00 U, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-G06T 1/00 295 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 転写装置および転写方法 FI分類-B41F 1/16, FI分類-B41F 1/00 B, FI分類-H05K 3/20 C, FI分類-B41F 17/14 E, FI分類-H05K 3/12 630 Z |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置のフラッシング方法及びインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/165 209 |
2014年12月22日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 11/42, FI分類-B41J 21/16, FI分類-B41J 25/20, FI分類-B41J 21/00 A, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年12月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B23K 26/36, FI分類-G02B 27/10, FI分類-B23K 26/067, FI分類-B23K 26/00 N, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-G02B 27/28 Z, FI分類-H01L 21/302 201 B |
2014年12月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年12月16日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法 FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/306 G |
2014年12月15日 特許庁 / 特許 | 画像分類装置および画像分類方法 FI分類-G06T 7/00 250, FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D, FI分類-G06F 17/30 220 Z, FI分類-G06F 17/30 320 Z |
2014年12月15日 特許庁 / 特許 | 位置測定装置、データ補正装置、位置測定方法およびデータ補正方法 FI分類-H05K 3/00 Q, FI分類-G01B 11/00 C, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 529, FI分類-H01L 21/30 514 E, FI分類-H01L 21/30 525 W |
2014年12月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、処理液供給装置および基板乾燥方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-G03F 7/30 501, FI分類-G03F 7/32 501, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年12月05日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2014年12月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B23K 26/12, FI分類-B23K 26/36, FI分類-B23K 26/146, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2014年11月28日 特許庁 / 特許 | 塗布方法および塗布装置 FI分類-B05C 11/06, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B05D 7/24 301 K |
2014年11月26日 特許庁 / 特許 | スパッタリング装置 FI分類-C23C 14/40, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 D, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/35 B |
2014年11月25日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05C 5/00 101 |
2014年11月12日 特許庁 / 特許 | データ補正装置、描画装置、検査装置、データ補正方法、描画方法、検査方法およびプログラム FI分類-H05K 3/00 D, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 529, FI分類-G06F 17/50 658 M, FI分類-H01L 21/30 514 B |
2014年10月31日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置および画像記録方法 FI分類-B65H 7/14, FI分類-B65H 9/00 A, FI分類-B41J 21/00 Z, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-G03G 21/00 370 |
2014年10月23日 特許庁 / 特許 | 熱処理方法および熱処理装置 FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-H01L 21/30 571 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/30 502 J, FI分類-H01L 21/30 569 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 G |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-G02B 7/36, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G02B 7/28 J, FI分類-G01N 33/48 M, FI分類-G03B 15/00 G, FI分類-G03B 15/00 H, FI分類-G03B 15/00 T, FI分類-G01N 33/483 C, FI分類-G06T 1/00 295, FI分類-G06T 1/00 400 B |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 撮像装置および撮像方法 FI分類-G03B 3/04, FI分類-G02B 21/36, FI分類-H04N 5/238, FI分類-G03B 9/00 Z, FI分類-G01N 21/17 A, FI分類-G03B 15/00 H, FI分類-G03B 15/03 Z, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-H04N 5/232 Z |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法、制御プログラム、記録媒体および画像処理装置 FI分類-C12Q 1/04, FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G01N 33/48 Z |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 FI分類-C23C 16/50, FI分類-C23C 16/52, FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 16/455, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/54 B, FI分類-C23C 14/54 F, FI分類-C23C 14/56 F |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | パターン形成装置およびパターン形成方法 FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 523, FI分類-H01L 21/30 525 W |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 J |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 B |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 配線データの生成装置、生成方法、および描画システム FI分類-H05K 3/00 D, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 529, FI分類-H01L 21/30 514 E |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/88 J |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 648 J, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板搬送方法および基板処理装置 FI分類-B25J 9/06 D, FI分類-H01L 21/68 A |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | ロードポート装置と、基板処理装置と、基板収納容器のローディング方法 FI分類-B65G 49/00 C, FI分類-H01L 21/68 A |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板収納容器 FI分類-B65D 85/38 R, FI分類-H01L 21/68 T |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B65G 49/00 C, FI分類-H01L 21/68 A |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 基板搬送方法 FI分類-B25J 9/06 D, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 648 A |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 塗布装置および洗浄方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-B08B 9/032 325, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置及びその斜行補正方法 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 23/025, FI分類-B65H 23/038, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 位置検出装置、基板処理装置、位置検出方法および基板処理方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/16 502 |
2014年09月24日 特許庁 / 特許 | 触媒層形成方法および触媒層形成装置 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K |
2014年09月22日 特許庁 / 特許 | 塗布装置 FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2014年09月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-G05B 19/418 B, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 検査装置および基板処理装置 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-H01L 21/30 502 V |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2014年09月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年09月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B25J 13/08 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2014年09月12日 特許庁 / 特許 | 半導体製造方法および半導体製造装置 FI分類-H01L 21/26 G, FI分類-H01L 21/26 J, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/28 B, FI分類-H01L 21/28 301 R, FI分類-H01L 21/265 602 B |
2014年09月11日 特許庁 / 特許 | 印刷装置及び印刷方法 FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年09月11日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年09月11日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷方法およびインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/01 209, FI分類-B41J 2/165 209 |
2014年09月09日 特許庁 / 特許 | 印刷装置の画像処理装置及びその画像処理方法 FI分類-B41J 5/30 Z |
2014年09月09日 特許庁 / 特許 | 印刷装置および印刷方法 FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年09月05日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/88 J |
2014年09月05日 特許庁 / 特許 | 基板収納容器、ロードポート装置および基板処理装置 FI分類-B65D 85/38 R, FI分類-H01L 21/68 T |
2014年09月02日 特許庁 / 特許 | 教師データ作成支援方法、画像分類方法、教師データ作成支援装置および画像分類装置 FI分類-G06T 7/00 350 B, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2014年09月02日 特許庁 / 特許 | 現像液吐出ノズルおよび現像処理装置 FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2014年09月01日 特許庁 / 特許 | 光機能デバイス、光変調器および露光装置 FI分類-G02F 1/29, FI分類-G02F 1/03 505, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 519, FI分類-H01L 21/30 515 D |
2014年08月29日 特許庁 / 特許 | エッジ位置検出装置およびエッジ位置検出方法 FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G06T 1/00 305 C, FI分類-G06T 7/60 250 C |
2014年08月29日 特許庁 / 特許 | 搬送装置および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A |
2014年08月27日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造装置および製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K |
2014年08月25日 特許庁 / 特許 | 減圧乾燥装置、基板処理装置および減圧乾燥方法 FI分類-B05C 9/12, FI分類-F26B 5/04, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 3/12 A, FI分類-F26B 21/10 Z, FI分類-H01L 21/30 567, FI分類-H01L 21/304 651 K |
2014年08月22日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年08月20日 特許庁 / 特許 | スフェロイドの評価方法およびスフェロイド評価装置 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 A |
2014年08月19日 特許庁 / 特許 | 液体吐出装置 FI分類-B41J 2/165 101 |
2014年08月19日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 27/00 Z |
2014年08月18日 特許庁 / 特許 | 閾値決定方法、画像処理方法および画像処理装置 FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-G01N 33/48 M, FI分類-G01N 33/48 P, FI分類-G06T 1/00 295 |
2014年08月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年08月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2014年08月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年08月12日 特許庁 / 特許 | 分類器構築方法、画像分類方法および画像分類装置 FI分類-G06N 3/12 160, FI分類-G06N 99/00 153, FI分類-G06T 7/00 350 D, FI分類-G06F 17/30 170 B, FI分類-G06F 17/30 210 D |
2014年08月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、ノズルおよび基板処理方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05C 11/06, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 1/36 Z, FI分類-B05D 3/12 E, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-H01L 21/30 572 B |
2014年08月11日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造装置および製造方法 FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2014年08月11日 特許庁 / 特許 | 膜・触媒層接合体の製造装置 FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/1004, FI分類-H01M 8/10 101 |
2014年08月08日 特許庁 / 特許 | パターン検査装置およびパターン検査方法 FI分類-G01B 11/02 H, FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A, FI分類-G06T 1/00 305 A |
2014年08月08日 特許庁 / 特許 | 光学特性取得装置、位置測定装置、光学特性取得方法および位置測定方法 FI分類-G03F 9/00 A, FI分類-G03F 9/00 Z, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 520, FI分類-H01L 21/30 529, FI分類-H01L 21/30 516 A |
2014年08月07日 特許庁 / 特許 | 光照射装置、描画装置および位相差生成器 FI分類-B41J 2/455, FI分類-G02B 27/48, FI分類-G02B 26/08 E, FI分類-B23K 26/064 N, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-H01L 21/30 515 D |
2014年07月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年07月29日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 E, FI分類-H01L 21/304 648 F |
2014年07月25日 特許庁 / 特許 | カラーチャート作成方法および色補正方法 FI分類-B41J 2/21, FI分類-B41J 2/525, FI分類-H04N 1/40 D, FI分類-H04N 1/46 Z, FI分類-B41J 29/46 A, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-G06T 1/00 510 |
2014年07月24日 特許庁 / 特許 | 基板保持検査方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2014年07月24日 特許庁 / 特許 | データ補正装置、描画装置、検査装置、データ補正方法、描画方法、検査方法およびプログラム FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 529 |
2014年07月24日 特許庁 / 特許 | 基板保持検査方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 K, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2014年07月22日 特許庁 / 特許 | 色変換装置および色変換方法 FI分類-H04N 1/40 D, FI分類-H04N 1/46 Z, FI分類-G06T 1/00 510 |
2014年07月22日 特許庁 / 特許 | 蛇行周波数特定装置および蛇行補正方法。 FI分類-B41J 15/04, FI分類-B65H 26/04, FI分類-B65H 23/038 Z |
2014年07月22日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置のフラッシング方法及びインクジェット印刷装置 FI分類-B41J 2/17 207, FI分類-B41J 2/165 209 |
2014年07月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B65G 49/07 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 502 J |
2014年07月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N |
2014年07月18日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年07月17日 特許庁 / 特許 | 画像データ生成装置、画像記録装置、画像データ生成方法およびプログラム FI分類-B41J 2/52, FI分類-B41J 2/205, FI分類-H04N 1/40 B, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-G06T 5/00 200 A, FI分類-H04N 1/40 103 B |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | 液体吐出装置の制御方法、および液体吐出装置 FI分類-B41J 2/165 205, FI分類-B41J 2/175 171 |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | データ処理装置、画像記録システム、データ処理方法およびプログラム FI分類-B41J 2/525, FI分類-H04N 1/387, FI分類-B41J 5/30 C, FI分類-G06F 3/12 L, FI分類-H04N 1/40 Z |
2014年07月08日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年07月03日 特許庁 / 特許 | エッチング装置およびエッチング方法 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 101 E |
2014年07月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年07月02日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C |
2014年07月01日 特許庁 / 特許 | 画像処理方法および画像処理装置 FI分類-H04N 1/387, FI分類-G06T 3/00 300 |
2014年07月01日 特許庁 / 特許 | データ演算装置、データ演算方法および欠陥検査装置 FI分類-G06T 5/40, FI分類-G06T 9/00, FI分類-G06T 1/20 B, FI分類-G06T 7/60 120, FI分類-G06F 9/46 465 E |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年06月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置のためのスケジュール作成方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年06月23日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置のためのスケジュール作成方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-G05B 19/418 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A |
2014年06月06日 特許庁 / 特許 | スパッタリング装置およびスパッタリング方法 FI分類-C23C 14/40, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 B, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/35 B |
2014年06月06日 特許庁 / 特許 | 周縁露光装置および周縁露光方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G11B 7/26 501, FI分類-H01L 21/30 577 |
2014年06月06日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置、インクジェット印刷装置の制御方法、および、コンピュータプログラム FI分類-B41J 2/155, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年06月04日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年05月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41M 5/00 A, FI分類-B41M 5/00 B, FI分類-B05C 5/00 101 |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B24B 9/00 601 G, FI分類-H01L 21/304 631, FI分類-H01L 21/304 611 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 644 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板搬入位置決定方法 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41M 5/00 100 |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305 |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年05月21日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年04月30日 特許庁 / 特許 | 画像信号生成装置、画像検査装置、印刷システム、および画像信号生成方法 FI分類-H04N 1/00 A, FI分類-G06T 1/00 310 A, FI分類-H03H 17/00 601 P, FI分類-H03H 17/00 621 Z |
2014年04月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C |
2014年04月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 薄膜形成装置 FI分類-H01L 21/31 A, FI分類-H01L 21/68 N |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 光照射装置および描画装置 FI分類-B23K 26/064 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 529, FI分類-H01L 21/30 515 D |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 光照射装置および描画装置 FI分類-G02B 27/48, FI分類-H01L 21/30 527, FI分類-H01L 21/30 529 |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/308 G, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 位相差測定装置 FI分類-G01J 9/02, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01M 11/00 T |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび配管洗浄方法 FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-B08B 9/02 Z, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理システムおよび配管洗浄方法 FI分類-B08B 9/032, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-F26B 3/20, FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-F26B 3/20, FI分類-F26B 5/14, FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H05B 3/00 310 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板洗浄装置および基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 643 D |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z |
2014年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年03月25日 特許庁 / 特許 | 成膜装置および成膜方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/505, FI分類-H05H 1/46 L |
2014年03月25日 特許庁 / 特許 | 検査用チャート及び印刷装置 FI分類-B41J 2/155, FI分類-B41J 29/46 A, FI分類-B41J 2/01 451 |
2014年03月25日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置及びそれにおけるオーバーコート剤吐出状態確認方法 FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 207 |
2014年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-B08B 3/04 A, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B |
2014年03月24日 特許庁 / 特許 | 触媒層形成方法および触媒層形成装置 FI分類-H01M 4/92, FI分類-H01M 8/10, FI分類-H01M 4/86 M, FI分類-H01M 4/88 K |
2014年03月24日 特許庁 / 特許 | ターンバー FI分類-B65H 23/32 |
2014年03月20日 特許庁 / 特許 | 間欠塗工方法および間欠塗工装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-H01M 8/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-H01M 4/88 K, FI分類-H01M 8/02 E |
2014年03月20日 特許庁 / 特許 | 薬効評価方法および画像処理装置 FI分類-C12Q 1/02, FI分類-C12M 1/34 A, FI分類-G01N 33/15 Z, FI分類-G01N 33/50 Z |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | インクジェット印刷装置の印刷方法 FI分類-B41J 2/01 303, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401 |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-F26B 5/16, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 処理液供給装置 FI分類-F16K 31/122, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 液体吐出装置、およびその制御方法 FI分類-B41J 2/18, FI分類-B41J 2/165 205 |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648 J, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 H, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 Z |
2014年03月17日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置を用いた基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2014年03月14日 特許庁 / 特許 | 画像形成装置、画像形成システム、及び印刷物を生産する方法 FI分類-B41J 2/01 123, FI分類-B41J 2/01 125 |
2014年03月13日 特許庁 / 特許 | 閾値マトリクス生成装置、画像記録装置、閾値マトリクス生成方法および閾値マトリクス FI分類-B41J 2/205, FI分類-H04N 1/40 C, FI分類-G06T 5/00 200 A |
2014年03月13日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z |
2014年03月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 577, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 E, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月12日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 1/40 A, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月11日 特許庁 / 特許 | 描画方法および描画装置 FI分類-G03F 9/02 H, FI分類-H01L 21/30 502 G, FI分類-H01L 21/30 516 A |
2014年03月11日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/08, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年03月10日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 FI分類-B08B 3/10 Z, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-B08B 9/032 328, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年03月07日 特許庁 / 特許 | 液滴吐出装置、および液滴吐出方法 FI分類-B41J 3/04 102 N, FI分類-B41J 3/04 102 Z |
2014年03月07日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R |
2014年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2014年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年02月27日 特許庁 / 特許 | 直接描画装置用のGUI装置、直接描画システム、描画領域設定方法およびプログラム FI分類-G06F 3/048 651 C |
2014年02月27日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年02月26日 特許庁 / 特許 | 基板乾燥装置および基板乾燥方法 FI分類-F26B 5/16, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M |
2014年02月25日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 H |
2014年02月20日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、プログラム、および、基板処理方法 FI分類-B65G 49/00 C, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562 |
2014年02月18日 特許庁 / 特許 | ベクトルデータ処理装置、画像記録システム、ベクトルデータ処理方法およびプログラム FI分類-G06T 3/00 500 Z |
2014年02月17日 特許庁 / 特許 | 両面塗工装置、両面塗工方法および塗膜形成システム FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/04, FI分類-B05D 1/34, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-H01M 4/04 Z |
2014年02月17日 特許庁 / 特許 | パターン描画装置用のGUI装置、パターン描画システム、ジョブチケット更新方法およびプログラム FI分類-G06F 3/048 654 D |
2014年02月17日 特許庁 / 特許 | 変位検出装置、基板処理装置、変位検出方法および基板処理方法 FI分類-G01B 11/00 H |
2014年02月07日 特許庁 / 特許 | 画像記録装置および画像記録方法 FI分類-B41C 1/05, FI分類-B41J 3/54, FI分類-B41M 1/02, FI分類-B41C 1/055, FI分類-B41J 19/18 H |
2014年01月31日 特許庁 / 特許 | パターン描画装置およびパターン描画方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 529 |
2014年01月31日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G |
2014年01月31日 特許庁 / 特許 | 検査装置および検査方法 FI分類-G01N 21/956 B |
2014年01月30日 特許庁 / 特許 | 基板処理方法および基板処理装置 FI分類-F26B 5/04, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L |
2014年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 503 C, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C |
2014年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 G, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 J |
2014年01月28日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 K |
2014年01月27日 特許庁 / 特許 | 印刷制御装置及び印刷装置、インクジェット印刷装置並びに印刷方法 FI分類-B41J 25/20, FI分類-G06F 3/12 A, FI分類-G06F 3/12 B, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 3/04 101 Z, FI分類-B41J 3/04 102 Z |
2014年01月27日 特許庁 / 特許 | 印刷装置 FI分類-B41J 25/20, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 209 |
2014年01月24日 特許庁 / 特許 | 画像データ生成装置、画像データ生成方法および印刷システム FI分類-B41J 3/00 A, FI分類-H04N 1/40 B, FI分類-B41J 3/04 101 Z |
2014年01月17日 特許庁 / 特許 | 石定盤、石定盤の加工方法、石定盤の製造方法および基板処理装置 FI分類-B05C 13/00, FI分類-B23K 26/10, FI分類-B23K 26/00 E, FI分類-B23K 26/00 G, FI分類-H01L 21/68 N |
2014年01月16日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L |
2014年01月15日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2014年01月08日 特許庁 / 特許 | 熱処理装置および熱処理方法 FI分類-H01L 21/26 T, FI分類-H01L 21/68 N |
2014年01月07日 特許庁 / 特許 | 印刷データ処理装置、印刷装置、印刷データ処理方法および印刷システム FI分類-G06F 3/12 C, FI分類-B41J 29/38 Z |
株式会社SCREENホールディングスの商標情報(75件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年06月21日 特許庁 / 商標 | SARIA 09類, 42類 |
2023年06月15日 特許庁 / 商標 | BEVE-Q 42類 |
2023年01月20日 特許庁 / 商標 | Truepress JET 07類 |
2023年01月20日 特許庁 / 商標 | Truepress LABEL 07類 |
2023年01月20日 特許庁 / 商標 | Truepress PAC 07類 |
2023年01月17日 特許庁 / 商標 | Causalas 09類 |
2023年01月16日 特許庁 / 商標 | 朱栗 凛＼Sukuri Rin 07類, 09類 |
2022年05月18日 特許庁 / 商標 | STIMA＼エスティマ 09類 |
2022年04月15日 特許庁 / 商標 | SCREEN フェバックス 07類, 37類 |
2022年04月08日 特許庁 / 商標 | SCREEN 07類, 09類 |
2022年04月08日 特許庁 / 商標 | §LeVina 07類 |
2021年07月19日 特許庁 / 商標 | OrganPocket 10類 |
2021年07月15日 特許庁 / 商標 | スゴい半導体を＼クリーンにする会社。 07類 |
2021年02月17日 特許庁 / 商標 | LithoSpin 07類 |
2020年11月04日 特許庁 / 商標 | ラムダエース 09類 |
2020年03月05日 特許庁 / 商標 | AStrigo 09類, 42類 |
2019年09月20日 特許庁 / 商標 | Locavena 09類 |
2019年09月20日 特許庁 / 商標 | ロケヴェーナ 09類 |
2019年08月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN 35類, 37類, 42類 |
2019年04月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN DecoraPrint 07類, 20類, 21類, 40類 |
2019年01月18日 特許庁 / 商標 | SCREEN GPジャパン 35類 |
2019年01月18日 特許庁 / 商標 | SCREEN GPサービス東日本 35類, 37類 |
2019年01月18日 特許庁 / 商標 | SCREEN GPサービス西日本 35類, 37類 |
2018年12月20日 特許庁 / 商標 | SCREEN PE エンジニアリング 35類, 37類 |
2018年11月14日 特許庁 / 商標 | §Lulimo 09類 |
2018年10月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE ワークス 07類, 09類, 40類 |
2018年10月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE サーク 35類, 37類 |
2018年10月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE クォーツ 40類 |
2018年10月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE テック 07類, 09類 |
2018年10月26日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE サービス 07類, 09類, 37類 |
2018年08月28日 特許庁 / 商標 | SCREEN ラミナテック 07類 |
2018年08月06日 特許庁 / 商標 | SCREENロジスティクス 35類, 39類 |
2018年08月02日 特許庁 / 商標 | SCREEN MFG サービス 07類, 09類, 35類, 37類, 40類 |
2018年07月24日 特許庁 / 商標 | SCREEN ICT ソフトウエア 09類, 42類 |
2018年07月13日 特許庁 / 商標 | NaviQuoise 09類 |
2018年06月15日 特許庁 / 商標 | SIGNITO 07類 |
2018年06月05日 特許庁 / 商標 | BEVERSA 07類 |
2018年05月28日 特許庁 / 商標 | OMNITO 07類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | SCREENキャリアサービス 35類, 42類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | SCREEN システムサービス 35類, 37類, 41類, 42類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | SCREEN ビジネスエキスパート 35類, 37類, 41類, 42類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | SCREEN クリエイティブコミュニケーションズ 35類, 40類, 41類, 42類 |
2017年12月06日 特許庁 / 商標 | 文錦 09類 |
2017年11月28日 特許庁 / 商標 | CELL∞3∞IMAGER ESTIER 09類 |
2017年11月13日 特許庁 / 商標 | §LANZAN 07類 |
2017年01月10日 特許庁 / 商標 | SCREENグラフィックソリューションズ 07類, 09類 |
2017年01月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Graphic Solutions 07類, 09類 |
2017年01月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN PE ソリューションズ 07類, 09類 |
2017年01月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN PE Solutions 07類, 09類 |
2016年12月08日 特許庁 / 商標 | §MIYABI 09類 |
2016年09月06日 特許庁 / 商標 | SCREEN Advanced System Solutions 09類, 42類 |
2016年08月30日 特許庁 / 商標 | SCREEN IP Solutions 45類 |
2016年06月24日 特許庁 / 商標 | SCREENアドバンストシステムソリューションズ 42類 |
2016年06月24日 特許庁 / 商標 | SCREEN IP ソリューションズ 45類 |
2016年05月23日 特許庁 / 商標 | NAVIMICHAEL 09類 |
2016年05月20日 特許庁 / 商標 | §GP i3 07類, 09類, 42類 |
2016年05月20日 特許庁 / 商標 | §EQUIOS＼ART & UX 07類, 09類, 42類 |
2015年09月30日 特許庁 / 商標 | EQUIOS ART 07類, 09類 |
2015年01月19日 特許庁 / 商標 | SCREEN SPE 07類 |
2014年12月12日 特許庁 / 商標 | SCREEN HD 07類, 09類 |
2014年12月12日 特許庁 / 商標 | SCREEN SE 07類 |
2014年12月12日 特許庁 / 商標 | SCREEN GP 09類 |
2014年12月12日 特許庁 / 商標 | SCREEN FT 07類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENホールディングス 07類, 09類, 35類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Holdings 07類, 09類, 35類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Semiconductor Solutions 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Finetech Solutions 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Graphic and Precision Solutions 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Manufacturing Support Solutions 07類, 09類, 35類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREEN Business Support Solutions 35類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENセミコンダクターソリューションズ 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENファインテックソリューションズ 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENグラフィックアンドプレシジョンソリューションズ 07類, 09類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENマニュファクチャリングサポートソリューションズ 07類, 09類, 35類 |
2014年07月10日 特許庁 / 商標 | SCREENビジネスサポートソリューションズ 35類 |
株式会社SCREENホールディングスの意匠情報(5件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年12月27日 特許庁 / 意匠 | ウェハ洗浄装置用搬送ユニット 意匠新分類-K0790 |
2023年06月23日 特許庁 / 意匠 | 基板処理装置に用いられる飛沫拡散抑制部材 意匠新分類-K0790 |
2018年06月25日 特許庁 / 意匠 | 錠剤印刷装置 意匠新分類-K40 |
2018年06月25日 特許庁 / 意匠 | 錠剤印刷装置 意匠新分類-K40 |
2017年12月01日 特許庁 / 意匠 | 光干渉断層撮影機 意匠新分類-K670 |
株式会社SCREENホールディングスの職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | 主に持株会社としてグループ企業の経営管理など |
企業規模 | 529人 男性 419人 / 女性 110人 |
平均勤続年数 範囲 正社員 | 男性 18.5年 / 女性 15.7年 |
女性労働者の割合 範囲 その他 | 10.6% |
管理職全体人数 | 377人 男性 364人 / 女性 13人 |
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