株式会社堀場アドバンスドテクノとは

株式会社堀場アドバンスドテクノ(ホリバアドバンスドテクノ)は、法人番号:6130001010608で京都府京都市南区吉祥院宮ノ東町2番地に所在する法人として京都地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役社長西方健太郎。従業員数は368人。登録情報として、表彰情報が3件届出情報が3件特許情報が37件商標情報が6件職場情報が1件が登録されています。なお、2021年01月13日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2024年06月12日です。
インボイス番号:T6130001010608については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は京都労働局。京都下労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

株式会社堀場アドバンスドテクノの基本情報

項目 内容
商号又は名称 株式会社堀場アドバンスドテクノ
商号又は名称(読み仮名)フリガナ ホリバアドバンスドテクノ
法人番号 6130001010608
会社法人等番号 1300-01-010608
登記所 京都地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T6130001010608
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒601-8305
※地方自治体コードは 26107
国内所在地(都道府県)都道府県 京都府
※京都府の法人数は 112,257件
国内所在地(市区町村)市区町村 京都市南区
※京都市南区の法人数は 6,393件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 吉祥院宮ノ東町2番地
国内所在地(1行表示)1行表示 京都府京都市南区吉祥院宮ノ東町2番地
国内所在地(読み仮名)読み仮名 -
英語表記 HORIBA Advanced Techno, Co.,Ltd.
国内所在地(英語表示)英語表示 2, Miyanohigashi-cho, Kisshoin, Minami-ku, Kyoto
代表者 代表取締役社長 西方 健太郎
従業員数 368人
更新年月日更新日 2024年06月12日
変更年月日変更日 2021年01月13日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 京都労働局
〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 京都下労働基準監督署
〒600-8009 京都府京都市下京区四条通室町東入 函谷鉾町101 アーバンネット四条烏丸ビル5階

株式会社堀場アドバンスドテクノの場所

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株式会社堀場アドバンスドテクノの登録履歴

日付 内容
2021年01月13日
【住所変更】
国内所在地が「京都府京都市南区吉祥院宮ノ東町2番地」に変更されました。
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「株式会社堀場アドバンスドテクノ」で、「京都府京都市南区吉祥院宮ノ西町31番地」に新規登録されました。

株式会社堀場アドバンスドテクノの法人活動情報

株式会社堀場アドバンスドテクノの表彰情報(3件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2024年09月16日
あんぜんプロジェクト-認定
2024年09月16日
次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2023
2017年12月04日
両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社堀場アドバンスドテクノの届出情報(3件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年01月12日
計量法届出製造事業者 - 濃度計第三類
2017年01月12日
計量法届出製造事業者 - 濃度計第二類
2017年01月12日
計量法届出製造事業者 - 濃度計第一類

株式会社堀場アドバンスドテクノの特許情報(37件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2022年06月02日
特許庁 / 特許
イオン分析装置及び燃料電池評価システム
FI分類-H01M 8/04 N
2020年12月01日
特許庁 / 特許
蛍光X線分析装置
FI分類-G01N 23/223
2020年12月01日
特許庁 / 特許
蛍光X線分析装置
FI分類-G01N 23/223
2020年12月01日
特許庁 / 特許
電気化学測定ユニット、電気化学測定装置及び電気化学測定方法
FI分類-G01N 27/28 341 Z, FI分類-G01N 27/403 371 A
2020年05月15日
特許庁 / 特許
液体分析装置及びセンサユニット
FI分類-G01N 27/06 A, FI分類-G01N 27/27 A, FI分類-G01N 27/26 371 G, FI分類-G01N 27/28 341 A, FI分類-G01N 27/416 353 Z
2020年03月03日
特許庁 / 特許
光学セル及び光学分析装置
FI分類-G01N 21/05, FI分類-G01N 21/09, FI分類-G01N 21/03 B, FI分類-G01N 21/03 Z
2019年08月28日
特許庁 / 特許
分析装置
FI分類-G01N 27/416 341 M
2019年08月09日
特許庁 / 特許
試料前処理機、及び、分析システム
FI分類-C12M 1/34 B, FI分類-G01N 1/10 B, FI分類-G01N 1/28 J
2019年08月02日
特許庁 / 特許
カルシウムイオン濃度測定装置
FI分類-G01N 33/50 Z, FI分類-G01N 27/38 301, FI分類-G01N 27/416 351 B
2019年06月07日
特許庁 / 特許
油分抽出剤
FI分類-G01N 1/10 F, FI分類-G01N 21/3577
2019年04月19日
特許庁 / 特許
光学分析装置
FI分類-G01N 21/27 Z, FI分類-G01N 21/3577
2018年09月06日
特許庁 / 特許
比較電極
FI分類-G01N 27/30 311 Z
2018年08月29日
特許庁 / 特許
電気化学測定装置及びその洗浄方法
FI分類-G01N 27/38
2018年07月17日
特許庁 / 特許
試料分析装置
FI分類-G01N 35/10 G
2018年07月17日
特許庁 / 特許
生体試料分析装置
FI分類-G01N 21/76, FI分類-G01N 21/01 B, FI分類-G01N 21/78 C
2018年07月13日
特許庁 / 特許
応答ガラス及びガラス電極
FI分類-C03C 3/095, FI分類-G01N 27/36 B
2018年03月20日
特許庁 / 特許
電極装置
FI分類-G01N 27/38, FI分類-G01N 27/36 Z, FI分類-G01N 27/403 371 Z
2018年03月05日
特許庁 / 特許
光学測定セル、光学分析計、及び光学測定セルの製造方法
FI分類-G01N 21/05, FI分類-G01N 21/09
2017年12月15日
特許庁 / 特許
導電率計又は比抵抗計用の電極、当該電極を用いた導電率計及び比抵抗計
FI分類-G01N 27/07, FI分類-G01R 27/00, FI分類-G01R 27/02 R
2017年12月15日
特許庁 / 特許
電磁気センサ
FI分類-G01N 27/07, FI分類-G01N 27/22 B
2017年12月08日
特許庁 / 特許
放射温度計
FI分類-G01J 5/60 D, FI分類-G01J 5/00 101 C, FI分類-G01J 5/00 101 Z
2017年12月04日
特許庁 / 特許
船舶搭載型水質分析装置、及び、船舶搭載型脱泡器
FI分類-G01N 33/18 106 B
2017年02月27日
特許庁 / 特許
測定セル構造及び光学分析装置
FI分類-G01N 21/05, FI分類-G01N 21/59 Z
2017年02月14日
特許庁 / 特許
濃度測定方法、濃度測定用プログラム、濃度測定システム、及び濃度測定装置
FI分類-G01N 27/26 371 A, FI分類-G01N 27/26 371 D, FI分類-G01N 27/26 371 F, FI分類-G01N 27/26 371 G, FI分類-G01N 27/416 351 A
2016年05月16日
特許庁 / 特許
内視鏡リプロセッサ
FI分類-A61B 1/12
2016年05月09日
特許庁 / 特許
内視鏡リプロセッサ
FI分類-A61B 1/12
2015年11月26日
特許庁 / 特許
液体分析計、液体分析システム
FI分類-G01N 27/26 391 Z, FI分類-G01N 27/333 331 Z, FI分類-G01N 27/416 351 A, FI分類-G01N 27/416 351 B
2015年10月19日
特許庁 / 特許
吸光度および蛍光に基づく水処理パラメータの決定
FI分類-G01N 21/27 Z, FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-G01N 33/18 B, FI分類-G01N 33/18 Z
2015年10月15日
特許庁 / 特許
吸光度および蛍光に基づく水処理パラメータの決定
FI分類-G01N 21/27 Z, FI分類-G01N 21/64 Z, FI分類-G01N 33/18 106 Z
2015年01月30日
特許庁 / 特許
比較電極用内部液、比較電極及びガラス電極
FI分類-G01N 27/36 B, FI分類-G01N 27/30 311 C, FI分類-G01N 27/30 311 D
2015年01月16日
特許庁 / 特許
電気特性測定装置
FI分類-G01R 27/22 Z
2014年09月02日
特許庁 / 特許
液体分析計及び液体分析システム
FI分類-G01N 27/28 341 A, FI分類-G01N 27/30 331 E, FI分類-G01N 27/46 351 A
2014年08月07日
特許庁 / 特許
溶存酸素計測システム及び溶存酸素計の校正方法
FI分類-G01N 27/30 341, FI分類-G01N 27/46 323, FI分類-G01N 27/26 381 D, FI分類-G01N 27/28 301 A
2014年06月03日
特許庁 / 特許
隔膜式センサ、液体分析計
FI分類-G01N 27/30 331 K
2014年06月03日
特許庁 / 特許
過酢酸濃度計
FI分類-G01N 27/40, FI分類-G01N 27/46 301 G
2014年02月24日
特許庁 / 特許
導電率計、その製造方法およびコアの取付構造
FI分類-G01R 27/22 A
2014年01月17日
特許庁 / 特許
水質計測システム
FI分類-G01N 33/18 Z, FI分類-G01N 33/18 106 Z

株式会社堀場アドバンスドテクノの商標情報(6件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2019年08月26日
特許庁 / 商標
Rapica
01類, 09類, 10類
2018年01月18日
特許庁 / 商標
はかるEXpress
09類, 35類, 37類, 42類
2018年01月18日
特許庁 / 商標
はかるEX
09類, 35類, 37類, 42類
2017年11月03日
特許庁 / 商標
POLYMERLATE
01類, 09類
2017年02月08日
特許庁 / 商標
Beyond Water with You
07類, 09類, 37類, 42類
2016年06月02日
特許庁 / 商標
Linkage Notes
09類, 35類, 37類, 42類

株式会社堀場アドバンスドテクノの職場情報

項目 データ
事業概要
分析機器の製造販売
企業規模
368人
男性 273人 / 女性 95人
管理職全体人数
43人
男性 39人 / 女性 4人

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前の法人:株式会社輿源 次の法人:株式会社小寺金型製作所

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