法人番号:6130001060231
株式会社ロジストラボ
情報更新日:2025年04月21日
株式会社ロジストラボとは
株式会社ロジストラボ(ロジストラボ)は、法人番号:6130001060231で京都府京都市下京区仏光寺通烏丸東入上柳町331番地に所在する法人として京都地方法務局で法人登録され、2017年07月28日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役高橋啓介。設立日は2017年07月07日。登録情報として、補助金情報が1件、届出情報が1件、特許情報が3件が登録されています。なお、2025年04月16日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2025年04月21日です。
インボイス番号:T6130001060231については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は京都労働局。京都下労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
株式会社ロジストラボの基本情報
項目 | 内容 |
---|---|
商号又は名称 | 株式会社ロジストラボ |
商号又は名称(読み仮名)フリガナ | ロジストラボ |
法人番号 | 6130001060231 |
会社法人等番号 | 1300-01-060231 |
登記所 | 京都地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T6130001060231 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
法人種別 | 株式会社 |
郵便番号 | 〒600-8099 ※地方自治体コードは 26106 |
国内所在地(都道府県)都道府県 | 京都府 ※京都府の法人数は 112,257件 |
国内所在地(市区町村)市区町村 | 京都市下京区 ※京都市下京区の法人数は 10,101件 |
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 | 仏光寺通烏丸東入上柳町331番地 |
国内所在地(1行表示)1行表示 | 京都府京都市下京区仏光寺通烏丸東入上柳町331番地 |
国内所在地(読み仮名)読み仮名 | キョウトフキョウトシシモギョウクカミヤナギチョウ(ブッコウジドオリ) |
代表者 | 代表取締役 高橋 啓介 |
設立日 | 2017年07月07日 |
更新年月日更新日 | 2025年04月21日 |
変更年月日変更日 | 2025年04月16日 |
法人番号指定年月日指定日 | 2017年07月28日 |
管轄の労働局労働局 | 京都労働局 〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451 |
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 京都下労働基準監督署 〒600-8009 京都府京都市下京区四条通室町東入 函谷鉾町101 アーバンネット四条烏丸ビル5階 |
株式会社ロジストラボの場所
株式会社ロジストラボの登録履歴
日付 | 内容 |
---|---|
2025年04月16日 | 【住所変更】 国内所在地が「京都府京都市下京区仏光寺通烏丸東入上柳町331番地」に変更されました。 |
2019年06月03日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都品川区上大崎2丁目12番1号」に変更されました。 |
2019年05月13日 | 【名称変更】 名称が「株式会社ロジストラボ」に変更されました。 |
2017年07月28日 | 【新規登録】 名称が「株式会社ナノオプトニクス研究所」で、「京都府京都市上京区小川通一条上る革堂町589番地パンプラン一条204」に新規登録されました。 |
株式会社ロジストラボの法人活動情報
株式会社ロジストラボの補助金情報(1件)
期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
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2023年04月03日 | 令和5年度中小企業経営支援対策費補助金(成長型中小企業等研究開発支援事業(宇宙産業の市場拡大に貢献する超広視野・高解像度を持つ光学系に必要な自由曲面鏡の製造技術開発と事業化)) 34,535,298円 |
株式会社ロジストラボの届出情報(1件)
日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
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- | 代表者:代表取締役 高橋 啓介 全省庁統一資格 / - |
株式会社ロジストラボの特許情報(3件)
日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
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2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 光学素子の製造方法及び光学素子製造システム FI分類-B24B 49/12, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-B24B 13/00 Z, FI分類-B24B 27/00 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-G01B 11/00 B, FI分類-G01B 11/24 A |
2019年11月20日 特許庁 / 特許 | 光学素子の製造方法、及び光学素子製造装置 FI分類-G02B 3/00, FI分類-B26F 3/00 S, FI分類-C03B 33/023, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-B24B 13/00 A, FI分類-C03C 19/00 Z |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 光学素子の製造方法 FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-G02B 5/08 C, FI分類-B24B 13/04 Z, FI分類-B24B 41/06 Z, FI分類-B24B 13/005 Z |
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