法人番号:6190001029997
高純度シリコン株式会社
情報更新日:2024年08月31日
高純度シリコン株式会社とは
高純度シリコン株式会社(コウジュンドシリコン)は、法人番号:6190001029997で三重県四日市市三田町5番地に所在する法人として津地方法務局で法人登録され、2022年12月08日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役社長太田啓武。従業員数は116人。登録情報として、特許情報が22件、職場情報が1件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2022年12月08日です。
インボイス番号:T6190001029997については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は三重労働局。四日市労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
高純度シリコン株式会社の基本情報
項目 | 内容 |
---|---|
商号又は名称 | 高純度シリコン株式会社 |
商号又は名称(読み仮名)フリガナ | コウジュンドシリコン |
法人番号 | 6190001029997 |
会社法人等番号 | 1900-01-029997 |
登記所 | 津地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T6190001029997 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
法人種別 | 株式会社 |
郵便番号 | 〒510-0841 ※地方自治体コードは 24202 |
国内所在地(都道府県)都道府県 | 三重県 ※三重県の法人数は 55,839件 |
国内所在地(市区町村)市区町村 | 四日市市 ※四日市市の法人数は 10,853件 |
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 | 三田町5番地 |
国内所在地(1行表示)1行表示 | 三重県四日市市三田町5番地 |
国内所在地(読み仮名)読み仮名 | - |
代表者 | 代表取締役社長 太田 啓武 |
従業員数 | 116人 |
更新年月日更新日 | 2022年12月08日 |
変更年月日変更日 | 2022年12月08日 |
法人番号指定年月日指定日 | 2022年12月08日 |
管轄の労働局労働局 | 三重労働局 〒514-8524 三重県津市島崎町327番2 津第二地方合同庁舎 |
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 四日市労働基準監督署 〒510-0064 三重県四日市市新正2-5-23 |
高純度シリコン株式会社の場所
高純度シリコン株式会社の登録履歴
日付 | 内容 |
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2022年12月08日 | 【新規登録】 名称が「高純度シリコン株式会社」で、「三重県四日市市三田町5番地」に新規登録されました。 |
高純度シリコン株式会社の法人活動情報
高純度シリコン株式会社の特許情報(22件)
日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
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2020年04月27日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造用シードの製造方法 FI分類-C01B 33/02 Z, FI分類-H01L 21/304 611 S |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 高純度トリクロロシランの精製方法 FI分類-C01B 33/107 B |
2019年07月03日 特許庁 / 特許 | 半導体原料の破砕方法又はクラック発生方法、及び半導体原料塊の製造方法 FI分類-B02C 23/36, FI分類-B02C 19/18 Z |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | トリクロロシランの製造方法 FI分類-C01B 33/107 B, FI分類-C01B 33/107 Z |
2019年05月10日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン塊表面の金属不純物分析方法 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 27/62 V, FI分類-H01L 21/66 N |
2019年04月18日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンの包装方法、多結晶シリコンの二重包装方法及び単結晶シリコン用原料製造方法 FI分類-B65D 77/04 F, FI分類-B65B 51/10 101 |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | 低炭素高純度多結晶シリコン塊とその製造方法 FI分類-C01B 33/02 E, FI分類-C30B 29/06 D |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | 高純度多結晶シリコンの製造方法 FI分類-C01B 33/035 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | シリコン用包装袋、シリコン包装体及びシリコンの包装方法 FI分類-C01B 33/035, FI分類-B65D 77/26 Z |
2018年09月19日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンロッドの製造方法 FI分類-C01B 33/035, FI分類-C01B 33/02 E |
2017年12月14日 特許庁 / 特許 | シリコン破砕片の表面清浄化方法 FI分類-C01B 33/037, FI分類-C01B 33/02 E, FI分類-C30B 15/00 Z, FI分類-C30B 29/06 502 Z |
2017年11月22日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンロッド製造用反応炉の製造方法及びこの反応炉を用いた多結晶シリコンロッドの製造方法 FI分類-C01B 33/035 |
2017年08月22日 特許庁 / 特許 | シリコン用梱包箱及びシリコンの梱包方法 FI分類-B65D 81/02, FI分類-B65D 77/04 D, FI分類-B65D 77/04 F |
2017年06月21日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコンロッド及びその製造方法 FI分類-C01B 33/02, FI分類-C01B 33/035, FI分類-C01B 33/02 E |
2017年06月07日 特許庁 / 特許 | クロロシラン類の回収方法及びクロロシラン類回収装置 FI分類-B01D 5/00 Z, FI分類-C01B 33/107 B |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | 水素混合ガスの製造方法 FI分類-B01F 3/02, FI分類-C01B 3/02 Z, FI分類-C01B 3/56 Z, FI分類-C01B 33/035, FI分類-B01F 15/04 D, FI分類-C01B 33/107 Z |
2016年11月30日 特許庁 / 特許 | シリコン破砕片の真空乾燥方法 FI分類-F26B 5/04, FI分類-C01B 33/02 E |
2016年10月21日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン製造装置及び製造方法 FI分類-C01B 33/035 |
2016年10月19日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン反応炉 FI分類-C01B 33/035 |
2016年07月08日 特許庁 / 特許 | 梱包箱及び梱包方法並びに取出方法 FI分類-B65D 25/04 Z, FI分類-B65D 85/00 Z |
2015年10月30日 特許庁 / 特許 | 多結晶シリコン反応炉 FI分類-C01B 33/035 |
2015年08月18日 特許庁 / 特許 | 反応炉洗浄装置及び反応炉洗浄方法 FI分類-C01B 33/035 |
高純度シリコン株式会社の職場情報
項目 | データ |
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企業規模 | 116人 男性 97人 / 女性 19人 |
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