法人番号:7011101019599
HOYA株式会社
情報更新日:2024年08月31日
HOYA株式会社とは
HOYA株式会社（ホーヤ）は、法人番号:7011101019599で東京都新宿区西新宿6丁目10番1号に所在する法人として東京法務局新宿出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、取締役兼代表執行役最高経営責任者池田英一郎。資本金は62億6,400万円。従業員数は3,042人。登録情報として、届出情報が2件、特許情報が956件、商標情報が123件、意匠情報が21件、職場情報が1件が登録されています。なお、2020年04月01日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2020年04月24日です。
インボイス番号:T7011101019599については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。新宿労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
HOYA株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | HOYA株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ホーヤ |
| 法人番号 | 7011101019599 |
| 会社法人等番号 | 0111-01-019599 |
| 登記所 | 東京法務局新宿出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T7011101019599 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒160-0023 ※地方自治体コードは 13104 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,323,583件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 新宿区 ※新宿区の法人数は 92,790件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 西新宿6丁目10番1号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都新宿区西新宿6丁目10番1号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトシンジュククニシシンジュク6チョウメ |
| 代表者 | 取締役兼代表執行役 最高経営責任者 池田 英一郎 |
| 資本金 | 62億6,400万円 (2024年06月21日現在) |
| 従業員数 | 3,042人 (2024年06月21日現在) |
| 更新年月日更新日 | 2020年04月24日 |
| 変更年月日変更日 | 2020年04月01日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 新宿労働基準監督署 〒169-0073 東京都新宿区百人町4-4-1新宿労働総合庁舎4・5階 |
HOYA株式会社の場所
HOYA株式会社の補足情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 企業名 読み仮名 | ホウヤカブシキガイシャ |
| 企業名 英語 | HOYA CORPORATION |
| 上場・非上場 | 上場 |
| 資本金 | 62億6,400万円 |
| 業種 | 精密機器 |
| 証券コード | 77410 |
HOYA株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2020年04月01日 | 【吸収合併】 令和2年4月1日東京都中野区中野四丁目10番2号Eye Care Retailing株式会社(5011201017975)を合併 |
| 2020年01月06日 | 【吸収合併】 令和2年1月1日埼玉県戸田市氷川町三丁目5番24号HOYA CANDEO OPTRONICS株式会社(1030001021636)を合併 |
| 2016年04月01日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都新宿区西新宿6丁目10番1号」に変更されました。 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「HOYA株式会社」で、「東京都新宿区中落合2丁目7番5号」に新規登録されました。 |
HOYA株式会社の法人活動情報
HOYA株式会社の届出情報(2件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
2017年11月29日 | 支店:HOYA株式会社 長坂事業所 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣) |
2017年11月29日 | 支店:HOYA株式会社 昭島工場 PRTR届出データ / PRTR - 窯業・土石製品製造業(経済産業大臣) |
HOYA株式会社の特許情報(956件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年08月23日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2022年11月02日 特許庁 / 特許 | 隣り合う切り込みが等間隔でない挿入管を備えた内視鏡およびそのような内視鏡の製造方法 FI分類-A61B 1/005 513 |
2022年07月06日 特許庁 / 特許 | 柱状ガラス、柱状ガラスの製造方法、及び柱状ガラスの製造装置 FI分類-C03B 17/04 A |
2022年06月09日 特許庁 / 特許 | レンズ要素を洗浄するためのノズル要素を備える内視鏡 FI分類-A61B 1/12 531 |
2022年03月31日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法、ガラス基板、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-B23K 26/53, FI分類-C03B 33/04, FI分類-C03B 33/09, FI分類-G11B 5/84 Z |
2022年03月31日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H01L 33/64 |
2022年03月04日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-G11B 17/038 |
2022年02月24日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 501 |
2022年02月24日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、円環形状基板、および磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-G11B 5/84 C, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2022年01月28日 特許庁 / 特許 | ガラス板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、およびガラス板の処理装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03B 29/08, FI分類-B23K 26/354, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B23K 26/064 A |
2021年12月28日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスクの製造方法、磁気ディスク、及び磁気ディスク前駆体 FI分類-G11B 5/64, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/706, FI分類-G11B 5/738, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G11B 5/845 A |
2021年11月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2021年11月11日 特許庁 / 特許 | プログラム、デバイス、およびコンピュータ可読記憶媒体 FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615 |
2021年09月30日 特許庁 / 特許 | スペーサ及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 23/03 603 B |
2021年09月22日 特許庁 / 特許 | 可撓性挿入管および湾曲部分を含む内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/005 524 |
2021年08月27日 特許庁 / 特許 | 可撓性の挿入管および湾曲部分を含む内視鏡 FI分類-A61B 1/005 511, FI分類-A61B 1/008 511 |
2021年08月19日 特許庁 / 特許 | 照明システム FI分類-A61B 1/07 731 |
2021年07月19日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 8/12 |
2021年06月23日 特許庁 / 特許 | 丸棒ガラス、丸棒ガラスの製造方法、及び丸棒ガラスの製造装置 FI分類-C03B 23/045 |
2021年04月26日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2021年03月29日 特許庁 / 特許 | 作業チャネル及びコントロール体を備えた内視鏡 FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 711, FI分類-A61B 1/015 512, FI分類-A61B 1/018 512 |
2021年03月12日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、検査システム、プログラムおよび情報処理方法 FI分類-G01N 21/84 A, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/12 510, FI分類-G01N 21/954 A, FI分類-A61B 1/018 515, FI分類-A61B 1/045 614 |
2021年03月08日 特許庁 / 特許 | ガラススペーサの製造方法、ガラススペーサ、及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 17/25 A |
2021年03月02日 特許庁 / 特許 | 移動可能デバイスのロック機能 FI分類-G06F 21/44, FI分類-H04L 9/32 200 A, FI分類-H04L 9/32 200 B |
2021年02月26日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子、導光板および画像表示装置 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/068 |
2021年02月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及び内視鏡の製造方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 730, FI分類-A61B 1/12 532 |
2021年02月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/12 531 |
2021年01月08日 特許庁 / 特許 | ガラス製成形型の製造方法および光学素子の製造方法 FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 Z |
2020年12月11日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 23/03 603 B |
2020年12月10日 特許庁 / 特許 | 照明装置 FI分類-A61B 1/00 C, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/06 611, FI分類-A61B 1/07 734 |
2020年12月09日 特許庁 / 特許 | ライブ較正 FI分類-H04N 5/238, FI分類-H04N 5/335, FI分類-A61B 1/00 630, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 632, FI分類-H04N 5/225 500, FI分類-H04N 5/225 600, FI分類-H04N 5/232 290, FI分類-H04N 5/235 300, FI分類-H04N 5/235 400, FI分類-H04N 5/235 600 |
2020年11月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 717, FI分類-A61B 1/018 511 |
2020年11月18日 特許庁 / 特許 | 学習モデルの生成方法、プログラム、手技支援システム、情報処理装置、情報処理方法及び内視鏡用プロセッサ FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 D, FI分類-A61B 1/00 620, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 623 |
2020年11月16日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/34 N |
2020年11月02日 特許庁 / 特許 | 照明装置および照明方法 FI分類-H05B 47/11, FI分類-H05B 47/165 |
2020年10月29日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年10月02日 特許庁 / 特許 | プログラム、情報処理方法及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/00 682, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/04 530, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 622 |
2020年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板配置支援治具及び基板の製造方法 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 37/28, FI分類-B24B 37/34 |
2020年09月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ及び内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 616, FI分類-A61B 1/045 618 |
2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ及び内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 616 |
2020年09月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡、プログラム及び情報処理方法 FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/06 612 |
2020年09月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、プログラム、情報処理方法及び情報処理装置 FI分類-A61B 1/00 V, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 620, FI分類-A61B 5/055 390, FI分類-A61B 6/03 360 G |
2020年09月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、プログラム、情報処理方法及び情報処理装置 FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-A61B 1/045 620 |
2020年09月15日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ及び内視鏡システム FI分類-H04N 5/20, FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 618 |
2020年09月09日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器具及びその設計方法 FI分類-A61F 2/16, FI分類-A61F 9/007 200 Z |
2020年09月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡使用支援システム FI分類-A61B 1/00 600 |
2020年09月01日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 615 |
2020年08月31日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/00 711, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 641 |
2020年08月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器具 FI分類-A61F 2/16 |
2020年08月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年08月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 711, FI分類-A61B 1/00 714, FI分類-A61B 1/012 511 |
2020年08月20日 特許庁 / 特許 | ガラス板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、および磁気ディスクの製造方法 FI分類-C03B 29/02, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 23/00 D |
2020年07月31日 特許庁 / 特許 | 円環形状のガラス板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、円環形状のガラス板、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスク FI分類-B23K 26/53, FI分類-C03B 33/04, FI分類-C03B 33/09, FI分類-C03C 19/00 Z |
2020年07月22日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用または磁気記録再生装置用ガラススペーサ用のガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/078, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-G11B 17/038 |
2020年07月20日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2020年07月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 K |
2020年07月07日 特許庁 / 特許 | コンピュータプログラム、内視鏡用プロセッサの作動方法及び内視鏡用プロセッサ FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 614 |
2020年06月29日 特許庁 / 特許 | ガラス板の製造方法および磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-B23K 26/361, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B23K 26/38 Z, FI分類-C03C 19/00 Z |
2020年06月29日 特許庁 / 特許 | ガラス板および磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-B23K 26/361, FI分類-G11B 5/84 C, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 23/00 D |
2020年06月18日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、並びに反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年06月10日 特許庁 / 特許 | 薄膜付基板、多層反射膜付基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/24 |
2020年06月08日 特許庁 / 特許 | プログラム、情報処理方法及び情報処理装置 FI分類-A61B 8/14, FI分類-A61B 1/00 V, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 6/03 377, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 623, FI分類-A61B 5/055 380, FI分類-A61B 6/03 360 D, FI分類-A61B 6/03 360 G |
2020年06月04日 特許庁 / 特許 | 起上台アタッチメントおよび内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 530, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2020年06月04日 特許庁 / 特許 | 起上台アタッチメント、内視鏡、起上台アタッチメントの取付方法および起上台アタッチメントの取り外し方法 FI分類-A61B 1/018 514 |
2020年05月14日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/068 |
2020年05月14日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、プログラムおよび情報処理方法 FI分類-A61B 1/045 641 |
2020年04月23日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 P |
2020年04月10日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム及びデータ処理装置 FI分類-A61B 1/045 615 |
2020年04月02日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/008 512 |
2020年03月30日 特許庁 / 特許 | リソグラフィマスクの製造方法、リソグラフィマスク、および、半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/74, FI分類-G03F 1/84 |
2020年03月27日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/52, FI分類-C03C 17/40, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年03月27日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/26, FI分類-C23C 14/34 |
2020年03月27日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/60 |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | プログラム、情報処理方法、情報処理装置及び診断支援システム FI分類-A61B 8/14, FI分類-A61B 1/00 V, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 6/03 377, FI分類-G06T 7/00 612, FI分類-A61B 1/005 523, FI分類-A61B 1/045 623, FI分類-A61B 5/055 390, FI分類-A61B 6/03 360 G, FI分類-A61B 6/03 360 Q |
2020年03月26日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム及びデータ処理装置 FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 618 |
2020年03月24日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/00 Z |
2020年03月23日 特許庁 / 特許 | マスクブランク及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54 |
2020年03月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、透過型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/09, FI分類-C03C 17/245 A |
2020年03月18日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/14 A, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年03月12日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 N |
2020年03月12日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年03月10日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32 |
2020年03月05日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 8/12, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 530, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/00 718, FI分類-A61B 1/045 611 |
2020年03月03日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/008 512 |
2020年03月03日 特許庁 / 特許 | 遠位端部に設けられた発光手段および撮像素子を有する内視鏡 FI分類-A61B 1/273, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/018 514 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2020年02月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2020年02月26日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2020年02月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年02月21日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 7/20 501 |
2020年02月21日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年02月21日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2020年02月18日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年02月13日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、導電膜付き基板、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/14 D |
2020年02月12日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-C23C 14/08 K |
2020年02月10日 特許庁 / 特許 | 修正フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/72, FI分類-C23C 16/16 |
2020年02月07日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの修正方法、フォトマスクの修正装置、ペリクル付きフォトマスクの製造方法および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/72 |
2020年02月06日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21V 5/00, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-F21S 2/00 230, FI分類-F21V 3/02 400, FI分類-F21V 19/00 150, FI分類-F21V 19/00 170 |
2020年02月06日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2020年01月09日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80 |
2020年01月09日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064 |
2020年01月09日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/005 512 |
2019年12月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及びバルブ機構 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/015 511 |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 681 |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 681 |
2019年12月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡および内視鏡システム FI分類-A61B 1/05, FI分類-A61B 1/00 713, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/04 530, FI分類-A61B 1/07 732, FI分類-A61B 1/005 524 |
2019年12月05日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ FI分類-A61F 2/16, FI分類-G02C 7/04 |
2019年12月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-A61B 1/00 654 |
2019年12月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/05 |
2019年12月02日 特許庁 / 特許 | ガラス板の製造方法、ガラス板の面取り方法、および磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03B 29/02, FI分類-B23K 26/354, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 19/00 Z |
2019年12月02日 特許庁 / 特許 | ガラス板の製造方法、ガラス板の面取り方法、および磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84, FI分類-B23K 26/354, FI分類-B23K 26/361, FI分類-B23K 26/00 N, FI分類-C03C 23/00 D |
2019年11月21日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクおよび反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/84, FI分類-C23C 14/08 K, FI分類-C23C 14/14 D |
2019年11月21日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の管理方法、情報処理装置および情報処理システム FI分類-G16H 40/20, FI分類-A61B 1/00 630, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 640 |
2019年11月21日 特許庁 / 特許 | 情報処理方法および情報処理装置 FI分類-A61B 1/00 631, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-G06Q 10/08 300 |
2019年11月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-H02J 50/10, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 680, FI分類-A61B 1/00 681, FI分類-A61B 1/04 520 |
2019年11月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップおよび内視鏡 FI分類-A61B 1/018 514 |
2019年11月12日 特許庁 / 特許 | プログラム、情報処理方法及び情報処理装置 FI分類-G06T 7/00 612, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 621, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2019年11月07日 特許庁 / 特許 | 導電性結晶化ガラス FI分類-C03C 3/21 |
2019年10月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡操作部、及び内視鏡操作部を備えた内視鏡 FI分類-A61B 1/008 510 |
2019年10月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用挿入管の製造方法、及び挿入管を備えた内視鏡 FI分類-A61B 1/005 511 |
2019年10月24日 特許庁 / 特許 | 回路基板を備えた内視鏡 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 530 |
2019年10月24日 特許庁 / 特許 | 透光性材料から作成されたハウジング素子を備える内視鏡先端部および内視鏡 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/06 531 |
2019年10月21日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、および、電子デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年10月21日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、電子デバイスの製造方法、および、フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年10月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-A61B 1/045 632 |
2019年10月18日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C23C 14/06 N |
2019年10月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/018 511 |
2019年10月10日 特許庁 / 特許 | ガラスの割断方法及びガラス材料 FI分類-C03B 33/06, FI分類-C03B 33/14, FI分類-B28D 5/00 Z |
2019年10月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 714, FI分類-A61B 1/005 511 |
2019年10月08日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及び内視鏡装置 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/07 730, FI分類-A61B 1/07 733, FI分類-A61B 1/045 622 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80 |
2019年09月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2019年09月27日 特許庁 / 特許 | パターン検査方法、フォトマスクの検査装置、フォトマスクの製造方法、および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 H |
2019年09月26日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/17, FI分類-C03C 3/19, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064 |
2019年09月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、トレーニング装置、情報処理方法、トレーニング方法およびプログラム FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 623 |
2019年09月18日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス及び光学素子 FI分類-C03C 3/23, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2019年09月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 D, FI分類-A61B 1/04 530 |
2019年09月18日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2019年09月17日 特許庁 / 特許 | フォトマスク基板の修正方法、フォトマスク基板の製造方法、フォトマスク基板の処理方法、フォトマスク基板、フォトマスクの製造方法、及び基板処理装置 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/82 |
2019年09月13日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/28, FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80 |
2019年09月10日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26 |
2019年09月04日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 導電膜付基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡リプロセス支援装置、内視鏡リプロセス支援方法およびプログラム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/12 510 |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム、および内視鏡システム作動方法 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/045 617, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 622, FI分類-A61B 1/045 632 |
2019年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、情報処理装置、内視鏡システム、プログラム及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/045 611 |
2019年08月28日 特許庁 / 特許 | 発光ガラス FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/21, FI分類-C03C 4/12 |
2019年08月26日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム、データ処理装置、通信接続方法及びコンピュータプログラム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/00 682 |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 光学素子及び光学装置 FI分類-G02B 5/00 B, FI分類-G02B 7/02 B, FI分類-G02B 7/02 D |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、内視鏡システム、情報処理装置、プログラム及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 618 |
2019年08月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、内視鏡システム、情報処理装置、プログラム及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 618 |
2019年08月10日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21V 7/28, FI分類-H01L 33/48, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-F21V 3/10 330, FI分類-F21V 7/00 300 |
2019年08月07日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82 |
2019年08月07日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 Z |
2019年08月02日 特許庁 / 特許 | コンピュータプログラム、内視鏡用プロセッサ、及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615 |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-C03B 33/09 |
2019年07月26日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B23K 26/53, FI分類-C03B 33/04, FI分類-C03B 33/09 |
2019年07月24日 特許庁 / 特許 | フォトマスク修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置用デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72 |
2019年07月23日 特許庁 / 特許 | プログラム、情報処理方法及び情報処理装置 FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615 |
2019年07月05日 特許庁 / 特許 | ガラスレンズ成形型 FI分類-C03B 11/08 |
2019年07月03日 特許庁 / 特許 | 化学強化された着色ガラスおよびその製造方法 FI分類-C03C 4/02, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 21/00 101 |
2019年06月28日 特許庁 / 特許 | リヒートプレス用ガラス材料、リヒートプレス済ガラス材料、研磨済ガラス及びそれらの製造方法 FI分類-C03C 3/15, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03B 11/00 B, FI分類-C03C 21/00 Z |
2019年06月27日 特許庁 / 特許 | リヒートプレス用ガラス材料、それを用いたリヒートプレス済ガラス材料、研磨済ガラス及びそれらの製造方法 FI分類-C03C 3/00, FI分類-C03B 11/00 B, FI分類-C03C 21/00 101 |
2019年06月14日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/076, FI分類-C03C 3/089, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097 |
2019年06月13日 特許庁 / 特許 | 光源装置 FI分類-H01L 33/64, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-B41J 29/38 Z, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451 |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 光学フィルターおよび撮像装置 FI分類-G02B 5/22 |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、内視鏡用プロセッサ、情報処理方法およびプログラム FI分類-G06N 3/04, FI分類-G16H 30/20, FI分類-G16H 50/20, FI分類-G06T 7/00 612, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-G06N 20/00 130 |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | モデルの生成方法、教師データの生成方法、および、プログラム FI分類-G06T 7/00 612, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-G06N 20/00 130, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、内視鏡用プロセッサ、情報処理方法およびプログラム FI分類-G06N 3/04, FI分類-G16H 30/20, FI分類-G16H 50/20, FI分類-G06T 7/00 612, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-G06N 20/00 130 |
2019年05月29日 特許庁 / 特許 | 情報処理装置、内視鏡用プロセッサ、情報処理方法およびプログラム FI分類-G06T 7/00 614, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-G06T 7/00 350 C |
2019年05月24日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年05月15日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用可撓管の製造方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 511 |
2019年05月14日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091 |
2019年05月14日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体、磁気記録再生装置用ガラススペーサおよび磁気記録再生装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-G11B 5/84 C |
2019年05月10日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2019年04月05日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 P |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/12 531 |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 7/04 D, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 735 |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/12 541 |
2019年03月29日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-C23C 14/06 K |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | アニール処理用板材、アニール処理用板材の製造方法、及び基板の製造方法 FI分類-C03B 25/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-G11B 7/26 521 |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | アニール処理用板材、アニール処理用板材の製造方法、及び基板の製造方法 FI分類-C03B 25/02, FI分類-G11B 5/84 Z |
2019年03月28日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 撮像モジュール及び内視鏡 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 530 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/12 531 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 503 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、情報処理装置、内視鏡システム、プログラム及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/31, FI分類-A61B 1/045 614, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 621, FI分類-A61B 1/045 622 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ、情報処理装置、内視鏡システム、プログラム及び情報処理方法 FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 622, FI分類-A61B 1/045 623 |
2019年03月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/12 531 |
2019年03月26日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び研磨装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 37/28, FI分類-B24B 57/02, FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B24B 37/00 K |
2019年03月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/84 |
2019年03月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 616 |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G01N 23/2273 |
2019年03月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/12 530 |
2019年03月13日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器具 FI分類-A61F 2/16 |
2019年03月11日 特許庁 / 特許 | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 41/06 J, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2019年03月11日 特許庁 / 特許 | スペーサ、基板の積層体、基板の製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B32B 17/10, FI分類-B32B 37/18, FI分類-B32B 7/022, FI分類-B24B 5/00 Z, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 23/00 601 G |
2019年03月04日 特許庁 / 特許 | プレス成形装置 FI分類-C03B 11/08, FI分類-C03B 11/16, FI分類-G02B 3/00 Z |
2019年02月28日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/50, FI分類-C23C 14/06 P |
2019年02月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 681, FI分類-A61B 1/00 683, FI分類-A61B 1/04 520 |
2019年02月26日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年02月23日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-B41J 2/01 127 |
2019年02月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/34, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年02月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用変倍光学系及び内視鏡 FI分類-G02B 15/177, FI分類-G02B 13/04 D, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/00 735 |
2019年02月13日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/34, FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-C23C 14/08 G, FI分類-G03F 7/20 521 |
2019年02月06日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2019年02月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 着色ガラスおよびその製造方法 FI分類-C03B 3/02, FI分類-C03C 3/21, FI分類-C03C 4/02, FI分類-C03B 32/00 |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | ガラススペーサ、ハードディスクドライブ装置、及びガラススペーサの製造方法 FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 23/00 601 Z |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | ガラススペーサ、ハードディスクドライブ装置、及びガラススペーサの製造方法 FI分類-C03C 3/12, FI分類-C03C 3/14, FI分類-C03C 3/16, FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 23/00 601 G |
2019年01月31日 特許庁 / 特許 | 複合化ガラス FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/21, FI分類-C03C 4/02 |
2019年01月30日 特許庁 / 特許 | 回路基板固定構造、及びこれを備える光照射装置 FI分類-F21V 29/70, FI分類-F21V 29/508, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-H05K 7/14 C, FI分類-H05K 7/20 B, FI分類-F21V 19/00 170, FI分類-F21V 19/00 413, FI分類-F21V 19/00 450, FI分類-F21V 19/00 600 |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 光照射モジュール、及びLED素子用配線基板 FI分類-H01L 33/62, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-F21S 2/00 110, FI分類-F21V 23/00 160 |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 円盤形状のガラス素板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-B23K 26/53, FI分類-B24B 37/08, FI分類-C03B 33/09, FI分類-B23K 26/361, FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 19/00 Z |
2019年01月28日 特許庁 / 特許 | 光照射モジュール、及びLED素子用配線基板 FI分類-H01L 33/62 |
2019年01月27日 特許庁 / 特許 | 放熱装置、及びそれを備える光照射装置 FI分類-H01L 33/64, FI分類-H05K 7/20 R, FI分類-F28D 15/02 L, FI分類-H01L 23/46 B, FI分類-F28D 15/02 101 H, FI分類-F28D 15/02 101 N, FI分類-F28D 15/02 102 H |
2019年01月18日 特許庁 / 特許 | ガラスの透過率の改善を促進させる方法、及びガラスの製造方法及びガラス FI分類-C03C 3/15, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03B 32/00, FI分類-C03B 5/235, FI分類-C03C 3/155 |
2019年01月16日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 P |
2019年01月16日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/12 540 |
2019年01月08日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 616, FI分類-A61B 1/045 622 |
2018年12月29日 特許庁 / 特許 | 回路基板支持構造、及びこれを備える光照射装置 FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-H01L 21/26 Q, FI分類-F21V 19/00 450 |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、透過型マスクブランク、透過型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/40, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年12月28日 特許庁 / 特許 | レンズユニット及びレンズユニットの製造方法 FI分類-G02B 7/02 A, FI分類-G02B 7/02 B |
2018年12月27日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 N |
2018年12月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/70, FI分類-C23C 14/06 P |
2018年12月24日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H05K 7/20 H |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C23C 14/06 P |
2018年12月21日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/72 |
2018年12月14日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 683, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/045 610 |
2018年12月10日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/085 |
2018年12月03日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 612 |
2018年11月30日 特許庁 / 特許 | 欠陥検査方法、並びにマスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01N 21/958, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年11月27日 特許庁 / 特許 | プレス成形装置、プレス成形方法及びプレス成形プログラム FI分類-C03B 11/16, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-B30B 15/00 B, FI分類-B30B 15/14 A, FI分類-B30B 15/14 F |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年11月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年11月09日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクおよびフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54 |
2018年11月09日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/54 |
2018年11月08日 特許庁 / 特許 | パターン描画方法、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 7/20 505 |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 618 |
2018年11月02日 特許庁 / 特許 | 内視鏡のフードの取り外し治具、及びフードとフードの取り外し治具のセット FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 651 |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/72 |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-B24B 9/00 601 G, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z |
2018年10月31日 特許庁 / 特許 | 研磨液、ガラス基板の製造方法、及び、磁気ディスクの製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-C01F 17/235, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 29/00 J, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2018年10月24日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/045 618, FI分類-A61B 1/045 622 |
2018年10月18日 特許庁 / 特許 | 中継アダプタ、内視鏡システム、および中継アダプタにおける信号処理方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/045 613, FI分類-A61B 1/045 640 |
2018年10月18日 特許庁 / 特許 | 中継アダプタ、および内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 613 |
2018年10月18日 特許庁 / 特許 | 中継アダプタ、および内視鏡システム FI分類-A61B 1/04 520 |
2018年10月16日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 1/84 |
2018年10月16日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | 内視鏡挿入チューブの製造方法および挿入チューブを備える内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 511, FI分類-A61B 1/005 513, FI分類-A61B 1/008 511, FI分類-A61B 1/008 512 |
2018年10月15日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の挿入チューブの製造方法および挿入チューブを備える内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 511, FI分類-A61B 1/005 513, FI分類-A61B 1/008 511 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 眼用レンズ、その設計方法、その製造方法、および眼用レンズセット FI分類-G02C 7/06 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-C03C 3/068 |
2018年10月05日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/097 |
2018年10月01日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2018年10月01日 特許庁 / 特許 | ガラススペーサ及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/65, FI分類-G11B 17/038 |
2018年10月01日 特許庁 / 特許 | ガラススペーサ及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/65, FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 23/00 601 G, FI分類-G11B 23/00 601 R, FI分類-G11B 25/04 101 Z |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年09月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 K |
2018年09月14日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年09月13日 特許庁 / 特許 | 光分配コネクタ、および内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/06 520, FI分類-A61B 1/07 731 |
2018年09月12日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/46, FI分類-C23C 14/06 P |
2018年09月12日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50 |
2018年09月03日 特許庁 / 特許 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | スペーサ及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 17/038 |
2018年08月31日 特許庁 / 特許 | スペーサ及びハードディスクドライブ装置 FI分類-G11B 17/038, FI分類-G11B 25/04 101, FI分類-G11B 23/00 601 G, FI分類-G11B 23/00 601 R |
2018年08月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/06 611, FI分類-A61B 1/07 731, FI分類-A61B 1/07 735, FI分類-A61B 1/07 736 |
2018年08月16日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年08月03日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、およびインプリントモールドの製造方法 FI分類-B29C 33/38, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年07月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/06 520 |
2018年07月24日 特許庁 / 特許 | 基板処理装置、基板処理方法、フォトマスク洗浄方法、及びフォトマスク製造方法 FI分類-B08B 1/04, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 F |
2018年07月23日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/19, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡バスケット送達カテーテル FI分類-A61B 17/221, FI分類-A61M 25/00 632, FI分類-A61M 25/01 500, FI分類-A61M 25/09 530 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 身体内腔から障害物を除去するための普遍的な回収デバイス FI分類-A61B 17/221 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡バルーンカテーテル FI分類-A61B 1/01 512, FI分類-A61B 1/01 513, FI分類-A61B 1/018 515, FI分類-A61M 25/10 510, FI分類-A61M 25/10 530 |
2018年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡カニューレ挿入デバイスおよび使用の方法 FI分類-A61B 17/94, FI分類-A61M 25/00 |
2018年07月10日 特許庁 / 特許 | 成形型の分解組立装置及び成形装置 FI分類-C03B 11/08, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 A |
2018年07月05日 特許庁 / 特許 | 成形型の分解組立装置 FI分類-C03B 11/16 |
2018年07月04日 特許庁 / 特許 | レンズ成形装置及びフィルタ装置 FI分類-C03B 11/02, FI分類-C03B 11/16 |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 Z |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 C |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 C |
2018年07月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/068 |
2018年06月14日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年06月14日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 R |
2018年06月05日 特許庁 / 特許 | 情報記録媒体基板用ガラス、情報記録媒体基板、情報記録媒体および記録再生装置用ガラススペーサ FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093, FI分類-C03C 3/095, FI分類-G11B 17/038 |
2018年06月04日 特許庁 / 特許 | ガラスレンズ成形型 FI分類-C03B 11/08, FI分類-C03B 11/00 N, FI分類-C03B 11/00 Z |
2018年06月04日 特許庁 / 特許 | ガラスレンズ成形型 FI分類-C03B 11/08, FI分類-C03B 11/00 N, FI分類-C03B 11/00 Z |
2018年06月01日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年06月01日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランクおよびその製造方法、フォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-C23C 14/06 P |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | ガラス、光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/097 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 単回使用内視鏡装置 FI分類-A61B 1/00 622, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 714, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/12 531, FI分類-A61B 1/012 511 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/097 |
2018年05月31日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/066, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/097 |
2018年05月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年05月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/84 |
2018年05月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年05月16日 特許庁 / 特許 | 容器付き眼内リング挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2018年05月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の生検針先端および使用の方法 FI分類-A61B 10/04, FI分類-A61B 1/018 515, FI分類-A61B 10/02 110 H |
2018年05月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡器具接合部用の装置および方法 FI分類-A61B 17/34 |
2018年05月02日 特許庁 / 特許 | 内視鏡処置におけるデバイス交換のためのシステム FI分類-A61B 1/01 512, FI分類-A61B 1/018 512 |
2018年05月01日 特許庁 / 特許 | 調整可能な内視鏡ロック FI分類-A61B 17/94 |
2018年04月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡接続用の装置および方法 FI分類-A61B 1/018 512 |
2018年04月26日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 3/00, FI分類-C03C 3/068 |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取り付け装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650 |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取り付け装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715 |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取り付け装置 FI分類-A61B 1/00 650 |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取り付け装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715 |
2018年04月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取り付け装置 FI分類-A61B 1/00 650 |
2018年04月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 682, FI分類-A61B 1/00 683, FI分類-A61B 1/00 714, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/06 531 |
2018年04月13日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/23, FI分類-C03C 4/00, FI分類-G02B 1/00 |
2018年04月13日 特許庁 / 特許 | 光学素子及びその製造方法 FI分類-G02B 1/115, FI分類-C23C 14/08 N |
2018年04月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用非磁性基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z |
2018年04月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用非磁性基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/738 |
2018年04月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用非磁性基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/738, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z |
2018年04月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用非磁性基板及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/738, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 C |
2018年03月28日 特許庁 / 特許 | 広角レンズおよび作業チャンネルを有する内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/018 513 |
2018年03月26日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045 610 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク中間体及びこれらを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/58 |
2018年03月23日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、及び、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年03月22日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2018年03月22日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2018年03月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用可撓管の製造方法および内視鏡の製造方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 511 |
2018年03月16日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年03月08日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/045 632 |
2018年03月01日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | インプリントモールド用基板、マスクブランク及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-B29C 33/38, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年02月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム、及びプロセッサ FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 684, FI分類-A61B 1/045 611 |
2018年02月23日 特許庁 / 特許 | 内視鏡およびその製造方法 FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 735, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/07 733 |
2018年02月23日 特許庁 / 特許 | 内視鏡およびその製造方法 FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/07 733 |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 505 |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年02月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、インプリントモールドの製造方法、転写用マスクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2018年02月21日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 510 |
2018年02月19日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年02月16日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びそれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 N |
2018年02月12日 特許庁 / 特許 | 内視鏡、内視鏡を洗浄するための方法、および内視鏡を洗浄するための洗浄装置 FI分類-A61L 2/10, FI分類-A61B 1/12 510, FI分類-A61L 2/08 110 |
2018年02月06日 特許庁 / 特許 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 FI分類-B22F 3/105, FI分類-C01B 33/06, FI分類-B22F 1/00 P, FI分類-B22F 3/15 M, FI分類-C22C 1/04 D, FI分類-C01B 33/02 E, FI分類-C23C 14/34 A, FI分類-C04B 35/58 085, FI分類-C22C 27/04 102, FI分類-B22F 3/14 101 D |
2018年01月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/26 A, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/07 733 |
2018年01月29日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 501 |
2018年01月26日 特許庁 / 特許 | ガラス製成形型 FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 M |
2018年01月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ケース FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 653, FI分類-B65D 5/06 100, FI分類-B65D 81/05 100, FI分類-B65D 5/66 311 L |
2018年01月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/31, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 511, FI分類-A61B 1/005 513 |
2018年01月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ヘッドと、内視鏡ヘッドに挿入可能かつこれから取外し可能なアルバランレバーとを有する内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2018年01月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ヘッドと、内視鏡ヘッドに取付可能なアルバランレバーとを有する内視鏡 FI分類-A61B 1/273, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2018年01月17日 特許庁 / 特許 | 被覆部を有する内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2018年01月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡およびキャップ FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2018年01月16日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2018年01月11日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム、及び画像表示装置 FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-A61B 1/045 617, FI分類-A61B 1/045 622 |
2018年01月09日 特許庁 / 特許 | キャリブレーション用固体試料、内視鏡システム、及び固体試料の作製方法 FI分類-A61B 1/00 650 |
2017年12月28日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 577 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板 FI分類-B24B 37/08, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 起上台、起上台の取付方法、および、起上台の取り外し方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡、起上台、内視鏡用キャップ、内視鏡用キャップの取付方法、および、内視鏡用キャップの取り外し方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡および起上台 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 711, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 起上台および内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 7/17 Z, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2017年12月27日 特許庁 / 特許 | 円盤状ガラス基板の製造方法、薄板ガラス基板の製造方法、導光板の製造方法及び円盤状ガラス基板 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 7/17 Z, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-B24B 9/08 C, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2017年12月25日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年12月21日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/097 |
2017年12月21日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/097 |
2017年12月18日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064 |
2017年12月18日 特許庁 / 特許 | データ処理装置 FI分類-H04L 7/04 200 |
2017年12月07日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用の位相シフトマスクブランク、表示装置製造用の位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 505 |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 H, FI分類-C23C 14/06 P |
2017年11月30日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランクおよびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/14 D |
2017年11月27日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年11月24日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の研磨方法、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨液及び酸化セリウムの還元方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z |
2017年11月16日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用のマスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2017年11月14日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/095, FI分類-G11B 17/038 |
2017年11月14日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/095, FI分類-G11B 17/038 |
2017年11月14日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板、磁気記録媒体および磁気記録再生装置用ガラススペーサ FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097, FI分類-G11B 5/84 C |
2017年10月30日 特許庁 / 特許 | パターン描画方法、フォトマスクの製造方法、及び表示装置用デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 7/20 501 |
2017年10月27日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-F21V 29/76, FI分類-F21V 29/83, FI分類-F21V 29/503, FI分類-F21V 29/508, FI分類-F21Y 103:10, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-F21S 2/00 230, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21V 7/00 510, FI分類-F21V 29/67 100 |
2017年10月18日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ、内視鏡および内視鏡用キャップの取り外し方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 715 |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | 起上台 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ、内視鏡および内視鏡用キャップの取り外し方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650 |
2017年10月13日 特許庁 / 特許 | 内視鏡および内視鏡用キャップの取り外し方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715 |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 車載レンズ用のプラスチックレンズ及びその製造方法 FI分類-G02B 1/113 |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 光半導体装置 FI分類-C08G 77/04, FI分類-H01L 33/56, FI分類-H01L 23/30 B, FI分類-H01L 23/30 F |
2017年09月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年09月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G06F 3/0482, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/045 641 |
2017年09月12日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用対物レンズユニット及び内視鏡 FI分類-G02B 13/04 D |
2017年09月04日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/74, FI分類-G03F 1/80 |
2017年09月04日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/74, FI分類-H01L 21/302 104 Z |
2017年09月01日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/24 C, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/045 617 |
2017年09月01日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/045 617, FI分類-A61B 1/045 622 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡および内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップおよび内視鏡用キャップの滅菌方法 FI分類-A61L 2/07, FI分類-A61L 2/20, FI分類-A61L 2/26, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/12 510, FI分類-A61L 2/08 100, FI分類-A61L 2/08 108, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡装置及び電子内視鏡 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 680, FI分類-A61B 1/06 531 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 530, FI分類-H04N 5/225 430, FI分類-H04N 5/225 500 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡 FI分類-A61B 8/12 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-A61B 1/045 616, FI分類-A61B 1/045 621, FI分類-A61B 1/045 622 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045, FI分類-G06T 7/90 D, FI分類-G06T 7/00 630 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/045, FI分類-G06T 1/00 510, FI分類-G06T 3/00 700 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置、内視鏡、及び内視鏡システム FI分類-G03B 15/05, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G03B 15/02 K, FI分類-A61B 1/06 510, FI分類-A61B 1/07 731, FI分類-A61B 1/07 736, FI分類-H04N 5/225 100, FI分類-H04N 5/225 500, FI分類-H04N 5/225 600 |
2017年08月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップおよび内視鏡用キャップの使用方法 FI分類-A61L 2/08, FI分類-A61L 2/20, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/12 510, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年08月29日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 511, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2017年08月25日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 632 |
2017年08月25日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサ及び電子内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 632 |
2017年08月24日 特許庁 / 特許 | 電子スコープ及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/06 610, FI分類-A61B 1/07 735 |
2017年08月22日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付マスクブランク、及びフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 7/16, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/04 Z, FI分類-B05D 7/24 301 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2017年08月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状表示装置、及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 622 |
2017年08月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状表示装置、内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 622 |
2017年08月02日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年08月02日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/32 |
2017年08月02日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/34, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年08月02日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 P |
2017年08月02日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/34, FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/58 |
2017年08月01日 特許庁 / 特許 | プレス成形用ガラス素材及びこれを用いた光学素子の製造方法 FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 B |
2017年07月21日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 612 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ、内視鏡および内視鏡用キャップの製造方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ、内視鏡および内視鏡用キャップの製造方法 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップおよび内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 715 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 715 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップ、および、内視鏡用キャップの取り外し方法 FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャップおよび内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/00 715, FI分類-A61B 1/018 514 |
2017年07月11日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 8/12 |
2017年07月10日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、半導体デバイスの製造方法、マスクブランク用基板、マスクブランク及び転写用マスク FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/60 |
2017年07月10日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年07月07日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B01J 19/12 C |
2017年07月07日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-F21Y 103:10, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-G02B 5/10 A, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-H01L 33/00 L, FI分類-F21S 2/00 310, FI分類-F21V 7/06 200 |
2017年07月03日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 713, FI分類-A61B 1/005 511, FI分類-A61B 1/005 521 |
2017年06月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/74 |
2017年06月28日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/74, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年06月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16, FI分類-A61F 9/007 200 Z |
2017年06月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2017年06月28日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器 FI分類-A61F 2/16 |
2017年06月22日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-G02B 7/188, FI分類-B01J 19/12 C |
2017年06月22日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/74 |
2017年06月01日 特許庁 / 特許 | レンズ収納容器 FI分類-A61F 2/16 |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年05月31日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/26, FI分類-C23C 14/14 A, FI分類-C23C 14/14 G |
2017年05月24日 特許庁 / 特許 | 基板組立体及び電子内視鏡システム FI分類-H05K 1/14 G, FI分類-H05K 3/36 Z |
2017年05月23日 特許庁 / 特許 | 親水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 FI分類-G02B 1/18, FI分類-G02B 1/115, FI分類-C03C 17/34 Z |
2017年05月12日 特許庁 / 特許 | 防塵レンズ及びその製造方法 FI分類-G02B 1/16, FI分類-G02B 3/00, FI分類-G02B 1/116, FI分類-C23C 14/08 E, FI分類-C23C 14/08 N |
2017年05月10日 特許庁 / 特許 | 眼鏡フレーム内にレンズを設計して配置する方法 FI分類-G02C 13/00 |
2017年04月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡管理システム、内視鏡装置、内視鏡装置を管理する管理装置、及び、内視鏡装置の管理方法 FI分類-G06Q 50/22, FI分類-A61B 1/00 630, FI分類-A61B 1/00 631, FI分類-A61B 1/00 640, FI分類-A61B 1/00 685, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-G06Q 10/00 300 |
2017年04月08日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 301 |
2017年04月08日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | 発光装置、光照射モジュール、及び光照射装置 FI分類-H01L 33/58 |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | プレス成形処理用型、ガラスブランクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03B 11/00 N, FI分類-C03C 19/00 Z |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | キャリアおよび当該キャリアを用いた基板の製造方法 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 37/28, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-H01L 21/304 622 G |
2017年03月31日 特許庁 / 特許 | キャリアおよび当該キャリアを用いた基板の製造方法 FI分類-B24B 37/28, FI分類-B24B 7/04 A, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-H01L 21/304 622 G |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 622 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/31, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/005 513 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及び内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/06 531, FI分類-A61B 1/06 614, FI分類-A61B 1/045 632 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡及び内視鏡の製造方法 FI分類-A61B 1/05, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/04 530 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡制御装置、電子内視鏡装置及び制御プログラム FI分類-A61B 1/05, FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 630, FI分類-A61B 1/045 632 |
2017年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状把握システム FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 610 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 発光装置および当該発光装置を含む光照射装置 FI分類-H01L 33/62, FI分類-F21Y 115:10, FI分類-H05K 1/14 E, FI分類-H05K 3/36 Z, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-F21V 19/00 150, FI分類-F21V 19/00 170, FI分類-F21V 19/00 450, FI分類-F21V 23/00 160 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/078, FI分類-C03C 3/089, FI分類-C03C 3/097 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 処理装置、内視鏡システム、処理装置の作動方法及びコンピュータプログラム FI分類-A61B 18/24, FI分類-A61B 1/00 524, FI分類-A61B 1/00 621, FI分類-A61B 1/06 612, FI分類-A61B 1/045 630 |
2017年03月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状把握システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/045 610 |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-C03C 23/00 A, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 647 Z |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の着脱機器 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 632, FI分類-A61B 1/015 512 |
2017年03月28日 特許庁 / 特許 | ガラスブランク、ガラスブランクの製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03B 11/00 A |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 FI分類-G02B 1/18, FI分類-C03C 17/42, FI分類-G02B 1/111, FI分類-C23C 14/06 Q |
2017年03月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用形状検出装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/00 680 |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80 |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84 |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月21日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/56, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月16日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月14日 特許庁 / 特許 | 転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/78, FI分類-G03F 7/40, FI分類-G03F 7/004, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 521 |
2017年03月14日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/80 |
2017年03月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の操作装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/015 511, FI分類-A61B 1/015 512 |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 521 |
2017年03月08日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2017年03月06日 特許庁 / 特許 | 転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2017年03月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2017年03月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2017年03月01日 特許庁 / 特許 | 欠陥検査装置、および欠陥検査方法 FI分類-G02B 21/06, FI分類-G02B 21/10, FI分類-G02B 21/24, FI分類-G02B 21/36, FI分類-G01N 21/84 E, FI分類-G01N 21/88 Z |
2017年02月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡挿入形状検出装置及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 552, FI分類-A61B 1/00 717 |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡の操作ボタン装置及び電子内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 711 |
2017年02月24日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡の操作ボタン装置及び電子内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 711 |
2017年02月22日 特許庁 / 特許 | 欠陥検査装置、および欠陥検査方法 FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/84 Z, FI分類-G01N 21/88 Z |
2017年02月22日 特許庁 / 特許 | 内視鏡、及び、内視鏡システム FI分類-A61B 8/12, FI分類-A61B 1/267, FI分類-A61B 1/00 530, FI分類-A61B 1/00 711, FI分類-A61B 1/01 513 |
2017年02月21日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用変倍光学系、内視鏡及び内視鏡システム FI分類-G02B 15/15, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 731, FI分類-A61B 1/00 735 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 610, FI分類-A61B 1/07 731, FI分類-A61B 1/07 735, FI分類-A61B 1/07 736 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/06 610, FI分類-A61B 1/07 731, FI分類-A61B 1/07 736 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/06 610, FI分類-A61B 1/07 731, FI分類-A61B 1/07 736 |
2017年02月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用光源装置及び内視鏡システム FI分類-A61B 1/00 511, FI分類-A61B 1/06 610 |
2017年02月16日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/78, FI分類-C23C 14/08 N, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 放熱装置及びそれを備える光照射装置 FI分類-F21V 29/51, FI分類-F21V 29/71, FI分類-F21V 29/76, FI分類-F21Y 105:10, FI分類-H05K 7/20 W, FI分類-F28D 15/02 D, FI分類-F28D 15/02 G, FI分類-F28D 15/02 L, FI分類-F21V 29/67 100, FI分類-F21V 29/503 100, FI分類-F21Y 115:10 300, FI分類-F28D 15/02 101 A |
2017年02月14日 特許庁 / 特許 | 放熱装置及びそれを備える光照射装置 FI分類-F21V 29/51, FI分類-F21V 29/67, FI分類-F21V 29/71, FI分類-F21V 29/76, FI分類-H01L 33/64, FI分類-F21V 29/503, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-F28D 15/02 D, FI分類-F28D 15/02 G, FI分類-H01L 23/46 B, FI分類-H01L 33/00 L, FI分類-F21Y 115:10 300, FI分類-F28D 15/02 101 A |
2017年02月09日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-H01L 33/00 L, FI分類-B41J 2/01 129 |
2017年02月03日 特許庁 / 特許 | 補正データ生成方法及び補正データ生成装置 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 630, FI分類-A61B 1/00 650, FI分類-A61B 1/045 616 |
2017年02月01日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡の超音波信号用コネクタ及び内視鏡の電気コネクタ FI分類-A61B 8/12, FI分類-A61B 1/00 300 A, FI分類-A61B 1/00 300 F |
2017年01月31日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-A61L 2/10, FI分類-B05C 9/12, FI分類-F21V 29/74, FI分類-F21Y 103:10, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-F21S 2/00 340, FI分類-F21V 5/04 600, FI分類-F21V 29/67 100, FI分類-F21Y 115:10 300 |
2017年01月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ケース FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 300 B |
2017年01月24日 特許庁 / 特許 | 眼用レンズ、その設計方法、その製造方法、および眼用レンズセット FI分類-G02C 7/04, FI分類-G02C 7/06 |
2017年01月17日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/04 A, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2017年01月17日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/54 |
2017年01月06日 特許庁 / 特許 | キャリブレーション用試料、内視鏡システム、及びキャリブレーション用試料の作製方法 FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 5/14 322, FI分類-A61B 1/00 300 B, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ケース FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 300 B |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | 円環状のガラス素板、円環状のガラス素板の製造方法、円環状のガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-B28D 1/30, FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03B 33/04, FI分類-B28D 5/00 Z, FI分類-C03B 33/027, FI分類-G11B 5/84 Z |
2016年12月28日 特許庁 / 特許 | スクライビング装置、ガラス素板、ガラス素板の製造方法、およびガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03B 33/04, FI分類-B28D 5/00 Z, FI分類-C03B 33/027, FI分類-G11B 5/84 Z |
2016年12月27日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/306 D, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年12月26日 特許庁 / 特許 | フォトマスク基板、フォトマスクブランク、フォトマスク、フォトマスク基板の製造方法、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 15/00 D, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2016年11月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/72, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年11月29日 特許庁 / 特許 | 水溶性ポリマー膜付基板の製造方法、転写用マスクの製造方法、および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 1/82, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 564 D |
2016年11月28日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-H01L 33/60, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-H01L 33/00 L |
2016年11月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年11月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/48, FI分類-C23C 14/10, FI分類-C23C 14/06 K |
2016年11月11日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 21/318 B, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年11月08日 特許庁 / 特許 | 部分的または不完全型の光学素子を有する光学デバイス FI分類-A61F 2/16 |
2016年11月07日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、近接露光用フォトマスクの製造方法、及び、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年11月07日 特許庁 / 特許 | 複数段押しボタンスイッチ装置及び内視鏡の複数段押しボタンスイッチ装置 FI分類-A61B 1/015, FI分類-H01H 13/64, FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 711 |
2016年11月04日 特許庁 / 特許 | ミラーユニット及びこれを備えた光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-G02B 6/00 301 |
2016年11月02日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム及び分析装置 FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年11月02日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム及び分析装置 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年10月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年10月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2016年10月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G01N 23/2273, FI分類-H01L 21/302 104 Z |
2016年10月03日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡の超音波信号用コネクタ FI分類-A61B 8/12, FI分類-H01R 13/52 301 H |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/36, FI分類-C03C 19/00 Z |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラスブランク、ガラスブランクの製造方法、および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-C03B 11/02, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03B 11/00 C |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラスブランクおよび磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-C03B 11/08, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03B 11/00 E |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | コンタクトレンズの製造方法、コンタクトレンズの製造装置およびコンタクトレンズの取り出し方法 FI分類-G02C 7/04, FI分類-B29C 33/44 |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、ガラス基板中間体、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/02 S, FI分類-G11B 5/84 C |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、ガラス基板中間体、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/84 A |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム及び評価値計算装置 FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | 分離治具 FI分類-G02C 7/04, FI分類-B29C 33/44 |
2016年09月30日 特許庁 / 特許 | コンタクトレンズの製造方法およびコンタクトレンズの製造装置 FI分類-G02C 7/04, FI分類-B29C 33/44 |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/302 104 C |
2016年09月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26 |
2016年09月21日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク、フォトマスクブランクの製造方法、及びそれらを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/54 |
2016年09月20日 特許庁 / 特許 | 紫外光照射装置用光学素子、紫外光照射装置用光学ユニットおよび紫外光照射装置 FI分類-C09D 1/00, FI分類-C09D 5/32, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C09D 183/02, FI分類-G02B 5/00 B |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | 分析装置 FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-G01N 21/27 B, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/045 617 |
2016年09月16日 特許庁 / 特許 | 分析装置 FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 5/14 322, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年09月13日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/38, FI分類-G02F 1/1343, FI分類-G02F 1/1368, FI分類-H01L 21/306 A |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ、その設計方法、およびその製造方法 FI分類-A61F 2/16 |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランクおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年08月31日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 320 Z |
2016年08月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 D, FI分類-G02B 23/24 A |
2016年08月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用変倍光学系、及び内視鏡 FI分類-G02B 15/16, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 735 |
2016年08月26日 特許庁 / 特許 | 反射型マスク、並びに反射型マスクブランク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 301 M |
2016年08月26日 特許庁 / 特許 | 反射型マスク、並びに反射型マスクブランク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年08月26日 特許庁 / 特許 | 反射型マスク、並びに反射型マスクブランク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/84, FI分類-C23C 14/06 R |
2016年08月25日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-H01L 33/58, FI分類-B01J 19/12 C, FI分類-B41F 23/04 B |
2016年08月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状検出用位置センサ FI分類-G02B 23/24 Z, FI分類-A61B 1/00 300 D, FI分類-A61B 1/00 320 Z |
2016年08月12日 特許庁 / 特許 | 評価値計算装置及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年08月12日 特許庁 / 特許 | 評価値計算装置及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年08月08日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用対物光学系及び内視鏡 FI分類-G02B 13/04, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 300 Y |
2016年07月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用照明光学系及び内視鏡 FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 300 Y |
2016年07月26日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、描画装置、表示装置の製造方法、フォトマスク基板の検査方法、及びフォトマスク基板の検査装置 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年07月25日 特許庁 / 特許 | 光学素子の評価値算出方法、評価値算出プログラム及び評価値算出装置 FI分類-G01B 21/20 A, FI分類-G01M 11/00 L |
2016年07月24日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 1/00 Z |
2016年07月24日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年07月07日 特許庁 / 特許 | ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 FI分類-C03C 3/12, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00 |
2016年07月07日 特許庁 / 特許 | ガラス、光学ガラス、リン酸塩光学ガラス、研磨用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材および光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03B 25/02 |
2016年07月04日 特許庁 / 特許 | 分析装置 FI分類-G01J 3/36, FI分類-G01N 21/31, FI分類-G01N 21/27 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年07月01日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/066, FI分類-C03C 3/068 |
2016年07月01日 特許庁 / 特許 | 内視鏡頂部の取付け装置 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 651 |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/064 |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/064 |
2016年06月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/04 362 A |
2016年06月29日 特許庁 / 特許 | 磁気記録媒体基板用ガラス、磁気記録媒体基板および磁気記録媒体 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/095 |
2016年06月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム及び評価値計算装置 FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年06月23日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡装置 FI分類-A61B 1/06 D, FI分類-A61B 1/04 370 |
2016年06月23日 特許庁 / 特許 | 評価値算出方法、評価値算出プログラム及び評価値算出装置 FI分類-G01M 11/00 L |
2016年06月22日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡装置用の接続構造 FI分類-A61B 1/04 370 |
2016年06月20日 特許庁 / 特許 | コンタクトレンズおよびその製造方法 FI分類-G02C 7/04, FI分類-G02C 7/06 |
2016年06月20日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年06月17日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/20 502, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 104 Z |
2016年06月15日 特許庁 / 特許 | 医療用デバイススタンド FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 654 |
2016年06月15日 特許庁 / 特許 | 医療用デバイススタンド FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 654 |
2016年06月14日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年06月08日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503 |
2016年06月08日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503 |
2016年06月08日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521 |
2016年06月02日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置および電子内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年06月02日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置および電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | 光学製品の製造方法 FI分類-C03C 3/21, FI分類-C09J 4/00, FI分類-C09J 5/06, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/068, FI分類-G02B 7/00 F |
2016年05月20日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の研磨方法、研磨液、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z |
2016年05月18日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G02F 1/1362, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年05月10日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 1/80 |
2016年04月21日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/82, FI分類-B05D 3/10 H, FI分類-B05D 7/00 E, FI分類-C03C 17/34 Z |
2016年04月12日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用リークテスタ FI分類-G01M 3/02 Z, FI分類-G02B 23/24 Z, FI分類-A61B 1/00 300 B |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097, FI分類-C03C 3/155 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03B 11/00 B |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | LED基板及びそれを有する光照射装置 FI分類-H01L 33/62, FI分類-B41F 23/04 B |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び、磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/02 R, FI分類-G11B 5/84 A |
2016年03月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び、磁気ディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 C |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 19/00 Z |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 多層膜付き基板の再生方法、多層反射膜付き基板の製造方法、及び反射型マスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/24 |
2016年03月30日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H01L 33/00 H |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2016年03月28日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58 |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | パターン修正方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び修正膜形成装置 FI分類-G03F 1/72, FI分類-G03F 1/00 Z |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-B24B 37/04 U, FI分類-C03C 19/00 Z |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | インプリントモールド用基板、マスクブランク、インプリントモールド用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-B29C 33/38, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2016年03月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | フォトマスク用基板のリサイクル方法、フォトマスク用基板の製造方法、フォトマスクブランクの製造方法、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/68, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-G03F 7/20 501 |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 成膜装置の立ち上げ方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/50, FI分類-C23C 14/34 M |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システムおよび電子内視鏡システムの作動方法 FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370 |
2016年03月24日 特許庁 / 特許 | 内視鏡形状把握システム FI分類-A61B 1/00 320 Z |
2016年03月18日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B29C 35/08, FI分類-B41F 23/04 B |
2016年03月11日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/09, FI分類-C03C 17/245, FI分類-B24B 37/04 F, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク及びこれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80 |
2016年03月08日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/04 362 A |
2016年02月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、レジスト膜付きマスクブランク、レジストパターン付きマスクブランク、およびそれらの製造方法、ならびに転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 1/50, FI分類-B05D 7/00 H, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-B05D 7/24 302 S |
2016年02月25日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ FI分類-A61F 2/16 |
2016年02月24日 特許庁 / 特許 | プレス成形型、及び、光学素子の製造方法 FI分類-B29C 43/36, FI分類-C03B 11/08 |
2016年02月24日 特許庁 / 特許 | 水銀放電ランプ FI分類-H01J 61/20 U, FI分類-H01J 61/36 B |
2016年02月23日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用変倍光学系及び内視鏡 FI分類-G02B 15/15, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 300 T |
2016年01月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/72, FI分類-C23C 14/06 P |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 1/82, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/26 511 |
2016年01月15日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21V 29/51, FI分類-F21V 29/76, FI分類-F21V 29/503, FI分類-F21Y 101:02, FI分類-B41J 2/01 129, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-F21S 2/00 230, FI分類-F21V 29/67 200 |
2016年01月13日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用高周波処置具 FI分類-A61B 18/14 |
2016年01月13日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年01月13日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年01月13日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年01月13日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2016年01月10日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-G02B 6/44 301 B |
2015年12月30日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21V 29/65, FI分類-H05K 7/20 H, FI分類-H05K 7/20 P, FI分類-H01L 23/46 C, FI分類-H01L 23/46 Z |
2015年12月29日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、基板端面の加工装置、基板端面の加工方法、及び研削用砥石 FI分類-B24D 3/06 B, FI分類-B24D 5/00 A, FI分類-G11B 5/84 A |
2015年12月29日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法、及び研削用砥石 FI分類-B24D 5/00 A, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2015年12月25日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2015年12月24日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 B, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/302 301 Z |
2015年12月18日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び露光用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-B24B 37/00 B, FI分類-B24B 37/00 K, FI分類-C03C 17/22 Z, FI分類-C03C 19/00 A, FI分類-C03C 17/245 A |
2015年12月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 D, FI分類-G02B 23/24 A |
2015年12月15日 特許庁 / 特許 | プレス成形用ガラス素材、ガラス光学素子およびその製造方法 FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03C 17/34 Z |
2015年12月01日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/84 |
2015年11月27日 特許庁 / 特許 | 欠陥評価方法、マスクブランクの製造方法、マスクブランク、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランク用基板、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/72, FI分類-G01B 11/30 A, FI分類-G01N 21/95 Z, FI分類-H01L 21/66 J |
2015年11月18日 特許庁 / 特許 | レジスト層付きマスクブランク、レジスト層付きマスクブランクの製造方法、及び、転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/039 601 |
2015年11月12日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B24B 37/08, FI分類-B24B 37/015, FI分類-B24B 53/095, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 53/017 Z |
2015年11月11日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-G02B 23/24 Z, FI分類-A61B 1/04 370 |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | 信号伝送装置及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 362 J |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | フォトマスクブランク及びそれを用いたフォトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/58 |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097 |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-C03C 3/12, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2015年11月06日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/066, FI分類-C03C 3/068 |
2015年10月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡プロセッサ、並びに、内視鏡プロセッサの信号処理方法及び制御プログラム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370 |
2015年10月27日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材 FI分類-C03C 3/19, FI分類-G02B 1/00 |
2015年10月26日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、マスクブランク及びこれらの製造方法、転写用マスクの製造方法並びに半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/22 Z, FI分類-C03C 17/34 Z, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-G03F 7/20 503 |
2015年10月23日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370 |
2015年10月20日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、および、表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-H01L 21/308 F |
2015年10月14日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研磨パッド素材、及び基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-B24B 37/26, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/24 C |
2015年10月14日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、フィルタリング装置、及び研磨液の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A |
2015年10月14日 特許庁 / 特許 | 研磨パッド素材、研磨パッドの製造方法、磁気ディスク用基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B24B 37/20, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/24 B |
2015年10月08日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡 FI分類-A61B 8/12 |
2015年10月07日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2015年10月07日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 紫外線透過可視光吸収ガラスおよび紫外線透過可視光吸収フィルター FI分類-C03C 4/08, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C03C 3/097 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、及び洗浄装置 FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 紫外線透過可視光吸収ガラスおよび紫外線透過可視光吸収フィルター FI分類-C03C 4/08, FI分類-G02B 5/22, FI分類-C03C 3/097 |
2015年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、および洗浄装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-B08B 3/04 Z, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2015年09月29日 特許庁 / 特許 | ガラス素子、およびガラス素子の製造方法 FI分類-C03B 11/08, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 E |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用画像記録システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/04 360 C |
2015年09月18日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2015年09月17日 特許庁 / 特許 | 光源装置 FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-G02B 23/26 B |
2015年09月17日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 19/00 Z |
2015年09月16日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器具 FI分類-A61F 2/16 |
2015年09月14日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/86 |
2015年09月11日 特許庁 / 特許 | スイッチング電源装置及びそれを備えた光照射装置 FI分類-H02M 3/28 H |
2015年08月31日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-C23C 14/34 N, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/68 |
2015年08月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、およびマスクブランク FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/11 502, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/26 511, FI分類-G03F 7/40 521 |
2015年08月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 M, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年08月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年08月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2015年08月06日 特許庁 / 特許 | ガラス成形体の製造方法、及び、ガラス成形体の製造装置 FI分類-C03B 11/00 A |
2015年07月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに処理液 FI分類-G11B 5/84 A |
2015年07月31日 特許庁 / 特許 | 研磨スラリーの作製方法、ガラス基板の製造方法、及び原料砥粒の塊 FI分類-C09G 1/02, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2015年07月17日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/58, FI分類-C23C 14/06 N |
2015年07月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/58 |
2015年07月06日 特許庁 / 特許 | インプリント用モールドの製造方法、及びパターン基板の製造方法 FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/40 511, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-H01L 21/30 570, FI分類-B29C 59/02 ZNMB, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年06月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/28, FI分類-G03F 1/32 |
2015年06月30日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B41J 2/01 129 |
2015年06月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2015年06月30日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの設計方法および製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/28, FI分類-G03F 1/32 |
2015年06月23日 特許庁 / 特許 | 画像検出装置及び画像検出システム FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-H04N 9/04 Z, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D, FI分類-G06T 7/60 150 B |
2015年06月19日 特許庁 / 特許 | プレス成形用ガラス素材、プレス成形用ガラス素材の製造方法、及び光学素子の製造方法 FI分類-C03B 11/00 B, FI分類-C03C 19/00 Z |
2015年06月16日 特許庁 / 特許 | 生体鉗子及び観察システム FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 17/28 310, FI分類-A61B 1/00 334 D |
2015年06月01日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/00 Z |
2015年05月29日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B41J 2/01 129 |
2015年05月28日 特許庁 / 特許 | 撮像装置 FI分類-G02B 5/20, FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-H04N 9/07 C, FI分類-A61B 1/04 370 |
2015年05月25日 特許庁 / 特許 | 起上台を備える内視鏡 FI分類-A61B 1/00 334 C |
2015年05月19日 特許庁 / 特許 | 眼内リング FI分類-A61F 2/14, FI分類-A61F 2/16 |
2015年05月12日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80 |
2015年05月12日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-A61B 1/00 300 U, FI分類-A61B 1/00 300 Y |
2015年05月01日 特許庁 / 特許 | 斜視型内視鏡の先端部構造 FI分類-A61B 8/12, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 C, FI分類-A61B 1/00 300 F, FI分類-A61B 1/00 300 Y |
2015年04月28日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置および内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 17/36 350, FI分類-A61B 1/00 300 D, FI分類-A61B 1/00 300 H |
2015年04月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の配管部材の接続方法及び接続構造 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 330 B |
2015年04月17日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置および内視鏡装置 FI分類-A61B 1/26, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/04 362 A |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/08 G, FI分類-C23C 14/08 N, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/02 T |
2015年03月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡挿入部の先端部接続構造 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 310 B, FI分類-A61B 1/00 310 D |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びにそれらの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置 FI分類-H04N 7/18 M, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-H04N 5/228 Z, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-G09G 5/36 520 E |
2015年03月30日 特許庁 / 特許 | コリメータレンズ FI分類-G02B 13/00, FI分類-G02B 13/18, FI分類-H04N 5/74 A, FI分類-G03B 21/14 A |
2015年03月28日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びフラットパネルディスプレイの製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/80 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2015年03月27日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2015年03月26日 特許庁 / 特許 | レジスト液保管容器、レジスト液供給装置、レジスト液塗布装置、レジスト液保存装置、及びマスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 7/26, FI分類-B05C 11/10, FI分類-H01L 21/30 564 D, FI分類-H01L 21/30 564 Z |
2015年03月24日 特許庁 / 特許 | 光源光学系及び光源装置 FI分類-G02B 6/32, FI分類-G02B 13/00, FI分類-G02B 13/18, FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-F21Y 101:02, FI分類-G02B 23/26 B, FI分類-F21S 2/00 330, FI分類-F21S 2/00 340, FI分類-F21V 8/00 310, FI分類-G02B 6/00 331, FI分類-F21Y 101:00 300 |
2015年03月20日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ FI分類-A61F 2/16 |
2015年03月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡挿入部の湾曲部構造 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 310 D |
2015年03月17日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/15, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2015年03月17日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/066, FI分類-C03C 3/068 |
2015年03月16日 特許庁 / 特許 | レジスト層付ブランク、その製造方法、マスクブランクおよびインプリント用モールドブランク、ならびに転写用マスク、インプリント用モールドおよびそれらの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2015年03月11日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-G02B 5/00 Z, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2015年03月02日 特許庁 / 特許 | 光学素子 FI分類-G02B 1/115, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H04N 5/335 690 |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置 FI分類-A61B 5/00 G, FI分類-G01N 33/72 A, FI分類-A61B 1/04 370 |
2015年02月27日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置 FI分類-A61B 1/00 550, FI分類-A61B 1/045 615, FI分類-A61B 1/045 616, FI分類-A61B 1/045 618 |
2015年02月26日 特許庁 / 特許 | 治療器具 FI分類-A61M 31/00, FI分類-A61F 9/007 200 Z |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクセット、フォトマスクの製造方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/00 Z, FI分類-G02F 1/1335 505, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/58, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置 FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-G06T 1/00 510, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2015年02月23日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2015年02月20日 特許庁 / 特許 | 光源装置及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 B |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2015年02月19日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、及びフォトマスクの検査装置 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G03F 7/20 501 |
2015年02月17日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/84, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2015年02月10日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21Y 101:02, FI分類-H05K 7/20 H, FI分類-F21S 2/00 320, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21S 2/00 377 |
2015年02月10日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-B05C 9/12, FI分類-B41F 23/04 B |
2015年02月09日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、多層膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/82, FI分類-C03C 15/00 Z |
2015年02月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び切断刃部材 FI分類-C03B 7/12, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03B 11/00 E |
2015年02月02日 特許庁 / 特許 | 使用済み研磨スラリーの再生方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-B24B 57/02, FI分類-C02F 11/14 D |
2015年02月02日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D, FI分類-C09K 3/14 550 Z |
2015年01月20日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 300 D, FI分類-A61B 1/00 310 A |
2015年01月15日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-A61B 1/00 300 R, FI分類-A61B 1/00 334 C |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材 FI分類-C03C 3/19, FI分類-G02B 1/00 |
2015年01月07日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材 FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/17, FI分類-C03C 3/19, FI分類-G02B 1/00 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び磁気ディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 C |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、及び磁気ディスクドライブ装置 FI分類-G11B 5/73 |
2014年12月26日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板および磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82 |
2014年12月25日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年12月24日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年12月24日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H01L 33/00 450 |
2014年12月24日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク及び反射型マスク FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/60 |
2014年12月10日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247 |
2014年12月09日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 7/20 505, FI分類-G03F 7/20 521 |
2014年12月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/19, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-G02B 15/16 |
2014年12月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/02 |
2014年12月02日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよび光学素子 FI分類-C03C 3/21, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/066, FI分類-G02B 7/02 Z |
2014年12月01日 特許庁 / 特許 | 研削又は研磨処理用キャリア、研削又は研磨処理用キャリアの製造方法、及び磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/04 U, FI分類-H01L 21/304 622 G |
2014年12月01日 特許庁 / 特許 | 研磨又は研削処理用キャリアの製造方法、研磨又は研削処理用キャリア、及び基板の製造方法 FI分類-B24B 37/28, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-C03C 15/00 D, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年11月27日 特許庁 / 特許 | 表面形状測定方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-G01B 21/20 C |
2014年11月21日 特許庁 / 特許 | 分析装置及び分析装置の作動方法 FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年11月17日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2014年11月05日 特許庁 / 特許 | 非磁性基板の製造方法及び研磨装置 FI分類-B24B 9/10 Z, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 D, FI分類-B24B 37/00 H |
2014年10月31日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及びパターン転写方法 FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年10月30日 特許庁 / 特許 | 転写用マスクの製造方法および現像液 FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 7/32, FI分類-G03F 7/09 501, FI分類-G03F 7/40 521, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 569 E |
2014年10月27日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子および光学ガラス素材 FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/17, FI分類-C03C 3/19, FI分類-G02B 1/00 |
2014年10月17日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスフィルタ FI分類-C03C 4/08, FI分類-C03C 3/062, FI分類-C03C 3/064, FI分類-C03C 3/066, FI分類-C03C 3/078, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/089, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093, FI分類-G02B 5/00 A |
2014年10月01日 特許庁 / 特許 | 周辺露光装置用の光照射装置 FI分類-G02B 19/00, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 577 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びインプリントモールドの製造方法 FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/36, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-H01L 21/30 502 P, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに固定砥粒砥石 FI分類-G11B 5/84 A |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | シリカ砥粒、シリカ砥粒の製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-C09K 3/14 550 D |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03B 11/00 A |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2014年09月30日 特許庁 / 特許 | ガラス、プレス成形用ガラス素材、光学素子ブランク、および光学素子 FI分類-C03C 3/15, FI分類-C03C 3/23, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-C03C 3/155 |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/34 |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の元となるガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 FI分類-B24D 3/28, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 A, FI分類-B24B 37/04 F, FI分類-B24B 53/00 C, FI分類-B24D 11/00 M, FI分類-B24D 3/00 320 B, FI分類-B24D 3/00 330 Z |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-C09G 1/02, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-B24B 37/04 F, FI分類-C09K 3/14 550 C |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研削工具 FI分類-B24D 3/28, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24D 11/00 B, FI分類-B24D 3/00 350, FI分類-B24D 3/00 320 B, FI分類-B24D 3/02 310 Z |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 研削工具、ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B24D 3/28, FI分類-B24B 37/08, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24D 11/00 M, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24D 3/00 320 A, FI分類-B24D 3/00 320 B, FI分類-B24D 3/00 330 G |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G03F 1/30, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 501 |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z |
2014年09月29日 特許庁 / 特許 | 表示装置製造用フォトマスクブランク、表示装置製造用フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/00 Z |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよびその製造方法 FI分類-C03B 5/16, FI分類-C03C 3/16, FI分類-C03C 3/21, FI分類-C03B 25/04 |
2014年09月26日 特許庁 / 特許 | 光学ガラスおよびその製造方法 FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-C08F 220/28, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-H01L 21/30 563 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、マスクブランク、転写用マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/84, FI分類-C23C 14/06 N, FI分類-C23C 14/06 R, FI分類-G03F 7/20 503 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24 |
2014年09月25日 特許庁 / 特許 | 導電膜付き基板、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 1/54, FI分類-C23C 14/06 H, FI分類-C23C 14/06 P |
2014年09月18日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、及び磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/078, FI分類-C03C 3/087, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 21/00 101 |
2014年09月17日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/86, FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 N, FI分類-C23C 14/46 Z, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年09月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡の湾曲操作機構 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 300 A, FI分類-A61B 1/00 310 G |
2014年09月12日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年09月09日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、EUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、EUVリソグラフィー用反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 521 |
2014年09月05日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2014年09月05日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2014年09月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用電子スコープ及び内視鏡用電子スコープの組立方法 FI分類-G02B 23/26, FI分類-A61B 1/06 D, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372 |
2014年09月04日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 680, FI分類-A61B 1/04 520, FI分類-A61B 1/012 511 |
2014年09月03日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年08月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2014年08月31日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法 FI分類-C11D 3/26, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-C03C 23/00 A |
2014年08月29日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスク及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年08月27日 特許庁 / 特許 | ノイズ低減装置 FI分類-H04N 5/21 Z, FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-G06T 5/00 300 |
2014年08月22日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク及びその製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/58, FI分類-H01L 21/30 531 M, FI分類-H01L 21/302 104 C |
2014年08月22日 特許庁 / 特許 | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体および情報記録装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-C03C 3/085, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097 |
2014年08月22日 特許庁 / 特許 | ガラス基板 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093 |
2014年08月20日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58 |
2014年08月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクおよび転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/80 |
2014年08月13日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付きマスクブランクおよびその製造方法ならびに転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年08月13日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付きマスクブランクおよびその製造方法ならびに転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-G03F 7/095, FI分類-G03F 7/11 503, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A |
2014年08月08日 特許庁 / 特許 | 電子スコープ及び電子スコープの製造方法 FI分類-H05K 1/18 J, FI分類-H05K 1/18 S, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372 |
2014年08月05日 特許庁 / 特許 | 画像信号生成装置及び電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年08月05日 特許庁 / 特許 | 画像信号生成装置及び電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年08月01日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/38, FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 7/11 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601 |
2014年07月31日 特許庁 / 特許 | 光学素子 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 1/10 A, FI分類-H01L 27/14 D |
2014年07月30日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用撮像装置 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-H04N 5/225 C, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-H04N 5/335 410, FI分類-H04N 5/335 720 |
2014年07月29日 特許庁 / 特許 | 内視鏡ファイリング装置、内視鏡システム、及び画像処理方法 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/04 360 C |
2014年07月28日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年07月18日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21Y 101:02, FI分類-H05K 7/20 H, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21S 2/00 377, FI分類-F21V 29/00 111, FI分類-F21V 29/00 510, FI分類-F21V 29/02 100, FI分類-F21V 29/02 200, FI分類-F21V 29/02 510 |
2014年07月17日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-A61B 1/06 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年07月17日 特許庁 / 特許 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、フォトマスクブランク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/29, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付きマスクブランクおよびその製造方法ならびに転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/20, FI分類-C23C 14/08 G, FI分類-C23C 14/14 D |
2014年07月16日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付きマスクブランクおよびその製造方法ならびに転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/40, FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-C23C 14/06 P |
2014年07月15日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板、EUVリソグラフィー用反射型マスクブランク、EUVリソグラフィー用反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-G03F 7/20 504, FI分類-G03F 7/20 521 |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年07月14日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 E, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/58 A, FI分類-H01L 21/316 Y, FI分類-H01L 21/318 B, FI分類-H01L 21/318 M |
2014年07月11日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/74, FI分類-G03F 1/84 |
2014年07月11日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G03F 1/74, FI分類-H01L 21/302 103 |
2014年07月10日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-C03C 17/36, FI分類-C03C 17/22 Z |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-C03C 17/36, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、多層反射膜付き基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板加工装置 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 15/00 Z |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/36, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | キャリア、磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/04 U, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年06月30日 特許庁 / 特許 | 基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、及び基板製造装置 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 17/40, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 15/00 Z |
2014年06月29日 特許庁 / 特許 | ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びにガラス基板用研磨液組成物 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-B24B 37/04 F, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C09K 3/14 550 C |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 円板状ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 C, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスクの製造方法、研削砥石 FI分類-B24B 9/10 Z, FI分類-B24D 5/00 P, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24B 9/00 601 G |
2014年06月27日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板、磁気ディスク、磁気ディスク用基板の製造方法、円板状基板の製造方法 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/82, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 C |
2014年06月25日 特許庁 / 特許 | レジスト感度評価方法、転写用マスクの製造方法、インプリント用モールドの製造方法、およびレジスト付基材の供給方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/78, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/26 501, FI分類-H01L 21/30 566, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/30 502 G, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年06月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2014年06月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板、マスクブランク、転写用マスク及びこれらの製造方法並びに半導体デバイスの製造方法 FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/84, FI分類-C03C 17/36, FI分類-C03C 17/34 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年06月16日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、描画装置、フォトマスクの検査方法、フォトマスクの検査装置、及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/42, FI分類-G03F 1/76, FI分類-G03F 1/84 |
2014年06月03日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学素子ブランク、プレス成形用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/247, FI分類-G02B 3/00 Z |
2014年05月30日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム及びこれに用いる頭部ジェスチャ検出型遠隔操作装置 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/00 300 B, FI分類-G06F 3/01 310 C |
2014年05月29日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H05K 7/20 E, FI分類-H05K 7/20 F, FI分類-F21V 19/00 450, FI分類-F21V 29/00 111 |
2014年05月29日 特許庁 / 特許 | 集光光学系及び光源光学系 FI分類-G02B 13/00, FI分類-G02B 13/18, FI分類-G02B 23/26 B |
2014年05月29日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに位相シフトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-C23C 14/06 K, FI分類-C23C 14/34 M |
2014年05月29日 特許庁 / 特許 | 情報記録媒体用ガラス基板、情報記録媒体、および磁気ディスク装置 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年05月28日 特許庁 / 特許 | 生体組織中の生体物質の濃度分布を示す画像を生成する装置の作動方法及び装置 FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年05月27日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/22, FI分類-G03F 1/58, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年05月27日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用プロセッサ FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年05月27日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-G02B 5/30, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G02B 5/08 A |
2014年05月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年05月16日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/00 513, FI分類-A61B 1/07 730, FI分類-A61B 1/045 610 |
2014年05月15日 特許庁 / 特許 | マスクブランクおよび転写用マスク並びにそれらの製造方法 FI分類-G03F 1/32 |
2014年05月14日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板 FI分類-G03F 1/68, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年05月14日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 501 |
2014年05月14日 特許庁 / 特許 | フォトマスク基板 FI分類-G03F 1/46, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/84, FI分類-G01B 11/02 Z |
2014年05月12日 特許庁 / 特許 | 内視鏡装置 FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 A, FI分類-A61B 1/04 362 A |
2014年05月08日 特許庁 / 特許 | レジスト膜付きマスクブランクの製造方法、転写用マスクの製造方法、レジスト膜付きマスクブランク、マスクブランクの製造方法、およびマスクブランク FI分類-G03F 1/38, FI分類-H01L 21/30 502 P, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年04月30日 特許庁 / 特許 | 研削砥石、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-B24D 3/28, FI分類-B24D 5/02 Z, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-B24B 9/00 601 J |
2014年04月28日 特許庁 / 特許 | プレス成形用プリフォーム、及び、プレス成形用プリフォームの製造方法 FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03B 11/00 B |
2014年04月25日 特許庁 / 特許 | 板ガラスの製造方法、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法および情報記録媒体の製造方法 FI分類-C03B 18/02, FI分類-C03B 18/18, FI分類-C03B 18/22, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年04月23日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡システム FI分類-A61B 8/12 |
2014年04月22日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年04月18日 特許庁 / 特許 | 内視鏡 FI分類-G02B 23/24 A, FI分類-A61B 1/00 334 B |
2014年04月11日 特許庁 / 特許 | 画像処理装置 FI分類-H04N 5/232 Z, FI分類-H04N 5/335 570 |
2014年04月11日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス素子の製造装置及び光学ガラス素子の製造方法 FI分類-C03B 11/12, FI分類-C03B 25/02, FI分類-G02B 3/00 Z |
2014年04月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡プロセッサおよび内視鏡システム FI分類-A61B 1/04 370 |
2014年04月10日 特許庁 / 特許 | 内視鏡プロセッサおよび内視鏡システム FI分類-H04N 9/07 A, FI分類-H04N 9/64 R, FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/045 610, FI分類-A61B 1/045 611 |
2014年04月08日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21Y 101:02, FI分類-G02F 1/1341, FI分類-H05K 7/20 N, FI分類-F21S 2/00 110, FI分類-F21S 2/00 600, FI分類-F21V 29/00 111, FI分類-F21V 29/00 150, FI分類-F21V 29/00 510, FI分類-G02F 1/1339 505 |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 内視鏡用キャリングケース FI分類-G02B 23/24 Z, FI分類-A61B 1/00 300 B |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/04 362 J |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 負荷電圧制御装置、電子内視鏡および電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/04 362 J |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | ガラス成形体のプレス成形装置 FI分類-C03B 11/08, FI分類-C03B 11/16, FI分類-G02B 3/00 Z |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-F21V 29/02, FI分類-F21Y 101:02, FI分類-H05K 7/20 N, FI分類-H05K 7/20 X, FI分類-F21S 2/00 375, FI分類-F21V 29/00 111, FI分類-F21V 29/00 113, FI分類-F21V 29/00 510, FI分類-F21V 29/02 200, FI分類-F21V 29/02 510 |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 光照射ユニット FI分類-G02B 13/00, FI分類-G02B 3/00 A, FI分類-H01L 33/00 L, FI分類-H01L 33/00 400 |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 近赤外線吸収ガラス、及びその製造方法 FI分類-G02B 5/22, FI分類-G02B 1/115, FI分類-C03C 17/245, FI分類-G02B 5/02 C, FI分類-C03C 15/00 Z, FI分類-C03C 17/34 Z, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-C03C 17/245 A |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法、磁気ディスク用ガラス基板、及び磁気ディスクの製造方法 FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-G11B 5/84 C, FI分類-G11B 5/84 Z |
2014年03月31日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-H05K 7/20 X, FI分類-B41F 23/04 B, FI分類-B01D 53/26 100 |
2014年03月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/80 |
2014年03月30日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法、並びに研磨パッド FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 P, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年03月30日 特許庁 / 特許 | マスクブランク、転写用マスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/36, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/50, FI分類-G03F 1/80 |
2014年03月28日 特許庁 / 特許 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク及び表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/80, FI分類-G03F 1/84 |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡および電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 A |
2014年03月27日 特許庁 / 特許 | 光照射ユニット及び光照射装置 FI分類-G02B 13/00, FI分類-F21Y 101:02, FI分類-F21S 2/00 230, FI分類-F21V 5/00 510, FI分類-F21V 5/04 200, FI分類-F21V 17/00 200, FI分類-F21V 17/10 203 |
2014年03月25日 特許庁 / 特許 | マスクブランク基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 FI分類-B08B 1/00, FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/82, FI分類-B08B 3/04 A, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-B08B 3/10 Z, FI分類-B08B 3/12 Z, FI分類-C03C 15/00 B, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 眼内レンズ挿入器および眼内レンズ挿入装置 FI分類-A61F 2/16 |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/60, FI分類-G03F 1/68, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 内視鏡システム FI分類-A61B 1/06 A, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年03月19日 特許庁 / 特許 | 透明基板 FI分類-G02B 5/22, FI分類-C03C 17/09, FI分類-H01L 27/14 D, FI分類-H04N 5/225 D |
2014年03月13日 特許庁 / 特許 | 付着物採取具および付着物採取装置 FI分類-A61B 1/00 300 B |
2014年03月13日 特許庁 / 特許 | 半導体装置及び内視鏡 FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-A61B 1/04 372, FI分類-A61B 1/00 300 P |
2014年03月07日 特許庁 / 特許 | マスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/26, FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/06 A, FI分類-C23C 14/06 P, FI分類-C23C 14/34 S |
2014年03月04日 特許庁 / 特許 | インプリント用モールドブランクおよびインプリント用モールド FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D |
2014年03月04日 特許庁 / 特許 | 情報記録媒体用ガラス基板および情報記録媒体 FI分類-G11B 5/73, FI分類-C03C 3/087, FI分類-C03C 3/091, FI分類-C03C 3/093, FI分類-C03C 3/095, FI分類-C03C 3/097 |
2014年03月03日 特許庁 / 特許 | ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板および磁気ディスク FI分類-G11B 5/73 |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 円環状基板、磁気ディスク用基板、磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、ハードディスク装置 FI分類-G11B 5/73 |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 眼鏡レンズの設計システム、供給システム、設計方法及び製造方法 FI分類-G02C 7/02, FI分類-G02C 13/00, FI分類-A61B 3/10 B |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 眼鏡レンズの設計システム、供給システム、設計方法及び製造方法 FI分類-G02C 13/00 |
2014年02月28日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスクの製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/80 |
2014年02月25日 特許庁 / 特許 | 研磨用ガラスレンズブランク、その製造方法および光学レンズの製造方法 FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-B24B 13/00 Z, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年02月24日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク FI分類-G11B 5/73 |
2014年02月24日 特許庁 / 特許 | 円環状基板、磁気ディスク用基板、磁気ディスク用基板の製造方法、磁気ディスク、磁気ディスクの製造方法、ハードディスク装置 FI分類-G11B 5/73 |
2014年02月21日 特許庁 / 特許 | 超音波内視鏡及び超音波内視鏡の製造方法 FI分類-A61B 8/12 |
2014年02月20日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランクの製造方法、及び反射型マスクの製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/68, FI分類-G03F 1/84 |
2014年02月19日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 502 P |
2014年02月19日 特許庁 / 特許 | 位相シフトマスクブランク及びその製造方法、位相シフトマスク及びその製造方法、並びに表示装置の製造方法 FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 7/20 501 |
2014年02月14日 特許庁 / 特許 | 眼鏡レンズの製造システム、製造装置、製造方法、製造情報管理システム、製造情報管理装置、および製造情報管理方法 FI分類-G02C 13/00, FI分類-G06Q 50/04, FI分類-B24B 9/14 E, FI分類-G05B 19/418 Z |
2014年02月10日 特許庁 / 特許 | ガラスレンズ用成形型、及び、ガラスレンズの製造方法 FI分類-C03B 11/08, FI分類-G02B 3/00 Z |
2014年02月10日 特許庁 / 特許 | 多層反射膜付き基板及びその製造方法、反射型マスクブランクの製造方法、反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 7/20 503, FI分類-H01L 21/30 531 M |
2014年02月07日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスク用基板の製造に用いる研磨パッド FI分類-B24B 1/00 D, FI分類-B24B 7/24 E, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/00 H, FI分類-B24B 37/00 N, FI分類-B24B 37/04 F, FI分類-C03C 19/00 Z |
2014年02月07日 特許庁 / 特許 | 磁気ディスク用基板の製造方法及び研磨パッド FI分類-B24B 37/28, FI分類-G11B 5/84 A, FI分類-B24B 37/24 C |
2014年02月06日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、熱間成形品およびその製造方法、ならびに光学素子およびその製造方法 FI分類-C03C 3/19, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/068, FI分類-G02B 3/00 Z, FI分類-C03B 11/00 B |
2014年02月04日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡および内視鏡装置 FI分類-A61B 1/06 D, FI分類-G02B 23/24 A |
2014年01月30日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-H01L 21/30 531 M, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年01月30日 特許庁 / 特許 | 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/26, FI分類-G03F 1/48, FI分類-G03F 1/52, FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 A |
2014年01月28日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡システム FI分類-G02B 23/24 B, FI分類-G02B 23/26 D, FI分類-A61B 1/04 370, FI分類-A61B 1/00 300 D |
2014年01月28日 特許庁 / 特許 | 光照射装置 FI分類-G02B 7/02 A |
2014年01月21日 特許庁 / 特許 | 電子内視鏡用プロセッサおよび電子内視鏡システム FI分類-A61B 1/04 372 |
2014年01月20日 特許庁 / 特許 | 固視ずれを補正するためのプリズム処方値取得システム、取得方法、取得装置およびプログラム FI分類-A61B 3/08, FI分類-G02C 7/02 |
2014年01月14日 特許庁 / 特許 | 光学ガラス、光学ガラスブランク、プレス成型用ガラス素材、光学素子、およびそれらの製造方法 FI分類-C03C 3/19, FI分類-C03C 3/21, FI分類-G02B 1/00, FI分類-C03C 3/064 |
2014年01月08日 特許庁 / 特許 | マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法 FI分類-B08B 1/04, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/60, FI分類-C03C 15/02, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-B08B 3/12 B, FI分類-B24B 37/04 G, FI分類-B24B 37/04 Z, FI分類-C03C 19/00 Z, FI分類-C03C 17/245 A, FI分類-H01L 21/306 A, FI分類-H01L 21/306 M, FI分類-H01L 21/30 502 D |
HOYA株式会社の商標情報(123件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2023年07月28日 特許庁 / 商標 | §CLINS 05類, 09類, 35類, 36類, 42類, 44類 |
2023年07月14日 特許庁 / 商標 | プリズムコントロール 09類 |
2023年06月08日 特許庁 / 商標 | Venus Guard COAT MEIRYO 09類 |
2022年12月09日 特許庁 / 商標 | HOYA Hydrosurface Technology 09類 |
2022年10月14日 特許庁 / 商標 | 瞳のため、地球のため。 09類, 36類, 39類, 40類 |
2022年08月23日 特許庁 / 商標 | P 05類, 09類, 35類, 44類 |
2022年07月13日 特許庁 / 商標 | HOYALUX Optina 09類 |
2022年07月07日 特許庁 / 商標 | §デジ∞ZERO 09類 |
2022年03月17日 特許庁 / 商標 | D-SCENE 09類 |
2021年11月15日 特許庁 / 商標 | Hoya Contact Lenses 05類, 09類, 35類, 40類, 44類 |
2021年09月02日 特許庁 / 商標 | §みるラボ＼眼とメガネの情報室 35類, 37類, 42類 |
2021年08月16日 特許庁 / 商標 | hoyaONE 03類, 05類, 09類 |
2021年05月11日 特許庁 / 商標 | RealNatural 09類 |
2021年05月07日 特許庁 / 商標 | MiYOSMART 09類 |
2021年05月07日 特許庁 / 商標 | MiYOSMART 09類 |
2021年05月07日 特許庁 / 商標 | 美世∞MiYOSMART 09類 |
2021年04月23日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 極＼KIWAMi 09類 |
2021年04月23日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 極 09類 |
2021年01月13日 特許庁 / 商標 | Ag+＼抗菌 09類, 40類 |
2020年12月24日 特許庁 / 商標 | §うち＼サポ 09類 |
2020年11月26日 特許庁 / 商標 | §KUMORI 291＼くもりにくい 09類, 40類 |
2020年10月29日 特許庁 / 商標 | 曇り291 09類, 40類 |
2020年10月29日 特許庁 / 商標 | くもり291 09類, 40類 |
2020年09月10日 特許庁 / 商標 | Illumina 09類 |
2020年09月10日 特許庁 / 商標 | Hydrosurface Technology 09類 |
2020年09月10日 特許庁 / 商標 | Lighten Your Life 09類 |
2020年08月28日 特許庁 / 商標 | うちサポ 09類 |
2020年03月06日 特許庁 / 商標 | Hydro‐surface Polymerization Technology 09類 |
2020年03月06日 特許庁 / 商標 | ハイドロ サーフェス ポリマライゼーション テクノロジー 09類 |
2020年01月28日 特許庁 / 商標 | Airy 1Day 09類 |
2020年01月28日 特許庁 / 商標 | エアリー ワンデー 09類 |
2020年01月28日 特許庁 / 商標 | HOYA Airy 1Day 09類 |
2020年01月28日 特許庁 / 商標 | HOYA エアリー ワンデー 09類 |
2019年10月29日 特許庁 / 商標 | MEGANET EDI 35類 |
2019年09月26日 特許庁 / 商標 | HOYALUX紬 09類 |
2019年09月26日 特許庁 / 商標 | HOYALUX輝 09類 |
2019年05月17日 特許庁 / 商標 | §AXess 10類 |
2019年04月04日 特許庁 / 商標 | §ホヤラックス アルファ＼HOYALUX α 09類 |
2019年04月04日 特許庁 / 商標 | ニュールックス アルファ＼NULUX α 09類 |
2018年12月18日 特許庁 / 商標 | フィットパル 09類 |
2018年12月12日 特許庁 / 商標 | §Venus Guard＼ヴィーナスガードコート COATRUV 09類, 40類 |
2018年12月12日 特許庁 / 商標 | §PEARL＼VenusGuard＼ヴィーナスガードコート パール COATRUV 09類, 40類 |
2018年12月12日 特許庁 / 商標 | §LAPIS∞Venus Guard＼ヴィーナスガードコート ラピス COAT RUV 09類, 40類 |
2018年11月28日 特許庁 / 商標 | LaClarte 05類, 09類 |
2018年11月28日 特許庁 / 商標 | アイシティ定額プラン 05類, 09類, 35類, 44類 |
2018年11月28日 特許庁 / 商標 | ￠Lena 09類 |
2018年11月02日 特許庁 / 商標 | Audio Glass 09類 |
2018年07月24日 特許庁 / 商標 | Crystal Clear Coat 09類, 40類 |
2018年07月24日 特許庁 / 商標 | 美人コート 09類, 40類 |
2018年06月29日 特許庁 / 商標 | LAFORTE 05類, 09類 |
2018年06月25日 特許庁 / 商標 | §eco＼プロジェクト 36類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | §望＼HOYALUX＼NOZOMi 09類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | 望 09類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 望 09類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 望＼NOZOMi 09類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 雅 09類 |
2018年05月31日 特許庁 / 商標 | §HOYALUX 雅＼MIYABi 09類 |
2018年05月21日 特許庁 / 商標 | Sound Glass 09類, 10類 |
2018年04月24日 特許庁 / 商標 | DRESSAGE 05類, 09類 |
2018年04月24日 特許庁 / 商標 | AI Cares 35類 |
2018年04月24日 特許庁 / 商標 | eyecity 05類, 09類, 35類, 44類 |
2018年04月13日 特許庁 / 商標 | §Clear Cut420 09類, 40類 |
2018年03月29日 特許庁 / 商標 | SCIRコート 09類, 40類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | HOYALUX極 09類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | HOYALUX雅 09類 |
2018年03月15日 特許庁 / 商標 | HOYALUX望 09類 |
2018年02月22日 特許庁 / 商標 | iCAPE-V 09類, 10類 |
2018年01月17日 特許庁 / 商標 | §おトク＼定期便 05類, 09類, 35類, 44類 |
2018年01月17日 特許庁 / 商標 | §ほしい＼とき便 05類, 09類, 35類, 44類 |
2017年11月29日 特許庁 / 商標 | HDIS 09類, 42類 |
2017年10月06日 特許庁 / 商標 | HOYA CTR 10類 |
2017年07月24日 特許庁 / 商標 | コスメディカルワンデー 09類 |
2017年07月13日 特許庁 / 商標 | Audio Glass 09類, 10類 |
2017年05月23日 特許庁 / 商標 | オフ アンド クリン＼OFF & CLEAN 05類 |
2017年05月23日 特許庁 / 商標 | シンプル オフケア＼Simple OFFcare 05類 |
2017年02月28日 特許庁 / 商標 | KAY Capture 10類 |
2017年02月28日 特許庁 / 商標 | KAY Strobe 10類 |
2017年02月28日 特許庁 / 商標 | KAY Metrics 10類 |
2016年12月21日 特許庁 / 商標 | INTELLIFIT 09類 |
2016年10月26日 特許庁 / 商標 | HemoStat WideCup 10類 |
2016年10月12日 特許庁 / 商標 | レイガード435 09類, 40類 |
2016年10月12日 特許庁 / 商標 | RayGuard435 09類, 40類 |
2016年08月31日 特許庁 / 商標 | OE 10類 |
2016年06月23日 特許庁 / 商標 | §10∞毎月10日は＼メガネ点検の日 35類, 37類 |
2016年06月06日 特許庁 / 商標 | AEVITAS 10類, 37類, 44類 |
2016年05月09日 特許庁 / 商標 | アイシティ初回割 35類 |
2016年05月09日 特許庁 / 商標 | アイシティ初回割 35類 |
2016年05月09日 特許庁 / 商標 | アイシティ＼初回割 35類 |
2016年04月11日 特許庁 / 商標 | アイシェルジュ 35類 |
2016年01月26日 特許庁 / 商標 | FRA 09類 |
2016年01月26日 特許庁 / 商標 | FRS 09類 |
2016年01月26日 特許庁 / 商標 | FRF 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Sagesse 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | PALMAS 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | HARMOTECH 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Solve 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Notio 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | ADVANTECH 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | COMFOTECH 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Abilita 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Avance 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Vertu 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | RAKULUX 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Altair 09類 |
2016年01月25日 特許庁 / 商標 | Tribute 09類 |
2015年11月02日 特許庁 / 商標 | おとな＼メガネ∞OTONA MEGANE 09類, 35類 |
2015年10月15日 特許庁 / 商標 | 音声合成の声優事務所 09類 |
2015年07月01日 特許庁 / 商標 | トリプルケアコート 09類, 40類 |
2015年04月08日 特許庁 / 商標 | A les yeux 09類 |
2015年04月08日 特許庁 / 商標 | アレジュー 09類 |
2015年03月31日 特許庁 / 商標 | §スマホ メガネ 09類 |
2015年03月02日 特許庁 / 商標 | SCOPEPILOT 10類, 37類, 44類 |
2015年02月18日 特許庁 / 商標 | SPECTY 09類 |
2014年12月18日 特許庁 / 商標 | Splash M-Knife 10類 |
2014年12月17日 特許庁 / 商標 | SimplicITy 09類, 37類, 44類 |
2014年09月19日 特許庁 / 商標 | モイスル＼Moisuru 05類 |
2014年08月12日 特許庁 / 商標 | DEFINA 10類, 37類, 44類 |
2014年05月30日 特許庁 / 商標 | i∞individual 09類 |
2014年05月28日 特許庁 / 商標 | §MIRROR＼コート∞ミラーコート 09類, 40類 |
2014年02月26日 特許庁 / 商標 | FOG Guard＼コート∞フォグガードコート 09類, 40類 |
2014年02月24日 特許庁 / 商標 | §かしこい＼KASHIKOI LENS∞レンズ 09類 |
2014年02月24日 特許庁 / 商標 | §歩ける老眼鏡 09類 |
2014年02月18日 特許庁 / 商標 | Sensity 09類 |
HOYA株式会社の意匠情報(21件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2020年03月10日 特許庁 / 意匠 | コンタクトレンズ用包装容器 意匠新分類-F47140 |
2018年07月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用ビデオカメラ 意匠新分類-J321 |
2018年03月16日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 W14 |
2018年03月16日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 W14 |
2018年03月16日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 W14 |
2017年10月04日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用フード 意匠新分類-J732 |
2017年02月01日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用検査機保持具 意匠新分類-J159 |
2016年04月13日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用検査機保持具 意匠新分類-J159 |
2016年03月24日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用漏水検査機 意匠新分類-J1500 |
2016年03月24日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用検査機保持具 意匠新分類-J159 |
2015年06月22日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用操作グリップ 意匠新分類-J732 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用操作グリップ 意匠新分類-J732 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用操作グリップ 意匠新分類-J732 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用吸引バルブ 意匠新分類-J732 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
2014年06月30日 特許庁 / 意匠 | 内視鏡用プロセッサ 意匠新分類-J7300 |
HOYA株式会社の職場情報
| 項目 | データ |
|---|---|
事業概要 | 総合光学メーカー |
企業規模 | 3,020人 |
平均勤続年数 範囲 その他 | 男性 18.5年 / 女性 12.4年 |
管理職全体人数 | 501人 男性 474人 / 女性 27人 |
役員全体人数 | 10人 男性 9人 / 女性 1人 |
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