法人番号:7012401018167
気相成長株式会社
情報更新日:2025年07月31日
気相成長株式会社とは
気相成長株式会社（キソウセイチョウ）は、法人番号:7012401018167で東京都小金井市東町4丁目26番20号に所在する法人として東京法務局府中支局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、特許情報が8件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2023年04月03日です。
インボイス番号:T7012401018167については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。立川労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
気相成長株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | 気相成長株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | キソウセイチョウ |
| 法人番号 | 7012401018167 |
| 会社法人等番号 | 0124-01-018167 |
| 登記所 | 東京法務局府中支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2025年07月31日更新 インボイス番号 |
T7012401018167 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2025年07月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒184-0011 ※地方自治体コードは 13210 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,333,545件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 小金井市 ※小金井市の法人数は 4,060件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 東町4丁目26番20号 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都小金井市東町4丁目26番20号 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトコガネイシヒガシチョウ4チョウメ |
| 電話番号TEL | 042-401-1783 |
| FAX番号FAX | 042-401-1783 |
| ホームページHP | http://www.kisoh-seicho.com/ |
| 更新年月日更新日 | 2023年04月03日 |
| 変更年月日変更日 | 2015年10月05日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 立川労働基準監督署 〒190-8516 東京都立川市緑町4-2立川地方合同庁舎3階 |
気相成長株式会社の場所
気相成長株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「気相成長株式会社」で、「東京都小金井市東町4丁目26番20号」に新規登録されました。 |
気相成長株式会社の法人活動情報
気相成長株式会社の特許情報(8件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | 形成材料、形成方法、及び新規化合物 FI分類-C07F 15/02, FI分類-C23C 16/18, FI分類-C07F 15/06 CSP |
2019年04月22日 特許庁 / 特許 | 新規化合物および製造方法 FI分類-C07F 15/02, FI分類-C23C 16/06, FI分類-C07C 209/84, FI分類-C07C 211/65, FI分類-C23C 16/455, FI分類-C07F 15/06 CSP |
2015年11月30日 特許庁 / 特許 | 金属酸化物膜形成方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C01F 7/02 A, FI分類-C23C 16/452, FI分類-C23C 16/455 |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | Mg系材形成材料、Mg系材形成方法、及び新規化合物 FI分類-C07F 3/02 Z, FI分類-C01B 21/06 A, FI分類-C07C 257/14 CSP |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | アミジネート金属錯体の製造方法 FI分類-C07F 1/10, FI分類-C07F 3/06, FI分類-C07F 3/08, FI分類-C07F 15/02, FI分類-C07F 15/06, FI分類-C07C 257/14, FI分類-C07F 1/08 C, FI分類-C07F 5/00 G, FI分類-C07F 13/00 A |
2015年09月28日 特許庁 / 特許 | 固体金属錯体の輸送方法 FI分類-C07F 1/10, FI分類-C07F 3/04, FI分類-C07C 49/92, FI分類-C07F 15/04, FI分類-C07F 15/06, FI分類-C07F 1/08 C, FI分類-C07F 3/00 E, FI分類-C07F 3/00 F, FI分類-C07F 5/00 D, FI分類-C07F 5/00 G, FI分類-C07F 11/00 B, FI分類-C07F 13/00 A |
2015年03月17日 特許庁 / 特許 | 鉄系膜形成材料および鉄系膜形成方法 FI分類-C07F 15/02, FI分類-C23C 16/18, FI分類-H01L 21/285 C |
2014年11月12日 特許庁 / 特許 | 銅系膜形成方法、銅系膜形成材料 FI分類-C23C 18/08, FI分類-C23C 26/00 B |
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