法人番号:7012801002282
アリオス株式会社
情報更新日:2024年08月31日
アリオス株式会社とは
アリオス株式会社(アリオス)は、法人番号:7012801002282で東京都昭島市武蔵野3丁目2番20号に所在する法人として東京法務局立川出張所で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役鈴木浩明。設立日は1972年08月12日。登録情報として、補助金情報が3件、届出情報が1件、特許情報が6件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2019年03月08日です。
インボイス番号:T7012801002282については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。立川労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
アリオス株式会社の基本情報
項目 | 内容 |
---|---|
商号又は名称 | アリオス株式会社 |
商号又は名称(読み仮名)フリガナ | アリオス |
法人番号 | 7012801002282 |
会社法人等番号 | 0128-01-002282 |
登記所 | 東京法務局立川出張所 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T7012801002282 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
法人種別 | 株式会社 |
郵便番号 | 〒196-0021 ※地方自治体コードは 13207 |
国内所在地(都道府県)都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,322,146件 |
国内所在地(市区町村)市区町村 | 昭島市 ※昭島市の法人数は 3,662件 |
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 | 武蔵野3丁目2番20号 |
国内所在地(1行表示)1行表示 | 東京都昭島市武蔵野3丁目2番20号 |
国内所在地(読み仮名)読み仮名 | トウキョウトアキシマシムサシノ3チョウメ |
代表者 | 代表取締役 鈴木 浩明 |
設立日 | 1972年08月12日 |
電話番号TEL | 042-546-4811 |
FAX番号FAX | 042-546-4814 |
ホームページHP | https://www.arios.co.jp/ |
更新年月日更新日 | 2019年03月08日 |
変更年月日変更日 | 2015年10月05日 |
法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305~〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階~14階 |
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 立川労働基準監督署 〒190-8516 東京都立川市緑町4-2立川地方合同庁舎3階 |
アリオス株式会社の場所
アリオス株式会社の登録履歴
日付 | 内容 |
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2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「アリオス株式会社」で、「東京都昭島市武蔵野3丁目2番20号」に新規登録されました。 |
アリオス株式会社と同じ名称の法人
件数 | リンク |
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2件 | ※「アリオス株式会社」と同じ名称の法人を探す |
アリオス株式会社の関連情報
項目 | 内容 |
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情報名 | アリオス株式会社 |
情報名 読み | アリオス |
住所 | 東京都昭島市武蔵野3丁目2-20 |
電話番号 | 042-546-4811 |
アリオス株式会社の法人活動情報
アリオス株式会社の補助金情報(3件)
期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
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2011年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 燃料電池電極に使用される金属担持触媒において、白金等希少金属の使用量削減のためのめっき技術の改良及び向上並びに当該白金等希少金属に代替する材料によるめっき技術の開発を目的とする。本研究開発ではマイクロ波液中プラズマを用いためっき法による金属担持触媒製造の実用化に向けてプロセス、マイクロ波液中プラズマ装置を開発し、最終目標を下記のとおり設定する。 12,244,050円 |
2010年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 本研究では、フラットパネル・半導体産業でキーとなっているスパッタ・CVDなどのプロセスにおいて高度な真空制御を行うための新原理ラムダ方式の真空計を開発することを目的としている。 2,100,000円 |
2010年01月01日 | 地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 燃料電池電極に使われる金属担持触媒において、白金等希少金属の使用量削減のためのめっき技術の改良及び向上並びに当該白金等希少金属に代替する材料によるめっき技術の開発を目的とする。本研究開発では、マイクロ波液中プラズマを用いためっき法による金属担持触媒製造の実用化に向けて、プロセス、マイクロ波液中プラズマ装置の開発課題について解決を図る。 11,865,000円 |
アリオス株式会社の届出情報(1件)
日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
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- | 代表者:代表取締役 鈴木 浩明 全省庁統一資格 / - |
アリオス株式会社の特許情報(6件)
日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
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2019年12月11日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンド合成用CVD装置 FI分類-C01B 32/26, FI分類-C23C 16/27, FI分類-C23C 16/511, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C30B 25/02 P, FI分類-C30B 29/04 E |
2017年11月18日 特許庁 / 特許 | 熱フィラメントCVD装置 FI分類-C01B 32/26, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 B, FI分類-C30B 25/02 Z, FI分類-C30B 29/04 G |
2016年03月09日 特許庁 / 特許 | プラズマCVD装置及びダイヤモンドの成長方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C30B 25/12, FI分類-C23C 16/458, FI分類-C23C 16/511, FI分類-H01L 21/205, FI分類-C01B 31/06 A, FI分類-C30B 29/04 S |
2015年06月24日 特許庁 / 特許 | プラズマ化学気相成長装置 FI分類-C23C 16/511, FI分類-H05H 1/46 B |
2015年05月19日 特許庁 / 特許 | ダイヤモンドの製造方法 FI分類-C23C 16/27, FI分類-C30B 29/04 Q |
2014年07月25日 特許庁 / 特許 | 酸化タングステン及び金属タングステン微粒子の製造方法とそれにより得られる微粒子 FI分類-B01J 37/34, FI分類-C01G 41/02, FI分類-B22F 1/00 P, FI分類-B22F 9/14 Z, FI分類-B01J 23/30 M, FI分類-B01J 35/02 J |
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