株式会社プロセス・ラボ・ミクロンとは

株式会社プロセス・ラボ・ミクロン(プロセスラボミクロン)は、法人番号:7030001055513で埼玉県川越市芳野台1丁目103番52に所在する法人としてさいたま地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役福浦徹。従業員数は126人。登録情報として、表彰情報が1件届出情報が1件特許情報が24件商標情報が10件職場情報が1件が登録されています。なお、2018年09月03日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2018年09月19日です。
インボイス番号:T7030001055513については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は埼玉労働局。川越労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの基本情報

項目 内容
商号又は名称 株式会社プロセス・ラボ・ミクロン
商号又は名称(読み仮名)フリガナ プロセスラボミクロン
法人番号 7030001055513
会社法人等番号 0300-01-055513
登記所 さいたま地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T7030001055513
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒350-0833
※地方自治体コードは 11201
国内所在地(都道府県)都道府県 埼玉県
※埼玉県の法人数は 262,332件
国内所在地(市区町村)市区町村 川越市
※川越市の法人数は 11,929件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 芳野台1丁目103番52
国内所在地(1行表示)1行表示 埼玉県川越市芳野台1丁目103番52
国内所在地(読み仮名)読み仮名 サイタマケンカワゴエシヨシノダイ1チョウメ
代表者 代表取締役 福浦 徹
従業員数 126人
電話番号TEL 049-226-3111
FAX番号FAX 049-226-3962
ホームページHP http://www.lab-micron.co.jp/
更新年月日更新日 2018年09月19日
変更年月日変更日 2018年09月03日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 埼玉労働局
〒330-6016 埼玉県さいたま市中央区新都心11番地2 明治安田生命さいたま新都心ビル ランド・アクシス・タワー 14F(安定)・15F(総務・基準・安定)・16F(総務・雇均)
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 川越労働基準監督署
〒350-1118 埼玉県川越市豊田本1-19-8川越地方合同庁舎

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの場所

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株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの登録履歴

日付 内容
2018年09月03日
【吸収合併】
平成30年9月1日佐賀県佐賀市富士町大字上熊川690番地20株式会社アドバンテック(3300001003778)を合併
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「株式会社プロセス・ラボ・ミクロン」で、「埼玉県川越市芳野台1丁目103番52」に新規登録されました。

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの関連情報

項目内容
情報名株式会社プロセス・ラボ・ミクロン
情報名 読みプロセスラボミクロン
住所埼玉県川越市芳野台1丁目103-54
電話番号049-226-3111

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの法人活動情報

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの表彰情報(1件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年12月04日
両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの届出情報(1件)

日付
公表組織
活動名称 / 活動対象
2017年11月29日
支店:株式会社プロセス・ラボ・ミクロン 中部テクノロジーセンター
PRTR届出データ / PRTR - 金属製品製造業(経済産業大臣)

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの特許情報(24件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2022年05月13日
特許庁 / 特許
メタルマスクとその製造方法、およびその使用方法
FI分類-B41M 1/12, FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41C 1/14 101, FI分類-H05K 3/34 505 D
2022年03月25日
特許庁 / 特許
メタルマスク
FI分類-B41N 1/24, FI分類-H05K 3/34 505 D
2021年03月26日
特許庁 / 特許
メタルマスク版製造設備と製造方法
FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41C 1/14 101
2020年10月09日
特許庁 / 特許
接着剤印刷用マスク
FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41F 15/36 Z, FI分類-H05K 3/34 504 C
2020年02月27日
特許庁 / 特許
メタルマスクの製造方法、およびメタルマスク
FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41C 1/14 101, FI分類-C25D 1/00 311, FI分類-C25D 1/10 311, FI分類-H05K 3/34 505 D
2019年10月03日
特許庁 / 特許
メタルマスク、及びその製造方法
FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41C 1/14 101, FI分類-H05K 3/34 505 D
2019年06月07日
特許庁 / 特許
メタルマスク、及びその製造方法
FI分類-B41C 1/14, FI分類-B41N 1/24, FI分類-C25D 5/16, FI分類-C25D 5/48, FI分類-C25D 7/00 U, FI分類-H05K 3/34 505 D
2019年04月05日
特許庁 / 特許
光学式エンコーダ用反射板とその製造方法
FI分類-G01D 5/347 110 C
2019年03月13日
特許庁 / 特許
導電性ボール定置用マスクの製造方法
FI分類-C25D 1/08, FI分類-C23C 18/36, FI分類-C25D 1/00 311, FI分類-H05K 3/34 505 A, FI分類-H01L 21/92 604 H
2018年11月16日
特許庁 / 特許
ペースト印刷用孔版
FI分類-B41N 1/24, FI分類-H05K 3/12 610 P
2018年10月31日
特許庁 / 特許
ワーク運搬装置
FI分類-H01L 21/68 B, FI分類-H02N 13/00 D
2018年08月21日
特許庁 / 特許
スクリーン印刷版管理装置及び管理システム
FI分類-B41M 1/12, FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41N 3/00, FI分類-H05K 3/34 505 Z, FI分類-B41F 15/08 303 E
2018年06月14日
特許庁 / 特許
スクリーン印刷版及びその製造方法
FI分類-B41N 1/24, FI分類-B41C 1/055 511, FI分類-H05K 3/34 505 D
2017年11月20日
特許庁 / 特許
微細パターンニッケル薄膜とその製造方法
FI分類-C25D 5/12, FI分類-C23C 18/18, FI分類-C23C 18/32, FI分類-B01D 39/20 A
2017年09月04日
特許庁 / 特許
ワーク吸着冶具とワーク吸着装置
FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D
2017年06月12日
特許庁 / 特許
光学式エンコーダ用反射板とその製造方法
FI分類-C25D 1/00 381, FI分類-G01D 5/347 110 C
2017年02月06日
特許庁 / 特許
メタルマスクとはんだペーストの適合性診断システム及び適合性診断方法
FI分類-B41F 15/14 C, FI分類-H05K 3/34 505 C, FI分類-H05K 3/34 512 A
2016年11月25日
特許庁 / 特許
光学式エンコーダ用反射板とその製造方法
FI分類-G01D 5/347 110 A
2016年10月03日
特許庁 / 特許
はんだ印刷用マスクの製造方法
FI分類-B41N 1/24, FI分類-H05K 3/34 505 D
2016年08月05日
特許庁 / 特許
凸状金型の製造方法
FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29C 33/42, FI分類-B29C 45/26
2016年03月02日
特許庁 / 特許
インク用へら
FI分類-B41F 31/00 Z
2015年06月19日
特許庁 / 特許
メタルマスクの製造方法、およびメタルマスク
FI分類-B41N 1/24, FI分類-C25D 1/08, FI分類-B41C 1/14 101, FI分類-C25D 1/00 311, FI分類-H05K 3/34 505 D
2015年04月13日
特許庁 / 特許
導電性ボール定置用マスク、及びその製造方法
FI分類-H01L 21/92 604 H
2014年02月03日
特許庁 / 特許
メタルマスクとその製造方法
FI分類-B41N 1/24, FI分類-H05K 3/34 505 D

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの商標情報(10件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2022年03月25日
特許庁 / 商標
CrossTech
07類
2020年05月26日
特許庁 / 商標
ecoface
06類, 07類
2018年08月30日
特許庁 / 商標
MEMSメッシュ
06類
2018年08月30日
特許庁 / 商標
IoTマスク
07類
2018年02月23日
特許庁 / 商標
オプスタクル
09類
2018年02月23日
特許庁 / 商標
OPSTACL
09類
2017年11月20日
特許庁 / 商標
§StencilNavi:Exact and worthy navigation for stencil choice. StencilNavi:Exact and worthy navigation for stencil choice.∞Exact∞STENCIL∞Worth∞NAVI
40類
2017年07月05日
特許庁 / 商標
タフニック
06類
2017年06月20日
特許庁 / 商標
StencilNavi
40類
2016年12月02日
特許庁 / 商標
タフニック
07類

株式会社プロセス・ラボ・ミクロンの職場情報

項目 データ
事業概要
メタルマスク製造
企業規模
126人
男性 81人 / 女性 32人

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