関東電化工業株式会社

関東電化工業株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

関東電化工業株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	関東電化工業株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	カントウデンカコウギョウ
法人番号	8010001013769
会社法人等番号	0100-01-013769
登記所	東京法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T8010001013769 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒100-0005 ※地方自治体コードは 13101
国内所在地（都道府県）都道府県	東京都 ※東京都の法人数は 1,322,587件
国内所在地（市区町村）市区町村	千代田区 ※千代田区の法人数は 99,225件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	丸の内2丁目3番2号
国内所在地（1行表示）1行表示	東京都千代田区丸の内2丁目3番2号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	トウキョウトチヨダクマルノウチ2チョウメ
代表者	代表取締役社長 長谷川 淳一
資本金	28億7,700万円 (2024年06月28日現在)
従業員数	808人 (2024年06月28日現在)
電話番号TEL	03-3216-4561
ホームページHP	http://www.kantodenka.co.jp/index.htm
更新年月日更新日	2019年12月05日
変更年月日変更日	2019年12月03日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	中央労働基準監督署 〒112-8573 東京都文京区後楽1-9-20飯田橋合同庁舎6・7階

関東電化工業株式会社の場所

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関東電化工業株式会社の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	カントウデンカコウギョウカブシキガイシャ
企業名 英語	KANTO DENKA KOGYO CO.,LTD.
上場・非上場	上場
資本金	28億7,700万円
業種	化学
証券コード	40470

関東電化工業株式会社の登録履歴

日付	内容
2019年12月03日	【住所変更】 国内所在地が「東京都千代田区丸の内2丁目3番2号」に変更されました。
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「関東電化工業株式会社」で、「東京都千代田区神田淡路町2丁目105番地」に新規登録されました。

関東電化工業株式会社の法人活動情報

関東電化工業株式会社の調達情報(2件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2020年07月30日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	NEDO先導研究プログラム新産業創出新技術先導研究プログラム5G移動通信と次世代パワーエレクトロニクスの高性能化を支える高周波磁性材料の開発 5,142,500円
2017年06月13日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	エネルギー・環境新技術先導プログラム ナノ結晶クラスター組織からなる革新的磁性材料の創製 3,564,000円

関東電化工業株式会社の表彰情報(2件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

関東電化工業株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:関東電化工業株式会社 水島工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)

関東電化工業株式会社の特許情報(47件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年02月16日 特許庁 / 特許	ジアリールアセチレン誘導体の製造方法 FI分類-C07C 5/00, FI分類-C07C 15/54, FI分類-C07C 15/58, FI分類-C07C 17/23, FI分類-C07C 22/08, FI分類-C07C 25/24, FI分類-C07C 41/18, FI分類-C07C 43/215, FI分類-C07B 61/00 300
2022年03月18日 特許庁 / 特許	D-ルシフェリン及びD-ルシフェリン誘導体、並びにこれら化合物の前駆体、並びにこれらの製造方法 FI分類-C07C 319/20, FI分類-C07B 53/00 G, FI分類-C07C 323/58 CSP
2020年04月06日 特許庁 / 特許	タンクコンテナ及びその製造方法 FI分類-B65D 88/70, FI分類-B60P 3/22 B, FI分類-B65D 88/12 F, FI分類-B65D 88/64 J, FI分類-B65D 90/02 P, FI分類-B65G 65/40 B
2019年10月25日 特許庁 / 特許	硫黄含有フルオロカーボン化合物を含むドライエッチングガス組成物を用いたドライエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年10月25日 特許庁 / 特許	不飽和結合を有する硫黄含有フルオロカーボン化合物を含むドライエッチングガス組成物及びそれを用いたドライエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年08月06日 特許庁 / 特許	熱伝導性粒子充填ファイバー FI分類-C08K 3/01, FI分類-C08K 3/22, FI分類-C08K 7/02, FI分類-D01D 5/04, FI分類-D01F 1/10, FI分類-D01F 6/40, FI分類-D04H 1/728, FI分類-C08L 101/00
2019年07月26日 特許庁 / 特許	1,1,2-トリクロロ-2-フルオロエテン(TCFE)の製造方法 FI分類-C11D 7/50, FI分類-C07C 17/10, FI分類-C07C 17/23, FI分類-C07C 19/12, FI分類-C07C 21/18, FI分類-C23G 5/028
2019年06月25日 特許庁 / 特許	ジフルオロリン酸リチウム粉末及びその製造方法 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/20, FI分類-H01G 11/62, FI分類-H01G 11/84, FI分類-C01B 25/455, FI分類-H01M 10/0567
2019年06月21日 特許庁 / 特許	硫黄原子を含むガス分子を用いたプラズマエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 105 A
2019年05月24日 特許庁 / 特許	非水電解液及びそれを用いた蓄電デバイス FI分類-H01G 11/64, FI分類-H01M 4/485, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 6/14 Z, FI分類-H01M 10/0567
2019年04月25日 特許庁 / 特許	シルセスキオキサン化合物より得られる重合体、透明樹脂組成物、及び放熱材 FI分類-C08G 18/61
2019年03月29日 特許庁 / 特許	六フッ化モリブデンの製造方法及び製造装置 FI分類-C01G 39/04
2019年03月29日 特許庁 / 特許	含フッ素スルフィド化合物の製造方法 FI分類-C07C 319/20, FI分類-C07C 323/03, FI分類-C07B 61/00 300
2019年03月05日 特許庁 / 特許	ガス分析方法及び装置 FI分類-G01N 21/3504
2019年02月01日 特許庁 / 特許	水素及びフッ素及び/または塩素を含有したブタジエン骨格を有する化合物の製造方法 FI分類-C07C 21/18, FI分類-C07C 17/269, FI分類-B01J 23/72 Z, FI分類-C07B 61/00 300
2018年12月06日 特許庁 / 特許	塩素化ビス(3,3,3-トリフルオロ-1-プロペニル)エーテル、その製造方法及びその用途 FI分類-C11D 7/50, FI分類-C07C 41/24, FI分類-C07C 43/17 CSP
2018年11月08日 特許庁 / 特許	1,2-ジクロロ-1-(2,2,2-トリフルオロエトキシ)エチレン、その製造方法及びその用途 FI分類-C11D 7/28, FI分類-C11D 7/50, FI分類-C07C 41/16, FI分類-C07C 43/17 CSP, FI分類-C09K 3/00 111 B
2018年10月30日 特許庁 / 特許	非水電解液及び非水電解液電池 FI分類-H01M 10/0567, FI分類-H01M 10/0569
2018年10月24日 特許庁 / 特許	三フッ化窒素ガス製造用電解槽及びその隔壁 FI分類-C25B 1/00 Z, FI分類-C25B 1/24 A, FI分類-C25B 13/02 302, FI分類-C25B 13/08 305
2018年09月14日 特許庁 / 特許	酸ハロゲン化物を用いた原子層エッチング FI分類-H01L 21/302 105 B
2018年09月11日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法およびエッチングガス FI分類-H01L 21/88 D, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/302 105 A
2018年09月11日 特許庁 / 特許	半導体装置の製造方法およびエッチング方法 FI分類-H01L 27/11556, FI分類-H01L 27/11582, FI分類-H01L 29/78 371, FI分類-H01L 21/302 105 A
2018年09月03日 特許庁 / 特許	電極及びその製造方法並びに再生電極の製造方法 FI分類-C25D 3/12, FI分類-C25B 1/24 A, FI分類-C25B 11/04 Z
2018年07月13日 特許庁 / 特許	被覆無機微粒子及びその製造方法 FI分類-C08K 9/04, FI分類-C01G 25/02, FI分類-C01G 23/047, FI分類-C01B 13/14 A, FI分類-C08L 101/00 ZNM
2018年04月11日 特許庁 / 特許	含フッ素共重合体 FI分類-C08G 18/62, FI分類-C08F 214/18, FI分類-C08F 230/08, FI分類-C09D 127/12, FI分類-C09D 129/10, FI分類-C09D 183/07, FI分類-C09K 3/18 104, FI分類-C08G 18/62 075, FI分類-C08G 18/62 095
2018年04月02日 特許庁 / 特許	ドライエッチングガス組成物及びドライエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 105 A, FI分類-H01L 21/302 301 S
2018年03月26日 特許庁 / 特許	ドライエッチング方法またはドライクリーニング方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-H01L 21/302 101 H, FI分類-H01L 21/302 201 A
2018年03月26日 特許庁 / 特許	塗料組成物 FI分類-C09D 7/65, FI分類-C09D 127/12, FI分類-B32B 27/30 D, FI分類-B05D 7/24 302 J, FI分類-B05D 7/24 302 L, FI分類-B05D 7/24 302 P, FI分類-B05D 7/24 302 R, FI分類-B05D 7/24 302 S, FI分類-B05D 7/24 302 T, FI分類-B05D 7/24 302 V, FI分類-B05D 7/24 302 X, FI分類-B05D 7/24 302 Y, FI分類-B05D 7/24 303 A, FI分類-B05D 7/24 303 E
2018年03月16日 特許庁 / 特許	固体粒子の搬送方法及び搬送システム FI分類-B65G 53/04 E
2018年03月12日 特許庁 / 特許	五フッ化リンの製造方法 FI分類-C01B 25/10
2018年02月05日 特許庁 / 特許	モノハロゲノリン酸エステル塩又はリン酸ジエステル塩の製造方法 FI分類-C07F 9/09 J, FI分類-C07F 9/09 K, FI分類-C07F 9/09 Z
2017年11月01日 特許庁 / 特許	非水電解質、及び非水電解質蓄電素子 FI分類-H01G 11/06, FI分類-H01G 11/30, FI分類-H01G 11/60, FI分類-H01G 11/62, FI分類-H01M 10/052, FI分類-H01M 4/38 Z, FI分類-H01M 10/0568, FI分類-H01M 10/0569
2017年07月19日 特許庁 / 特許	光硬化性高屈折率樹脂組成物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08K 3/22, FI分類-G02B 1/04, FI分類-C08L 33/14, FI分類-C08F 2/44 Z, FI分類-C08F 220/30, FI分類-C08F 292/00, FI分類-C08K 5/5419
2017年03月28日 特許庁 / 特許	セルロースナノファイバーの分散液およびその製造方法 FI分類-C08B 15/02, FI分類-C08B 15/04, FI分類-C08J 3/02 CEPA, FI分類-D01F 2/00 ZBPZ
2017年03月28日 特許庁 / 特許	モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07C 41/30, FI分類-C07C 201/12, FI分類-C07C 205/11, FI分類-C07F 5/02 C, FI分類-C07F 7/18 E, FI分類-C07C 43/225 A, FI分類-C07B 61/00 300
2017年03月28日 特許庁 / 特許	モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07F 7/18 E
2017年03月28日 特許庁 / 特許	モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07C 17/32, FI分類-C07C 22/08, FI分類-C07C 41/30, FI分類-C07C 201/12, FI分類-C07C 205/12, FI分類-C07F 5/02 C, FI分類-B01J 27/122 Z, FI分類-C07C 43/225 A, FI分類-C07B 61/00 300
2017年03月28日 特許庁 / 特許	モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料としたペルフルオロアルキル化剤の新規製造法、及びそれらを用いた芳香族ペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07C 17/32, FI分類-C07C 22/08, FI分類-C07C 201/12, FI分類-C07C 205/11, FI分類-B01J 27/122 Z, FI分類-C07B 61/00 300
2017年03月16日 特許庁 / 特許	材料、この材料を用いた保存容器、この保存容器に取り付けられるバルブ、並びに、ClFの保存方法、ClFの保存容器の使用方法 FI分類-C23C 8/08, FI分類-C23C 28/00 B
2017年03月10日 特許庁 / 特許	p-ハロゲノフェニルケトン誘導体又はp-ハロゲノベンズアルデヒド誘導体とモノヒドロペルフルオロアルカンとを出発原料とするペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07C 29/38, FI分類-C07C 31/34
2017年03月01日 特許庁 / 特許	ナノコンポジットの製造方法 FI分類-C01F 5/02, FI分類-B82Y 40/00
2017年02月16日 特許庁 / 特許	モノヒドロペルフルオロアルカンを出発原料とするペルフルオロアルキル化合物の製造方法 FI分類-C07C 29/38, FI分類-C07C 31/38, FI分類-C07C 33/46, FI分類-C07C 35/48, FI分類-C07C 41/30, FI分類-C07C 209/68, FI分類-C07C 211/45, FI分類-C07C 43/23 C
2016年11月08日 特許庁 / 特許	フッ化酸化グラフェン及びその製造方法 FI分類-H01M 4/13, FI分類-H01G 11/36, FI分類-H01M 8/02 P, FI分類-C01B 31/02 101 Z
2016年05月17日 特許庁 / 特許	非水電解液二次電池用非水電解液、非水電解液二次電池及び非水電解液二次電池の製造方法 FI分類-H01M 10/058, FI分類-H01M 10/0569
2016年03月29日 特許庁 / 特許	フッ素化アルカンの製造方法、アミジン塩基の分離、回収方法、及び、回収アミジン塩基の使用方法 FI分類-C07C 17/16, FI分類-C07C 19/08, FI分類-C07B 61/00 300, FI分類-C07D 487/04 140, FI分類-C07D 487/04 150
2016年03月09日 特許庁 / 特許	ナノコンポジット FI分類-C08K 3/22, FI分類-C09C 3/10, FI分類-C09C 3/12, FI分類-C09D 4/00, FI分類-C09D 5/02, FI分類-C09D 7/12, FI分類-C08L 57/10, FI分類-C08J 7/04 A, FI分類-C09D 127/12, FI分類-C09D 183/12, FI分類-C09D 201/00
2015年02月12日 特許庁 / 特許	ドライエッチングガス組成物及びドライエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 301, FI分類-H01L 21/302 105 A

関東電化工業株式会社の商標情報(2件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年06月22日 特許庁 / 商標	KSG 01類
2018年12月07日 特許庁 / 商標	KDK 01類, 02類

関東電化工業株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	基礎化学品(か性ソーダ、塩素、水素およびそれを利用した無機・有機製品)ならびにフッ素系・鉄系精密化学品の製造・販売
企業規模	672人 男性 608人 / 女性 64人
平均勤続年数 範囲 正社員	男性 15.7年 / 女性 14.5年
女性労働者の割合 範囲 基幹的な職種	10.0%
管理職全体人数	150人 男性 148人 / 女性 2人
役員全体人数	19人 男性 18人 / 女性 1人

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