芝浦メカトロニクス株式会社

芝浦メカトロニクス株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

芝浦メカトロニクス株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	芝浦メカトロニクス株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	シバウラメカトロニクス
法人番号	8020001032660
会社法人等番号	0200-01-032660
登記所	横浜地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T8020001032660 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒247-0006 ※地方自治体コードは 14115
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 366,515件
国内所在地（市区町村）市区町村	横浜市栄区 ※横浜市栄区の法人数は 3,009件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	笠間2丁目5番1号
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5番1号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンヨコハマシサカエクカサマ2チョウメ
代表者	代表取締役社長         今村 圭吾
資本金	67億6,100万円 (2024年06月20日現在)
従業員数	623人 (2024年09月16日現在)
ホームページHP	http://www.shibaura.co.jp/
更新年月日更新日	2018年10月24日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	横浜西労働基準監督署 〒240-8612 神奈川県横浜市保土ヶ谷区岩井町1-7 保土ヶ谷駅ビル4階

芝浦メカトロニクス株式会社の場所

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芝浦メカトロニクス株式会社の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	シバウラメカトロニクスカブシキガイシャ
企業名 英語	SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION
上場・非上場	上場
資本金	67億6,100万円
業種	電気機器
証券コード	65900

芝浦メカトロニクス株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「芝浦メカトロニクス株式会社」で、「神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5番1号」に新規登録されました。

芝浦メカトロニクス株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	芝浦メカトロニクス株式会社生産・調達本部
情報名 読み	シバウラメカトロニクスセイサンチョウタツホンブ
住所	神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5-1
電話番号	045-897-2510

芝浦メカトロニクス株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	芝浦メカトロニクス株式会社総務部
情報名 読み	シバウラメカトロニクスソウムブ
住所	神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5-1
電話番号	045-897-2500

芝浦メカトロニクス株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	芝浦メカトロニクス株式会社 経営管理部
情報名 読み	シバウラメカトロニクスケイエイカンリブ
住所	神奈川県横浜市栄区笠間2丁目5-1
電話番号	045-897-2425

芝浦メカトロニクス株式会社の法人活動情報

芝浦メカトロニクス株式会社の表彰情報(4件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2024年09月16日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2010
2017年12月05日 厚生労働省	次世代育成支援対策推進法に基づく「くるみん」認定 2010年
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業
2017年12月04日 厚生労働省	両立支援のひろば 一般事業主行動計画公表

芝浦メカトロニクス株式会社の特許情報(373件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年01月13日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 C
2022年11月29日 特許庁 / 特許	錠剤検査装置及び錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-G01B 11/24 K, FI分類-G01B 11/25 H
2022年07月20日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41M 5/00 112
2022年07月07日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置、および有機膜の製造方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-F26B 5/04, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 3/00 E, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-F26B 25/00 A
2022年07月07日 特許庁 / 特許	情報処理装置、錠剤印刷装置、情報処理方法、錠剤印刷方法及び錠剤 FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 451
2022年02月24日 特許庁 / 特許	電子部品実装装置 FI分類-H05K 13/02 E, FI分類-B23P 19/00 301 G
2022年01月20日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2022年01月07日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 J, FI分類-H01L 21/304 651 B
2021年12月24日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/165, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 451
2021年12月22日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置、および有機膜形成装置のクリーニング方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 5/04, FI分類-B05C 11/10, FI分類-F26B 25/00 A
2021年11月30日 特許庁 / 特許	基板搬送装置及び基板処理装置 FI分類-B65G 49/07 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L
2021年11月08日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C
2021年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 648 A
2021年09月27日 特許庁 / 特許	加熱処理装置、搬入搬出治具、および有機膜の形成方法 FI分類-F24H 3/04 302, FI分類-H01L 21/30 567
2021年09月22日 特許庁 / 特許	加熱処理装置および加熱処理方法 FI分類-F27B 5/04, FI分類-F27B 5/14, FI分類-F27B 5/16, FI分類-F27D 9/00, FI分類-F27D 7/00 A, FI分類-F27D 11/02 A, FI分類-H01L 21/324 K, FI分類-H01L 21/324 R
2021年09月13日 特許庁 / 特許	加熱処理装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-F27D 9/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-F27D 7/06 C, FI分類-F27B 17/00 B
2021年09月13日 特許庁 / 特許	供給タンク、供給装置、供給システム FI分類-H01L 21/306 R
2021年09月13日 特許庁 / 特許	供給装置、供給システム FI分類-H01L 21/306 T
2021年07月29日 特許庁 / 特許	加熱処理装置 FI分類-F26B 9/06 Z, FI分類-H01L 21/324 K, FI分類-H01L 21/324 T, FI分類-H05B 3/00 330 Z
2021年07月08日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2021年06月28日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2021年05月07日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H01L 21/68 R, FI分類-H02N 13/00 D, FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 G, FI分類-H01L 21/302 104 H
2021年04月08日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2021年03月23日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置、およびプラズマ処理方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2021年03月23日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置の検査方法 FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2021年03月16日 特許庁 / 特許	冷却装置、基板処理装置、冷却方法、および基板処理方法 FI分類-F25D 13/00 Z, FI分類-F25D 11/00 101 B, FI分類-H01L 21/302 101 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B
2021年03月01日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A
2021年02月09日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2021年02月04日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-H01L 21/30 569 A, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 G
2021年01月13日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜装置の水分除去方法 FI分類-C23C 14/00 B, FI分類-C23C 14/34 L, FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 D
2021年01月08日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A
2020年12月15日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2020年12月11日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2020年11月16日 特許庁 / 特許	実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 E, FI分類-H01L 21/78 Y, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H05K 13/08 A
2020年11月10日 特許庁 / 特許	素子実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2020年09月16日 特許庁 / 特許	基板搬送装置 FI分類-H01L 21/68 A
2020年09月15日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 Y
2020年08月07日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H05K 3/00 Z, FI分類-G09F 9/00 342, FI分類-H05K 3/34 504 A, FI分類-H01L 21/60 311 R
2020年08月06日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05C 11/00, FI分類-H05B 3/00 310 D
2020年07月30日 特許庁 / 特許	基板処理方法、および基板処理装置 FI分類-C23F 1/08, FI分類-C23F 1/14, FI分類-C23F 15/00, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 621 B
2020年07月17日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 23/12 501 P
2020年07月15日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置、錠剤印刷方法、錠剤製造装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/07 Q
2020年07月15日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/07 Q
2020年07月07日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/00 A, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 103
2020年06月29日 特許庁 / 特許	基板搬送装置及び基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A
2020年06月29日 特許庁 / 特許	基板搬送装置及び基板処理装置 FI分類-B65G 13/04, FI分類-B65G 49/06, FI分類-B65G 13/00 A, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L
2020年06月02日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/58 C
2020年03月31日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/14 A, FI分類-C23C 14/22 Z
2020年03月31日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/14 A, FI分類-C23C 14/22 Z, FI分類-H01L 21/203 S
2020年03月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2020年03月26日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2020年03月26日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2020年03月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2020年03月13日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C
2020年03月03日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R
2020年02月05日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2019年12月19日 特許庁 / 特許	電子部品のピックアップ装置及び実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 E, FI分類-H01L 21/78 Y, FI分類-H05K 13/02 D
2019年11月29日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/195, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/01 501, FI分類-B41J 2/165 205, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 153, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503
2019年11月13日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/02 Z, FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-C23C 14/56 G
2019年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B
2019年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/78 P, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2019年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/78 P, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 D, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2019年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/78 M, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2019年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/78 M, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2019年09月27日 特許庁 / 特許	インクボトル保持装置、錠剤印刷装置、及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/175 115, FI分類-B41J 2/175 151
2019年09月27日 特許庁 / 特許	成膜装置及び埋込処理装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-H01L 23/00 C, FI分類-H01L 23/28 F
2019年09月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R
2019年09月20日 特許庁 / 特許	溶液の塗布装置および錠剤印刷装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 207, FI分類-B41J 2/165 301, FI分類-B41J 2/165 501
2019年09月06日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 H, FI分類-C23C 14/56 G
2019年09月03日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 451
2019年08月30日 特許庁 / 特許	成膜装置、成膜ワーク製造方法 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-G01N 27/04 Z
2019年08月28日 特許庁 / 特許	移送装置および実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H01L 21/607 Z, FI分類-H01L 21/60 321 Z
2019年08月26日 特許庁 / 特許	基板搬送装置および基板処理装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2019年08月05日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 14/58, FI分類-H05H 1/46 C, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/302 101 D
2019年07月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 B
2019年07月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 B
2019年07月18日 特許庁 / 特許	圧痕検査装置 FI分類-G01N 21/956 B
2019年07月12日 特許庁 / 特許	実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H01L 21/60 311 T
2019年07月09日 特許庁 / 特許	実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2019年06月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 203, FI分類-B41J 2/01 451
2019年03月29日 特許庁 / 特許	基板洗浄装置及び基板洗浄方法 FI分類-B08B 1/04, FI分類-H01L 21/304 644 E
2019年03月29日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-B65G 49/07 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 569 D
2019年03月28日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年03月28日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A
2019年03月26日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2019年03月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B
2019年03月13日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置 FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 5/04
2019年03月08日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷装置の放熱方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41M 3/00 Z, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305
2019年03月06日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置、および有機膜の製造方法 FI分類-B05C 9/14, FI分類-H05B 3/68, FI分類-B05C 15/00
2019年02月22日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 11/04, FI分類-B08B 3/02 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B
2019年02月13日 特許庁 / 特許	検査装置、実装装置及び検査方法 FI分類-G02F 1/1345, FI分類-H05K 3/36 A, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-G02F 1/13 101
2019年02月12日 特許庁 / 特許	トレイ搬送装置及び実装装置 FI分類-B65G 47/91 A, FI分類-B65G 49/06 A, FI分類-B65G 59/02 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H05K 13/02 D
2019年02月07日 特許庁 / 特許	端子清掃装置 FI分類-B08B 1/00, FI分類-B08B 3/04 B, FI分類-B08B 7/04 A, FI分類-G02F 1/1345, FI分類-G02F 1/13 101
2019年02月06日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2019年01月28日 特許庁 / 特許	電磁波減衰体及び電子装置 FI分類-H01F 10/14, FI分類-H01F 10/16, FI分類-H05K 9/00 M
2019年01月16日 特許庁 / 特許	素子実装装置、素子実装装置の調整方法、及び素子実装方法 FI分類-H01L 21/52 C, FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 Q, FI分類-H01L 21/60 311 S, FI分類-H01L 21/60 311 T
2019年01月11日 特許庁 / 特許	電磁波減衰体及び電子装置 FI分類-H01F 10/14, FI分類-H05K 9/00 W, FI分類-H01F 27/36 120, FI分類-H01F 27/36 150
2018年12月14日 特許庁 / 特許	成膜方法、成膜製品及び表面プラズモンセンサ、バイオ計測機器用部品の製造方法 FI分類-C23C 14/14 D, FI分類-C23C 14/34 S
2018年12月13日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置 FI分類-F26B 3/00, FI分類-F26B 9/06 A
2018年12月13日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-G02F 1/1337 520
2018年12月13日 特許庁 / 特許	有機膜形成装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-G02F 1/1337 520
2018年10月29日 特許庁 / 特許	電子部品のピックアップ装置及び実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 E, FI分類-H05K 13/04 B
2018年10月09日 特許庁 / 特許	成膜装置及び部品剥離装置 FI分類-H01G 2/22, FI分類-H05K 9/00 Q, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01G 13/00 331 E
2018年09月28日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/50, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年09月28日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 G
2018年09月28日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜製品の製造方法 FI分類-C23C 14/34 M, FI分類-C23C 14/34 U, FI分類-H01L 21/203 S
2018年09月28日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101
2018年09月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B
2018年09月27日 特許庁 / 特許	ブラシ洗浄装置、基板処理装置及びブラシ洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 644 Z
2018年09月27日 特許庁 / 特許	ブラシ洗浄装置、基板処理装置及びブラシ洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 644 Z
2018年09月27日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 C
2018年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 646, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2018年09月26日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/54 B, FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/31 B
2018年09月20日 特許庁 / 特許	実装装置および実装方法 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2018年09月13日 特許庁 / 特許	素子実装装置及び素子実装基板の製造方法 FI分類-G09F 9/33, FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-G09F 9/00 338
2018年09月07日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B
2018年09月05日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A
2018年09月05日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A
2018年08月31日 特許庁 / 特許	素子実装装置、素子実装方法及び素子実装基板製造方法 FI分類-H01L 33/62, FI分類-H01L 21/50 C, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2018年08月30日 特許庁 / 特許	素子実装装置及び素子実装基板の製造方法 FI分類-H01L 33/48, FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 A
2018年08月07日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 L, FI分類-H01L 21/304 651 B
2018年07月27日 特許庁 / 特許	基板洗浄装置及び基板洗浄方法 FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 648 G
2018年07月25日 特許庁 / 特許	実装装置、及び実装装置に用いられる校正基板 FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H05K 13/08 Q
2018年07月20日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B05C 9/10, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 121, FI分類-B41M 5/00 100
2018年07月20日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B05C 9/10, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05D 3/02 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41M 5/00 100
2018年07月05日 特許庁 / 特許	真空処理装置及びトレイ FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N
2018年06月28日 特許庁 / 特許	粘着テープの貼着装置及び粘着テープの貼着方法 FI分類-B65H 23/18, FI分類-B65H 26/00, FI分類-B65H 37/04 B
2018年06月25日 特許庁 / 特許	洗浄ブラシ、基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 622 Q, FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 G
2018年06月20日 特許庁 / 特許	基板検出装置及び基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B65G 49/07 B, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/30 564 Z, FI分類-H01L 21/30 569 H, FI分類-H01L 21/30 572 B
2018年06月20日 特許庁 / 特許	半導体チップのピックアップ装置、半導体チップの実装装置および実装方法 FI分類-H01L 21/68 E
2018年06月01日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B41J 2/01 305
2018年06月01日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451
2018年05月09日 特許庁 / 特許	基板把持装置、基板搬送装置及び基板搬送方法 FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/30 562
2018年03月30日 特許庁 / 特許	フィルム状電子部品供給台、打抜供給装置及び電子部品実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 R
2018年03月29日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2018年03月29日 特許庁 / 特許	粘着テープの貼着装置 FI分類-H05K 3/32 B, FI分類-B65B 51/06 A, FI分類-B65B 51/06 G, FI分類-B65B 57/00 F, FI分類-H01L 21/60 311 T
2018年03月29日 特許庁 / 特許	粘着テープの貼着装置 FI分類-H05K 3/32 B, FI分類-H01L 21/68 F
2018年03月28日 特許庁 / 特許	電子部品実装装置 FI分類-H05K 13/04 A, FI分類-H01L 21/60 311 T
2018年03月26日 特許庁 / 特許	ヒータ管の気体リーク検出装置及びヒータ管の気体リーク検出方法 FI分類-G01M 3/26 P
2018年03月22日 特許庁 / 特許	検査装置及び検査方法 FI分類-G01N 21/94, FI分類-G01N 21/95 Z, FI分類-G01N 21/956 B
2018年03月16日 特許庁 / 特許	基板載置ステージおよび実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 P
2018年02月05日 特許庁 / 特許	圧着装置 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-G02F 1/1345, FI分類-H05K 3/32 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H01L 21/60 311 T
2018年01月29日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と表示用部材の製造方法 FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-G09F 9/00 348 Z
2018年01月29日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と表示用部材の製造方法 FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-G09F 9/00 348 Z, FI分類-G09F 9/00 350 Z
2018年01月24日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41M 5/50 100
2018年01月22日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/58 Z, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/31 D, FI分類-H01L 21/316 P
2018年01月10日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置および実装方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 25/04 Z, FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H01L 21/60 311 Q
2017年12月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 644 B, FI分類-H01L 21/304 644 C, FI分類-H01L 21/304 644 G
2017年12月12日 特許庁 / 特許	ワーク検出装置、成膜装置及びワーク検出方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-G01B 11/00 H, FI分類-H01L 21/68 F
2017年11月27日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-B65G 49/02 Z, FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/50 E, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 U
2017年11月17日 特許庁 / 特許	フォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/54, FI分類-G03F 1/70, FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 104 C
2017年11月16日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 K, FI分類-C23C 14/56 G
2017年11月15日 特許庁 / 特許	成膜装置及び埋込処理装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 B, FI分類-C23C 14/50 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 23/00 C
2017年11月15日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 B, FI分類-C23C 14/50 C, FI分類-H01L 23/00 C
2017年09月29日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 M
2017年09月28日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-H01L 21/60 321 Y
2017年09月28日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と表示用部材の製造方法 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2017年09月28日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と表示用部材の製造方法 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2017年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z
2017年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 A, FI分類-H01L 21/304 651 B
2017年09月26日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年09月21日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置および表示用部材の製造方法 FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H05K 3/34 501 Z
2017年09月20日 特許庁 / 特許	電子部品の製造装置及び電子部品の製造方法 FI分類-H05K 9/00 Q, FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/56 K, FI分類-H01L 23/00 C, FI分類-H01L 23/30 R
2017年09月19日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置および実装方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H01L 21/60 311 T
2017年09月19日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2017年09月07日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/00 B
2017年08月31日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41F 17/36 B, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2017年08月24日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-H05K 9/00 Q, FI分類-C23C 14/35 E, FI分類-H01L 23/28 F
2017年08月01日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 M, FI分類-H01L 23/12 501 P
2017年07月31日 特許庁 / 特許	半導体チップのピックアップ装置及び実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 E
2017年07月18日 特許庁 / 特許	電子部品の製造装置及び電子部品の製造方法 FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 23/00 C, FI分類-H05K 3/34 503 B
2017年07月13日 特許庁 / 特許	電子部品実装装置 FI分類-H05K 3/36 A, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 R
2017年07月13日 特許庁 / 特許	圧着装置 FI分類-G02F 1/1345, FI分類-H05K 3/36 A, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-H01L 21/60 311 R
2017年07月06日 特許庁 / 特許	保護膜形成装置 FI分類-B32B 37/00, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 302, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G11B 7/26 531
2017年06月28日 特許庁 / 特許	保持装置、位置決め装置及び貼合装置 FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 342
2017年06月26日 特許庁 / 特許	処理液生成装置及びそれを用いた基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年06月20日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/07 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 201, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451
2017年06月06日 特許庁 / 特許	成膜装置、成膜製品の製造方法及び電子部品の製造方法 FI分類-C23C 14/34 C, FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 S
2017年03月31日 特許庁 / 特許	アウターマスク、プラズマ処理装置、およびフォトマスクの製造方法 FI分類-G03F 1/80, FI分類-H01L 21/302 105 B
2017年03月31日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-C23C 16/54, FI分類-C23C 16/507, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 V, FI分類-C23C 14/56 Z, FI分類-H01L 21/31 C
2017年03月31日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 T
2017年03月21日 特許庁 / 特許	保護膜形成装置 FI分類-B05C 11/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A
2017年03月21日 特許庁 / 特許	保護膜形成装置 FI分類-B05C 11/02, FI分類-B05C 13/02, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A
2017年03月03日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G
2017年02月17日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-B41J 3/407, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2017年02月16日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 B, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年02月15日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41M 5/00 100
2017年02月14日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 2/165 301, FI分類-B41J 2/165 401
2017年01月31日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H05K 13/04 A, FI分類-H01L 21/60 311 T
2017年01月31日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H05K 13/08 Q, FI分類-H01L 21/60 311 T
2017年01月31日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置と実装方法、およびパッケージ部品の製造方法 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 23/12 501 P
2017年01月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年01月27日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2017年01月27日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-A61J 3/00 311 G
2017年01月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K
2017年01月27日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2017年01月25日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2017年01月25日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2017年01月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置、基板処理方法及び基板の製造方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G
2017年01月13日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B65H 7/02, FI分類-B65H 7/20, FI分類-B41J 3/407, FI分類-B65H 43/00, FI分類-B65H 29/24 C, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 125, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451
2016年12月26日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-C23C 14/58 Z
2016年12月14日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 643 B
2016年12月14日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-G02F 1/13 101
2016年12月14日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B
2016年11月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 47/14 K
2016年11月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451
2016年11月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 451
2016年10月17日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/175 115, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 171, FI分類-B41J 2/175 501
2016年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A
2016年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-F26B 3/30, FI分類-F26B 15/00 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2016年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R
2016年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 E
2016年08月31日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 643 Z
2016年08月09日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 641, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2016年08月09日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B
2016年07月29日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置、錠剤及び錠剤製造方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年07月29日 特許庁 / 特許	二重容器の破損検出装置及び破損検出方法、基板処理装置 FI分類-B65B 57/02 D
2016年07月28日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-B08B 3/02 C
2016年07月04日 特許庁 / 特許	粘着テープの貼着装置 FI分類-G09F 9/00 338
2016年06月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L
2016年06月23日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-F26B 5/14, FI分類-F26B 13/04, FI分類-B08B 5/02 A, FI分類-F26B 13/10 H, FI分類-H01L 21/304 643 B, FI分類-H01L 21/304 648 A
2016年06月22日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B
2016年06月22日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/01 103, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年05月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 3/407, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年05月19日 特許庁 / 特許	基板処理装置および基板処理方法 FI分類-B05B 1/04, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B08B 3/02 G, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1333 500, FI分類-H01L 21/304 643 C
2016年05月11日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 3/00, FI分類-B41J 3/407, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年05月11日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109
2016年04月27日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401
2016年04月19日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B05C 13/02, FI分類-B41J 3/407, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451, FI分類-B41J 25/304 U
2016年04月19日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年04月19日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B41J 2/165, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/01 451
2016年04月19日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-B05C 13/02, FI分類-B41J 2/165, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/17 207
2016年03月31日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41M 5/00 A, FI分類-B65G 47/08 A, FI分類-B65G 47/14 K, FI分類-B65G 47/14 S, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2016年03月31日 特許庁 / 特許	プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 B, FI分類-H01L 21/302 106, FI分類-H01L 21/302 101 D
2016年03月31日 特許庁 / 特許	基板搬送装置、基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-B25J 9/04 B, FI分類-H01L 21/68 A
2016年03月31日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-A61J 3/06 R, FI分類-B05D 3/00 C, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 7/00 K
2016年03月31日 特許庁 / 特許	基板搬送装置及び基板処理装置 FI分類-B25J 15/00 Z, FI分類-B65G 49/07 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/68 N
2016年03月31日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 47/08 A, FI分類-B65G 47/14 K, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41M 5/00 110
2016年03月31日 特許庁 / 特許	プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 B, FI分類-H01L 21/28 A, FI分類-H01L 21/302 106, FI分類-H01L 21/28 301 B
2016年03月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/175 113, FI分類-B41J 2/175 121, FI分類-B41J 2/175 303, FI分類-B41J 2/175 501, FI分類-B41J 2/175 503
2016年03月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/175 115, FI分類-B41J 2/175 131
2016年03月29日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/68 E, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2016年03月29日 特許庁 / 特許	処理物の処理方法、および処理物の処理装置 FI分類-H01L 21/302 105 A
2016年03月29日 特許庁 / 特許	大気圧プラズマ発生装置 FI分類-A61L 2/14, FI分類-H05H 1/26
2016年03月29日 特許庁 / 特許	電子部品実装装置および電子部品実装方法 FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 R
2016年03月29日 特許庁 / 特許	電子部品の実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H05K 13/04 B, FI分類-H01L 21/60 311 T
2016年03月25日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 V, FI分類-C23C 14/58 Z, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/31 D
2016年03月25日 特許庁 / 特許	インプリント用のテンプレート製造装置 FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2016年03月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2016年03月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2016年03月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2016年03月23日 特許庁 / 特許	錠剤搬送装置及び錠剤印刷装置 FI分類-A61K 9/44, FI分類-A61J 3/06 P, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2016年03月18日 特許庁 / 特許	錠剤搬送装置及び錠剤印刷装置 FI分類-B65G 15/06, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B65G 47/28 G, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2016年03月17日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/34 U
2016年03月17日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 14/34 S, FI分類-C23C 14/34 U
2016年03月08日 特許庁 / 特許	真空処理装置及び真空処理方法 FI分類-C23C 14/56 G, FI分類-C23C 14/58 Z, FI分類-H01L 21/68 N
2016年03月01日 特許庁 / 特許	スピン処理装置 FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 Z
2016年02月29日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜ワーク製造方法 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 H
2016年02月22日 特許庁 / 特許	プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/00 A, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H01L 21/302 103
2015年12月25日 特許庁 / 特許	錠剤搬送装置及び錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q
2015年12月25日 特許庁 / 特許	錠剤搬送装置及び錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q
2015年11月24日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置および錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401
2015年11月24日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 401
2015年11月05日 特許庁 / 特許	真空処理装置 FI分類-G02B 5/26, FI分類-G02B 5/28, FI分類-C23C 14/02 Z, FI分類-C23C 14/56 G
2015年10月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/17 207, FI分類-B41J 2/165 207
2015年10月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 303, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-B41J 2/165 207
2015年10月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/165 205, FI分類-B41J 2/165 207
2015年09月30日 特許庁 / 特許	基板乾燥装置および基板処理装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 11/04, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B08B 5/00 Z, FI分類-G02F 1/13 101
2015年09月30日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q
2015年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L
2015年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 564 C, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 Z
2015年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L
2015年09月29日 特許庁 / 特許	テンプレート用のプラズマ処理装置、およびテンプレートのプラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年09月29日 特許庁 / 特許	基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B
2015年09月29日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2015年09月29日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2015年09月25日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/165 207
2015年09月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-F26B 15/12 B
2015年09月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-F26B 15/12 B, FI分類-F26B 21/00 C
2015年09月07日 特許庁 / 特許	基板、膜形成基板の製造方法及び塗布装置 FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 P, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1333 500
2015年09月07日 特許庁 / 特許	膜形成基板の塗布装置 FI分類-G02F 1/1337, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1333 500
2015年09月01日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-C23C 14/34 T, FI分類-C23C 14/58 B, FI分類-C23C 14/58 Z, FI分類-H01L 21/302 101 B
2015年09月01日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜基板製造方法 FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/34 U
2015年08月31日 特許庁 / 特許	塗布方法および塗布装置 FI分類-B05C 9/14, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 401, FI分類-G03F 7/16 501, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2015年08月21日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G
2015年08月21日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-G03F 7/42, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G
2015年08月21日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 648 K, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2015年08月19日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年08月19日 特許庁 / 特許	基板処理装置、および基板処理方法 FI分類-C23C 16/44 F, FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年08月11日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-H01L 21/304 644 E
2015年07月14日 特許庁 / 特許	インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法 FI分類-B29C 33/38, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D
2015年07月14日 特許庁 / 特許	インプリント用のテンプレート製造装置及びテンプレート製造方法 FI分類-B29C 33/42, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D
2015年07月10日 特許庁 / 特許	基板搬送装置 FI分類-B65G 39/18, FI分類-B65G 13/00 Z, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A
2015年06月24日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-B05C 13/02, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B65G 15/42 Z, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2015年06月12日 特許庁 / 特許	錠剤印刷装置及び錠剤印刷方法 FI分類-A61K 9/20, FI分類-A61J 3/06 Q, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305, FI分類-B41J 2/01 307, FI分類-B41J 2/01 401
2015年06月03日 特許庁 / 特許	インプリント用のテンプレート製造装置 FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D
2015年04月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-B08B 3/02 C
2015年03月27日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置 FI分類-H01L 21/31 C, FI分類-H01L 21/302 101 C, FI分類-H01L 21/302 101 G
2015年03月26日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-H01L 21/205, FI分類-C23C 14/00 B
2015年03月16日 特許庁 / 特許	塗布装置、異物除去システム、塗布方法、および異物除去方法 FI分類-B05D 3/12 Z, FI分類-B29C 59/02 B, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/304 643 Z
2015年03月13日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 FI分類-H01L 21/302 105 A
2015年03月05日 特許庁 / 特許	表示装置用部材の製造装置及び表示装置用部材の製造方法 FI分類-G02F 1/1333, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 342
2015年02月27日 特許庁 / 特許	液充填装置、液充填方法及び塗布装置 FI分類-B41J 2/17, FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 B, FI分類-B05D 3/10 F, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2015年02月19日 特許庁 / 特許	反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/304 643 Z, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 Z
2015年02月19日 特許庁 / 特許	反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/82, FI分類-B08B 3/02 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 B
2015年02月19日 特許庁 / 特許	反射型マスクの洗浄装置および反射型マスクの洗浄方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/82, FI分類-B08B 3/02 A, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 651 B
2015年02月13日 特許庁 / 特許	接液処理装置および接液処理方法 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1337 520
2015年02月13日 特許庁 / 特許	接液処理装置、接液処理方法、基板処理装置および基板処理方法 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G02F 1/1337 520
2015年01月30日 特許庁 / 特許	吸引搬送装置及び印刷装置 FI分類-B65G 21/06, FI分類-B41F 17/36 B, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 21/12 A, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2015年01月30日 特許庁 / 特許	錠剤の吸引搬送装置及び錠剤の印刷装置 FI分類-B65G 21/06, FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 21/14 A, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 301, FI分類-B41J 2/01 305
2015年01月30日 特許庁 / 特許	吸引搬送装置及び印刷装置 FI分類-B65G 15/58 B, FI分類-B65G 47/52 B, FI分類-B65G 47/86 F, FI分類-B41J 2/01 109, FI分類-B41J 2/01 305
2014年12月26日 特許庁 / 特許	多層レジストの除去方法、およびプラズマ処理装置 FI分類-H05H 3/02, FI分類-H05H 1/46 B, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-H01L 21/30 572 A, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/302 105 A
2014年11月04日 特許庁 / 特許	基板貼合装置、表示パネル製造装置及び表示パネル製造方法 FI分類-H05B 33/04, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 338
2014年11月04日 特許庁 / 特許	計量装置、計量システム、処理装置、および計量方法 FI分類-G01F 23/292 C, FI分類-G01F 13/00 331 S
2014年11月04日 特許庁 / 特許	計量装置、計量システム、処理装置、および計量方法 FI分類-G01F 13/00 331 S
2014年11月04日 特許庁 / 特許	計量装置、計量システム、処理装置、および計量方法 FI分類-G01F 13/00 311 A
2014年10月28日 特許庁 / 特許	塗布装置、塗布方法、表示装置用部材の製造装置及び表示装置用部材の製造方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 11/00, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 D, FI分類-B05D 3/00 F, FI分類-G09F 9/00 338, FI分類-B05D 7/24 301 P
2014年09月30日 特許庁 / 特許	塗布装置及び塗布装置における気泡抜き方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 3/00 Z, FI分類-B05C 5/00 101, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/30 564 Z
2014年09月30日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-H01L 21/302 101 C
2014年09月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/304 644 Z
2014年09月29日 特許庁 / 特許	パターン形成装置、処理装置、パターン形成方法、および処理方法 FI分類-H05H 1/46 M, FI分類-H01L 21/312 A, FI分類-H01L 21/302 105 A
2014年09月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/304 642 A
2014年09月24日 特許庁 / 特許	吸着ステージ、貼合装置、および貼合基板の製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/68 P
2014年09月24日 特許庁 / 特許	貼合基板の剥離方法および接着剤の除去方法 FI分類-C09J 5/00, FI分類-H01L 21/02 C
2014年09月18日 特許庁 / 特許	積層体製造装置、積層体、分離装置及び積層体製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 C, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/304 631
2014年09月10日 特許庁 / 特許	液受け装置及び塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101
2014年09月08日 特許庁 / 特許	塗布液供給装置、塗布装置及び塗布液供給方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101
2014年09月05日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A
2014年08月26日 特許庁 / 特許	接着剤塗布装置、接着剤塗布方法、表示装置用部材の製造装置及び表示装置用部材の製造方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/12, FI分類-C09J 5/00, FI分類-B32B 31/28, FI分類-B05D 3/06 Z, FI分類-G09F 9/00 342, FI分類-B05D 7/24 301 P
2014年08月25日 特許庁 / 特許	基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 F
2014年08月25日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 E, FI分類-H01L 21/306 R
2014年08月07日 特許庁 / 特許	基板処理方法及び基板処理装置 FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-G02F 1/13 101
2014年07月17日 特許庁 / 特許	レジスト剥離液浄化装置及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 F
2014年07月09日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年07月09日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年07月07日 特許庁 / 特許	半導体チップの実装装置 FI分類-H01L 21/52 F, FI分類-H01L 21/60 311 T
2014年07月04日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-F26B 5/16, FI分類-B01D 12/00, FI分類-B01F 13/08 Z, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年06月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 3/02 C
2014年06月16日 特許庁 / 特許	選択ボタンと自動販売機 FI分類-G07F 9/00 H, FI分類-G09F 7/02 D, FI分類-H01H 9/18 B, FI分類-G09F 13/04 F, FI分類-G07F 9/02 103
2014年06月04日 特許庁 / 特許	基板搬送装置および基板処理装置 FI分類-B65G 39/12, FI分類-H01L 21/68 A
2014年05月14日 特許庁 / 特許	液供給装置及び基板処理装置 FI分類-H01L 21/306 R
2014年03月31日 特許庁 / 特許	基板乾燥装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 1/04, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B08B 5/02 Z, FI分類-F26B 21/00 N, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L
2014年03月31日 特許庁 / 特許	表面処理装置および表面処理方法 FI分類-H05H 1/24, FI分類-C23C 16/52, FI分類-B01J 19/08 E, FI分類-H01L 21/302 101 E
2014年03月31日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2014年03月31日 特許庁 / 特許	塗布液塗布装置及び方法 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 13/02, FI分類-B05D 1/26 Z, FI分類-B05D 7/00 K, FI分類-B05C 5/00 101
2014年03月31日 特許庁 / 特許	有機物除去装置、および有機物除去方法 FI分類-B08B 7/00, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/302 104 H, FI分類-H01L 21/304 645 C
2014年03月31日 特許庁 / 特許	有機物除去装置、および有機物除去方法 FI分類-G03F 1/24, FI分類-G03F 1/32, FI分類-G03F 1/82, FI分類-H01L 21/304 645 C
2014年03月31日 特許庁 / 特許	基板乾燥装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-B08B 1/04, FI分類-F26B 5/00, FI分類-B08B 3/02 C, FI分類-B08B 5/02 Z, FI分類-F26B 15/12 Z, FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 L
2014年03月28日 特許庁 / 特許	インクジェット式塗布ヘッドの清掃装置及び塗布液塗布装置 FI分類-B05C 11/10, FI分類-B05C 5/00 101
2014年03月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H
2014年03月27日 特許庁 / 特許	基板洗浄装置 FI分類-B08B 1/02, FI分類-H01L 21/304 644 F
2014年03月27日 特許庁 / 特許	基板搬送装置 FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 21/68 A, FI分類-H01L 21/304 644 D, FI分類-H01L 21/304 648 A
2014年03月27日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H
2014年03月26日 特許庁 / 特許	載置台及びプラズマ処理装置 FI分類-H05H 1/46 B, FI分類-H01L 21/30 572 A, FI分類-H01L 21/302 101 D, FI分類-H01L 21/302 104 H
2014年03月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/02 D, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C, FI分類-H01L 21/304 648 G
2014年03月24日 特許庁 / 特許	基板処理装置、基板処理方法及び基板を製造する方法 FI分類-B05C 9/10, FI分類-B05D 1/32 E, FI分類-H05K 3/34 503 Z
2014年03月19日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 642 Z
2014年03月12日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-H01L 21/306 J, FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 643 C
2014年03月12日 特許庁 / 特許	洗浄システム、および洗浄方法 FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 645 C, FI分類-H01L 21/304 645 Z, FI分類-H01L 21/304 648 G, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 K, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年03月07日 特許庁 / 特許	ウェットエッチング装置 FI分類-H01L 21/306 J
2014年03月07日 特許庁 / 特許	ウェットエッチング装置 FI分類-H01L 21/306 R
2014年03月07日 特許庁 / 特許	ウェットエッチング装置 FI分類-H01L 21/306 R, FI分類-H01L 21/308 E
2014年02月28日 特許庁 / 特許	貼合装置および貼合基板の製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-H01L 21/02 Z, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-B23K 20/00 310 L, FI分類-B23K 20/00 310 P
2014年02月28日 特許庁 / 特許	処理装置および処理方法 FI分類-H01L 21/30 572 B, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 Z, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B
2014年02月21日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-F26B 3/28, FI分類-F26B 9/06 A, FI分類-H01L 21/30 569 C, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 648 H, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年02月20日 特許庁 / 特許	接着剤塗布装置、表示装置用部材の製造装置及び表示装置用部材の製造方法 FI分類-B05C 5/02, FI分類-B05C 9/12, FI分類-B05D 7/00 Z, FI分類-G09F 9/00 342, FI分類-B05D 3/06 101 Z, FI分類-B05D 7/24 301 T
2014年02月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年02月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-F26B 5/08, FI分類-F26B 5/12, FI分類-B08B 3/02 B, FI分類-B08B 3/08 Z, FI分類-H01L 21/30 569 Z, FI分類-H01L 21/304 643 A, FI分類-H01L 21/304 647 A, FI分類-H01L 21/304 651 B, FI分類-H01L 21/304 651 L, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年02月18日 特許庁 / 特許	基板処理装置及び基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 651 G, FI分類-H01L 21/304 651 M
2014年01月30日 特許庁 / 特許	基板処理装置および基板処理方法 FI分類-H01L 21/304 642 Z, FI分類-H01L 21/304 643 Z
2014年01月30日 特許庁 / 特許	貼合基板製造装置及び貼合基板製造方法 FI分類-H01L 21/02 B, FI分類-B23K 20/00 310 L, FI分類-B23K 20/00 310 P
2014年01月07日 特許庁 / 特許	基板貼合装置、表示装置用部材の製造装置及び表示装置用部材の製造方法 FI分類-G02F 1/1339, FI分類-G02F 1/13 101, FI分類-G09F 9/00 313, FI分類-G09F 9/00 338

芝浦メカトロニクス株式会社の商標情報(20件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年06月05日 特許庁 / 商標	FOC 07類
2022年11月11日 特許庁 / 商標	ARTS 07類, 37類
2022年11月11日 特許庁 / 商標	§COLD＼CRYSTAL＼CLEAN 07類, 37類
2021年02月25日 特許庁 / 商標	Cold Crystal Clean 07類, 37類
2021年02月25日 特許庁 / 商標	3C Cold Crystal Clean 07類, 37類
2021年01月13日 特許庁 / 商標	ARTS 07類, 37類
2017年04月10日 特許庁 / 商標	§XiNO 09類, 16類, 42類
2017年04月10日 特許庁 / 商標	キノシステム 09類, 16類, 42類
2015年11月17日 特許庁 / 商標	§S∞M 02類
2015年11月17日 特許庁 / 商標	§S∞M∞SHiBAURA 02類
2015年11月17日 特許庁 / 商標	SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION 02類
2015年11月17日 特許庁 / 商標	芝浦メカトロニクス株式会社 02類
2014年12月26日 特許庁 / 商標	Smart Solutions & Services 07類, 09類, 37類
2014年12月24日 特許庁 / 商標	CUPGUN 07類
2014年09月03日 特許庁 / 商標	デカボタン 07類
2014年09月03日 特許庁 / 商標	ジャイアントボタン 07類
2014年08月29日 特許庁 / 商標	CCS 07類
2014年08月29日 特許庁 / 商標	カップガン 07類
2014年08月27日 特許庁 / 商標	ARCS 07類, 37類
2014年02月20日 特許庁 / 商標	ARCS 07類, 37類

芝浦メカトロニクス株式会社の意匠情報(7件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年06月22日 特許庁 / 意匠	基板保持具 意匠新分類-K0790
2022年03月31日 特許庁 / 意匠	保持ヘッド 意匠新分類-K0790
2022年03月31日 特許庁 / 意匠	保持ヘッド 意匠新分類-K0790
2022年03月31日 特許庁 / 意匠	保持ヘッド 意匠新分類-K0790
2022年03月31日 特許庁 / 意匠	保持ヘッド 意匠新分類-K0790
2019年03月04日 特許庁 / 意匠	券売機 意匠新分類-J51020
2016年12月20日 特許庁 / 意匠	券売機 意匠新分類-J51020

芝浦メカトロニクス株式会社の職場情報

項目	データ
事業概要	ＦＰＤ・半導体製造装置、真空・各種応用装置の開発・製造及び販売
企業規模	623人
平均勤続年数 範囲 正社員	男性 21.3年 / 女性 15.6年
女性労働者の割合 範囲 正社員	11.1%

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