上村工業株式会社

上村工業株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

上村工業株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	上村工業株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ウエムラコウギョウ
法人番号	8120001077365
会社法人等番号	1200-01-077365
登記所	大阪法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T8120001077365 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒541-0045 ※地方自治体コードは 27128
国内所在地（都道府県）都道府県	大阪府 ※大阪府の法人数は 471,727件
国内所在地（市区町村）市区町村	大阪市中央区 ※大阪市中央区の法人数は 54,231件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	道修町3丁目2番6号
国内所在地（1行表示）1行表示	大阪府大阪市中央区道修町3丁目2番6号
国内所在地（読み仮名）読み仮名	-
代表者	代表取締役社長 上村 寛也
資本金	13億3,693万6,000円 (2024年06月28日現在)
従業員数	292人 (2024年06月28日現在)
電話番号TEL	06-6202-8518
FAX番号FAX	06-6228-0082
ホームページHP	https://www.uyemura.co.jp/
更新年月日更新日	2024年04月26日
変更年月日変更日	2024年04月02日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	大阪労働局 〒540-8527 大阪府大阪市中央区大手前4丁目1番67号大阪合同庁舎第2号館8F(総務・雇均)・9F(基準)
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	大阪中央労働基準監督署 〒540-0003 大阪府大阪市中央区森ノ宮中央1-15-10

上村工業株式会社の場所

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上村工業株式会社の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	ウエムラコウギョウカブシキガイシャ
企業名 英語	C.Uyemura & Co.,Ltd.
上場・非上場	上場
資本金	13億3,600万円
業種	化学
証券コード	49660

上村工業株式会社の登録履歴

日付	内容
2024年04月02日	【吸収合併】 令和6年4月1日大阪府枚方市出口一丁目5番1号株式会社サミックス(4120001155793)を合併
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「上村工業株式会社」で、「大阪府大阪市中央区道修町3丁目2番6号」に新規登録されました。

上村工業株式会社と同じ名称の法人

件数	リンク
4件	※「上村工業株式会社」と同じ名称の法人を探す

上村工業株式会社の法人活動情報

上村工業株式会社の調達情報(1件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2019年09月20日 国立研究開発法人新エネルギー・産業技術総合開発機構	NEDO先導研究プログラム新産業創出新技術先導研究プログラム高出力密度パッケージ向け塗布型機能性銅合金材料の研究開発 9,997,500円

上村工業株式会社の表彰情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年12月04日 厚生労働省	女性の活躍推進企業

上村工業株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:上村工業株式会社 枚方工場 PRTR届出データ / PRTR - 化学工業(経済産業大臣)

上村工業株式会社の特許情報(62件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年04月22日 特許庁 / 特許	無電解Co-Wめっき皮膜、および無電解Co-Wめっき液 FI分類-C23C 18/50, FI分類-C23C 18/52 B
2022年04月18日 特許庁 / 特許	無電解銅めっき液及び前記無電解銅めっき液を利用するナノ双晶銅金属層の製造方法 FI分類-C23C 18/40, FI分類-C23C 18/16 B
2020年07月22日 特許庁 / 特許	無電解Ni-Pめっき用触媒液、および該触媒液を用いた無電解Ni-Pめっき皮膜の形成方法 FI分類-C23C 18/18
2020年06月04日 特許庁 / 特許	錫または錫合金めっき浴 FI分類-C25D 3/32, FI分類-C25D 3/60
2020年04月03日 特許庁 / 特許	パラジウムめっき液及びめっき方法 FI分類-C23C 18/44
2019年10月07日 特許庁 / 特許	表面処理装置、表面処理方法及びパドル FI分類-C25D 21/10 301
2019年10月07日 特許庁 / 特許	保持治具 FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 R, FI分類-C25D 17/08 Z
2019年08月02日 特許庁 / 特許	無電解めっきの前処理方法及び無電解めっきの前処理液 FI分類-C23C 18/18
2019年07月17日 特許庁 / 特許	無電解銅めっき浴 FI分類-C23C 18/40, FI分類-H05K 3/18 F
2019年05月28日 特許庁 / 特許	プリント配線基板の製造方法 FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-H05K 3/18 C, FI分類-H05K 3/38 A, FI分類-H05K 3/38 Z, FI分類-C23C 18/20 A, FI分類-C23C 18/20 Z
2019年04月10日 特許庁 / 特許	金めっき方法及びめっき皮膜 FI分類-C23C 18/18, FI分類-C23C 18/42, FI分類-H05K 3/24 A, FI分類-C23C 18/52 B, FI分類-H01L 23/12 Q, FI分類-H01L 21/60 301 P
2019年03月06日 特許庁 / 特許	無電解金めっき浴 FI分類-C23C 18/44, FI分類-H05K 3/18 F, FI分類-H01L 21/60 301 A
2019年02月15日 特許庁 / 特許	無電解パラジウムめっき液、およびパラジウム皮膜 FI分類-C23C 18/44
2019年01月23日 特許庁 / 特許	ワーク保持治具及び電気めっき装置 FI分類-C25D 17/06 A, FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 R, FI分類-C25D 17/08 S, FI分類-C25D 21/00 J
2019年01月23日 特許庁 / 特許	ワーク保持治具及び電気めっき装置 FI分類-C25D 17/06 A, FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 R, FI分類-C25D 17/08 S, FI分類-C25D 21/00 J
2019年01月23日 特許庁 / 特許	ワーク保持治具及び電気めっき装置 FI分類-C25D 17/06 A, FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 R, FI分類-C25D 17/08 S, FI分類-C25D 21/00 J
2019年01月10日 特許庁 / 特許	表面処理装置およびその方法 FI分類-C23C 18/31 E
2019年01月10日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-C23C 18/31 E
2018年12月27日 特許庁 / 特許	シャフト部材及びシャフト部材の製造方法 FI分類-C22C 38/04, FI分類-C23C 18/36, FI分類-C23C 28/02, FI分類-C22C 19/03 G, FI分類-C22C 38/00 301 Z
2018年11月30日 特許庁 / 特許	無電解めっき浴 FI分類-C23C 18/44
2018年11月26日 特許庁 / 特許	保持治具 FI分類-C25D 17/06 A, FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 Q, FI分類-C25D 17/08 S
2018年07月12日 特許庁 / 特許	導電性バンプ、及び無電解Ptめっき浴 FI分類-C23C 18/44, FI分類-H05K 1/09 C, FI分類-C23C 18/52 B, FI分類-H01L 21/92 602 D, FI分類-H01L 21/92 604 A
2018年07月05日 特許庁 / 特許	蛍光X線分析の測定方法及び蛍光X線分析の測定装置 FI分類-G01N 23/223
2018年04月10日 特許庁 / 特許	表面処理装置、表面処理方法及びパドル FI分類-C25D 21/10 301
2018年03月29日 特許庁 / 特許	回転式表面処理装置 FI分類-C25D 17/22, FI分類-C25D 17/12 D
2018年02月14日 特許庁 / 特許	電気銅めっき浴および電気銅めっき皮膜 FI分類-C25D 3/58, FI分類-C25D 7/00 G, FI分類-H05K 1/09 A, FI分類-H05K 3/18 G
2017年12月22日 特許庁 / 特許	耐熱用パワーモジュール基板及び耐熱用めっき皮膜 FI分類-C23C 18/50, FI分類-H05K 3/24 A, FI分類-C23C 18/31 A, FI分類-H01L 23/12 J, FI分類-H01L 23/36 C
2017年11月06日 特許庁 / 特許	無電解ニッケル-リン-コバルトめっき浴及び無電解ニッケル-リン-コバルトめっき皮膜 FI分類-C23C 18/50, FI分類-H05K 3/18 F
2017年10月27日 特許庁 / 特許	ワーク保持治具及びロードアンロード装置 FI分類-C25D 17/06 A, FI分類-C25D 17/06 D, FI分類-C25D 17/08 N
2017年10月12日 特許庁 / 特許	無電解ニッケルめっき浴 FI分類-C23C 18/34
2017年10月06日 特許庁 / 特許	無電解パラジウムめっき液 FI分類-C23C 18/44
2017年10月06日 特許庁 / 特許	無電解パラジウムめっき液 FI分類-C23C 18/44
2017年09月20日 特許庁 / 特許	表面処理装置および表面処理方法 FI分類-C25D 7/12, FI分類-C25D 7/00 J, FI分類-C23C 18/16 B, FI分類-C23C 18/31 E, FI分類-C25D 17/00 C, FI分類-C25D 17/00 K, FI分類-C25D 17/00 L, FI分類-C25D 17/06 C, FI分類-C25D 17/08 A, FI分類-C25D 17/08 S, FI分類-C25D 21/10 301, FI分類-C25D 21/10 302
2017年09月07日 特許庁 / 特許	半導体装置 FI分類-H01L 21/52 A, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-H01L 23/36 A
2017年07月25日 特許庁 / 特許	ワーク保持治具及び電気めっき装置 FI分類-C25D 17/06 C, FI分類-C25D 17/06 E, FI分類-C25D 17/06 F, FI分類-C25D 17/08 G, FI分類-C25D 17/08 R, FI分類-C25D 17/08 S, FI分類-C25D 19/00 B, FI分類-C25D 21/12 E
2017年06月23日 特許庁 / 特許	無電解ニッケル-リンめっき皮膜及び無電解ニッケル-リンめっき浴 FI分類-C23C 18/50
2017年03月28日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-B01F 5/04, FI分類-B01F 3/04 F, FI分類-B01F 3/04 Z, FI分類-B01F 15/02 A, FI分類-C23C 18/31 E, FI分類-C25D 21/10 301
2017年01月12日 特許庁 / 特許	フィリングめっきシステム及びフィリングめっき方法 FI分類-C25D 5/10, FI分類-C25D 5/34, FI分類-C25D 7/00 J, FI分類-C25D 17/00 L, FI分類-C25D 3/38 101, FI分類-H01L 21/288 E
2016年12月12日 特許庁 / 特許	無電解金めっき浴 FI分類-C23C 18/44, FI分類-H05K 3/18 F, FI分類-H01L 21/288 E, FI分類-H01L 21/28 301 R
2016年11月17日 特許庁 / 特許	プリント配線基板の製造方法 FI分類-C23C 18/40, FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-H05K 3/38 A, FI分類-C23C 18/20 Z
2016年11月10日 特許庁 / 特許	超音波処理装置 FI分類-B08B 3/12 B, FI分類-B08B 3/12 D
2016年11月02日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-H05K 3/18 M, FI分類-C23C 18/31 E
2016年10月18日 特許庁 / 特許	乾燥装置 FI分類-H05K 3/26 C, FI分類-F26B 15/12 A
2016年10月11日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-C23C 18/31 E
2016年10月11日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-C23C 18/31 E
2016年09月27日 特許庁 / 特許	表面処理装置 FI分類-C23C 18/31 E
2016年08月10日 特許庁 / 特許	還元処理と同時に用いられる無電解めっき用前処理液、およびプリント配線基板の製造方法 FI分類-C08K 3/36, FI分類-C23C 18/18, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-C23C 18/16 A
2016年07月04日 特許庁 / 特許	無電解白金めっき浴 FI分類-C23C 18/44
2016年06月13日 特許庁 / 特許	皮膜形成方法 FI分類-C23C 18/44
2016年03月18日 特許庁 / 特許	銅めっき液及び銅めっき方法 FI分類-C23C 18/18, FI分類-C23C 18/38
2015年12月22日 特許庁 / 特許	黒色化処理剤及びそれを用いた黒色皮膜の製造方法 FI分類-C23C 18/32, FI分類-C23C 22/60
2015年07月28日 特許庁 / 特許	ノンシアン無電解金めっき浴および無電解金めっき方法 FI分類-C23C 18/44
2015年07月28日 特許庁 / 特許	無電解ニッケルめっき浴 FI分類-C23C 18/34, FI分類-H05K 3/18 M
2015年03月30日 特許庁 / 特許	無電解ニッケルめっき浴及びこれを用いた無電解めっき方法 FI分類-C23C 18/34
2015年03月11日 特許庁 / 特許	無電解めっき用処理剤、およびこれを用いたプリント配線基板とパッケージの製造方法 FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-H05K 3/18 J, FI分類-C23C 18/20 Z
2015年02月12日 特許庁 / 特許	無電解めっき用前処理剤、並びに前記無電解めっき用前処理剤を用いたプリント配線基板の前処理方法およびその製造方法 FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-H05K 3/18 E, FI分類-C23C 18/20 Z
2014年09月17日 特許庁 / 特許	配線基板の製造方法およびその方法により製造された配線基板 FI分類-C23C 18/40, FI分類-H05K 3/10 E, FI分類-H05K 3/18 E
2014年07月07日 特許庁 / 特許	磁気記録媒体用金属部材および磁気記録媒体 FI分類-G11B 5/73, FI分類-G11B 5/851
2014年06月11日 特許庁 / 特許	錫電気めっき浴および錫めっき皮膜 FI分類-C25D 3/30, FI分類-C25D 7/00 H
2014年05月16日 特許庁 / 特許	無電解めっき用前処理剤、並びに前記無電解めっき用前処理剤を用いたプリント配線基板の前処理方法およびその製造方法 FI分類-C23C 18/20, FI分類-H05K 3/18 A, FI分類-H05K 3/38 A
2014年02月27日 特許庁 / 特許	電気めっき浴及び電気めっき方法 FI分類-C25D 3/12, FI分類-C25D 5/02 F
2014年02月27日 特許庁 / 特許	電気めっき浴及び電気めっき方法 FI分類-C25D 3/54, FI分類-C25D 3/56 Z, FI分類-C25D 5/02 B

上村工業株式会社の商標情報(24件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年10月10日 特許庁 / 商標	MOSL 01類
2023年04月27日 特許庁 / 商標	ナイキスト 01類
2023年04月27日 特許庁 / 商標	NIKIST 01類
2022年06月27日 特許庁 / 商標	ウエライト 01類
2022年06月27日 特許庁 / 商標	UYERIGHT 01類
2022年04月25日 特許庁 / 商標	カグラピス 01類
2022年04月25日 特許庁 / 商標	KAGLAPIS 01類
2022年04月19日 特許庁 / 商標	プレサ 01類
2022年04月19日 特許庁 / 商標	PRESA 01類
2021年05月12日 特許庁 / 商標	COPKIA 01類
2021年03月08日 特許庁 / 商標	ニムフロン 01類
2021年03月08日 特許庁 / 商標	NIMUFLON 01類
2019年10月24日 特許庁 / 商標	スルニック 01類
2019年10月24日 特許庁 / 商標	THRUNIC 01類
2018年10月26日 特許庁 / 商標	§SpeedPrater 07類
2017年12月13日 特許庁 / 商標	スピードプレーター＼SpeedPlater 07類
2017年12月04日 特許庁 / 商標	ナノムーバー＼NANOMOVER 01類
2017年12月01日 特許庁 / 商標	ゴブライト＼GOBRIGHT 01類
2017年11月29日 特許庁 / 商標	エルスタナー＼ELSTANNER 01類
2017年11月22日 特許庁 / 商標	ナノシーラー＼NANOSEALER 01類
2016年11月30日 特許庁 / 商標	TRIALLOY 01類
2014年10月14日 特許庁 / 商標	ミヤビノ＼MIYAVINO 01類
2014年06月02日 特許庁 / 商標	ナイキスト＼NIKIST 01類
2014年06月02日 特許庁 / 商標	ニキスト＼NIKIST 01類

上村工業株式会社の職場情報

項目	データ
企業規模	345人
平均勤続年数 範囲 その他	男性 14.9年 / 女性 14.4年

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