サンアプロ株式会社

サンアプロ株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

サンアプロ株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	サンアプロ株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	サンアプロ
法人番号	8130001009292
会社法人等番号	1300-01-009292
登記所	京都地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T8130001009292 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒605-0995 ※地方自治体コードは 26105
国内所在地（都道府県）都道府県	京都府 ※京都府の法人数は 112,429件
国内所在地（市区町村）市区町村	京都市東山区 ※京都市東山区の法人数は 3,686件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	一橋野本町11番地
国内所在地（1行表示）1行表示	京都府京都市東山区一橋野本町11番地
国内所在地（読み仮名）読み仮名	キョウトフキョウトシヒガシヤマクイチノハシノモトチョウ
更新年月日更新日	2018年05月08日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	京都労働局 〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	京都下労働基準監督署 〒600-8009 京都府京都市下京区四条通室町東入 函谷鉾町101 アーバンネット四条烏丸ビル5階

サンアプロ株式会社の場所

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サンアプロ株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「サンアプロ株式会社」で、「京都府京都市東山区一橋野本町11番地」に新規登録されました。

サンアプロ株式会社の法人活動情報

サンアプロ株式会社の特許情報(40件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年09月03日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08G 59/68
2020年08月25日 特許庁 / 特許	ナノインプリント用光硬化性組成物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 210/00, FI分類-B29C 59/02 Z, FI分類-H01L 21/30 502 D
2020年08月07日 特許庁 / 特許	酸発生剤、およびこれを含む硬化性組成物 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C09K 3/00 K
2020年07月28日 特許庁 / 特許	電解コンデンサ用電極箔およびその製造方法 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08F 4/00, FI分類-H01G 9/055, FI分類-H01G 9/00 290 D, FI分類-H01L 21/30 502 D
2020年02月14日 特許庁 / 特許	感光性組成物 FI分類-G03F 7/028, FI分類-G03F 7/029, FI分類-A61K 6/083 530, FI分類-G03F 7/004 501
2019年12月16日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07D 335/16 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2019年08月26日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/42, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08L 63/00 C, FI分類-H01L 23/30 R, FI分類-H05K 1/03 610 L
2019年08月23日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤及びエポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/70, FI分類-C07D 233/58, FI分類-C07F 5/02 C, FI分類-C07F 7/04 B, FI分類-C07F 7/18 R
2019年06月10日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤およびエポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/50, FI分類-C08G 59/56, FI分類-C07D 233/56, FI分類-C07D 233/58
2019年04月09日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 FI分類-C07F 9/54, FI分類-C08K 5/36, FI分類-C08L 25/18, FI分類-C08L 33/00, FI分類-C08L 61/04, FI分類-C07C 309/04, FI分類-C07C 309/19, FI分類-C07C 309/30, FI分類-C07F 5/00 H, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-H01L 21/30 573, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年11月22日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07D 221/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年07月02日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩の製造方法 FI分類-C07C 51/41, FI分類-C07C 53/21, FI分類-C07C 65/05, FI分類-C07C 303/32, FI分類-C07C 309/04, FI分類-C07C 381/12
2018年06月11日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07D 221/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/004 503 A
2018年05月10日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年12月07日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07D 221/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年11月15日 特許庁 / 特許	化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物 FI分類-C07F 5/00 H, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2017年11月10日 特許庁 / 特許	硬化性組成物及びそれを用いた光学素子 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C08G 65/10
2017年11月06日 特許庁 / 特許	熱酸発生剤及び硬化性組成物 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07F 5/06 D, FI分類-C09K 3/00 K
2017年10月16日 特許庁 / 特許	光酸発生剤、硬化性組成物及びレジスト組成物 FI分類-C07F 9/28, FI分類-C07C 309/04, FI分類-C07C 309/06, FI分類-C07C 309/07, FI分類-C07C 309/30, FI分類-C07F 5/00 H, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2017年10月12日 特許庁 / 特許	光塩基発生剤および感光性組成物 FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08G 59/68, FI分類-C07C 217/06, FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-C09K 3/00 K
2017年07月06日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩、熱又は光酸発生剤、熱又は光硬化性組成物及びその硬化体 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 209/88, FI分類-C07D 219/06, FI分類-C07D 279/20, FI分類-C07D 333/34, FI分類-C07D 333/76, FI分類-C07D 335/16, FI分類-C07D 339/08, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07F 5/00 CSPH, FI分類-C07D 311/16 101
2017年06月19日 特許庁 / 特許	感光性組成物 FI分類-G03F 7/028, FI分類-G03F 7/029
2017年06月12日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩、光酸発生剤、光硬化性組成物、及びその硬化体 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C07D 335/16, FI分類-C07F 7/08 W, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07F 5/00 CSPH, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2017年06月09日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤及びエポキシ樹脂組成物 FI分類-C08G 59/62, FI分類-H01L 23/30 R
2017年05月29日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩、光酸発生剤、硬化性組成物およびレジスト組成物 FI分類-C08K 5/375, FI分類-C08L 25/18, FI分類-C08L 33/00, FI分類-C08L 61/04, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C07C 381/12 CSP
2017年05月18日 特許庁 / 特許	感光性組成物 FI分類-C08G 73/00, FI分類-G03F 7/031, FI分類-C09K 3/00 T, FI分類-C09B 23/00 E, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 67/20 F, FI分類-G03F 7/038 503, FI分類-G03F 7/004 503 Z
2017年01月12日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07D 221/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2016年12月27日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤 FI分類-C08G 59/40
2016年12月26日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C08K 5/5317, FI分類-C08L 101/00, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2016年09月28日 特許庁 / 特許	光ナノインプリント用硬化性組成物 FI分類-C08F 2/48, FI分類-H01L 21/30 502 D, FI分類-H01L 21/302 105 A
2016年06月30日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤 FI分類-C08G 59/68
2016年04月27日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07D 221/14, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年12月29日 特許庁 / 特許	感光性組成物 FI分類-C08F 2/50, FI分類-C09D 4/00, FI分類-C07C 25/18, FI分類-C07F 9/535, FI分類-C08F 20/18, FI分類-C07C 381/12, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-C09K 3/00 T, FI分類-C09B 23/00 J, FI分類-C09B 23/00 L, FI分類-C09B 23/00 M, FI分類-C09B 67/42 B, FI分類-C07C 43/225 Z
2015年11月24日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤 FI分類-C07F 9/54, FI分類-C08G 59/68
2015年10月13日 特許庁 / 特許	スルホネート化合物、光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07C 309/73, FI分類-C07C 323/60, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-C07C 309/65 CSP, FI分類-C07D 311/16 101, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年09月03日 特許庁 / 特許	硬化性組成物及びそれを用いた硬化体 FI分類-C08G 59/68, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年06月26日 特許庁 / 特許	スルホニウム塩および光酸発生剤 FI分類-C07C 381/12 CSP, FI分類-G03F 7/004 503 A
2015年01月09日 特許庁 / 特許	エポキシ樹脂硬化促進剤、および半導体封止用エポキシ樹脂組成物 FI分類-C07F 9/54, FI分類-C08G 59/56, FI分類-C07F 9/09 Z, FI分類-H01L 23/30 F
2014年11月17日 特許庁 / 特許	光塩基発生剤 FI分類-C07F 5/02 A, FI分類-C09K 3/00 K
2014年02月12日 特許庁 / 特許	光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物 FI分類-C07F 9/576, FI分類-C09K 3/00 K, FI分類-G03F 7/038 601, FI分類-G03F 7/039 601, FI分類-G03F 7/004 503 A, FI分類-H01L 21/30 502 R

サンアプロ株式会社の商標情報(1件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2020年11月20日 特許庁 / 商標	PURECAT 01類

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