有限会社オプトセラミックスとは

有限会社オプトセラミックス(オプトセラミックス)は、法人番号:8130002021874で京都府京都市西京区大原野上里南ノ町519番地の1エルパーク西京大原野405号に所在する法人として京都地方法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、特許情報が13件が登録されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2024年06月27日です。
インボイス番号:T8130002021874については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は京都労働局。京都上労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「有限会社」について(β版)

有限会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、複数の出資者が出資金を出し合い、共同で事業を行う形態です。出資者は株式会社のように株式を持つのではなく、出資額に応じた出資割合で経営に参加します。有限会社は、出資者の責任が出資額に限定されるため、個人の財産が保護されるという利点があります。また、経営権の移転が容易であり、出資者の変更や事業の承継が比較的スムーズに行えるという特徴もあります。

有限会社オプトセラミックスの基本情報

項目 内容
商号又は名称 有限会社オプトセラミックス
商号又は名称(読み仮名)フリガナ オプトセラミックス
法人番号 8130002021874
会社法人等番号 1300-02-021874
登記所 京都地方法務局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T8130002021874
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 有限会社
郵便番号 〒610-1123
※地方自治体コードは 26111
国内所在地(都道府県)都道府県 京都府
※京都府の法人数は 112,327件
国内所在地(市区町村)市区町村 京都市西京区
※京都市西京区の法人数は 4,626件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 大原野上里南ノ町519番地の1エルパーク西京大原野405号
国内所在地(1行表示)1行表示 京都府京都市西京区大原野上里南ノ町519番地の1エルパーク西京大原野405号
国内所在地(読み仮名)読み仮名 -
更新年月日更新日 2024年06月27日
変更年月日変更日 2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 京都労働局
〒604-0846 京都府京都市中京区両替町通御池上ル金吹町451
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 京都上労働基準監督署
〒604-8467 京都府京都市中京区西ノ京大炊御門町19-19

有限会社オプトセラミックスの場所

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有限会社オプトセラミックスの登録履歴

日付 内容
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「有限会社オプトセラミックス」で、「京都府京都市西京区大原野上里南ノ町519番地の1エルパーク西京大原野405号」に新規登録されました。

有限会社オプトセラミックスの法人活動情報

有限会社オプトセラミックスの特許情報(13件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2018年08月17日
特許庁 / 特許
空中結像装置
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G03B 35/18, FI分類-G02B 5/08 D
2017年11月28日
特許庁 / 特許
反射型空中結像素子
FI分類-G02B 27/24, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-H04N 13/302
2016年10月03日
特許庁 / 特許
光学素子の製造方法及び反射型空中結像素子の製造方法
FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-G02B 5/08 C
2016年06月02日
特許庁 / 特許
光学素子の製造方法及び反射型空中結像素子の製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/08 C
2016年04月28日
特許庁 / 特許
光学素子の製造方法及び反射型空中結像素子の製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/08 C, FI分類-G02B 7/00 F
2016年03月11日
特許庁 / 特許
光学素子、マイクロミラーアレイおよび光学素子の製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-C09J 163/00, FI分類-G02B 5/08 A
2016年01月26日
特許庁 / 特許
空中映像表示デバイスおよび空中映像表示装置
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G03B 35/18
2015年06月17日
特許庁 / 特許
結像光学素子およびその製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 7/00 D, FI分類-G02B 7/00 F
2015年03月18日
特許庁 / 特許
光学素子の製造方法およびマイクロミラーアレイの製造方法
FI分類-C03B 33/07, FI分類-C03C 17/09, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-G02B 5/08 C, FI分類-C03C 27/10 D
2015年02月18日
特許庁 / 特許
光学素子及び結像素子の製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/00 Z, FI分類-G02B 5/08 C
2015年02月18日
特許庁 / 特許
光学素子及び結像素子の製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/08 C
2014年12月06日
特許庁 / 特許
空中結像用の光学パネルの製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/08 C, FI分類-C03C 17/06 Z, FI分類-C03C 27/10 D
2014年12月05日
特許庁 / 特許
空中結像用の光学パネルの製造方法
FI分類-G02B 27/22, FI分類-G02B 5/08 A, FI分類-G02B 5/08 C, FI分類-G02B 5/08 Z, FI分類-C03C 27/12 A

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