法人番号:8240005012380
公益財団法人中国地域創造研究センター
情報更新日:2024年08月31日
公益財団法人中国地域創造研究センターとは
公益財団法人中国地域創造研究センター(チュウゴクチイキソウゾウケンキュウセンター)は、法人番号:8240005012380で広島県広島市中区小町4番33号に所在する法人として広島法務局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表理事船木徹。設立日は1987年12月10日。登録情報として、補助金情報が22件、届出情報が2件、商標情報が5件が登録されています。なお、2018年04月02日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2018年04月13日です。
インボイス番号:T8240005012380については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は広島労働局。広島中央労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「公益財団法人」について(β版)
公益財団法人は、公益のために設立された法人であり、特定の目的を達成するために資金や財産を管理・運営する組織です。公益財団法人は、一般財団法人と異なり、国や地方自治体からの認定を受けることで法人格を有し、税制上の優遇措置を受けることができます。公益財団法人は、教育、文化、環境、社会福祉など、社会的な課題の解決や公共の利益の増進を目指して活動しています。また、公益財団法人は、寄付や寄贈を受け入れることができ、その資金を使って活動を行うことができます。
公益財団法人中国地域創造研究センターの基本情報
項目 | 内容 |
---|---|
商号又は名称 | 公益財団法人中国地域創造研究センター |
商号又は名称(読み仮名)フリガナ | チュウゴクチイキソウゾウケンキュウセンター |
法人番号 | 8240005012380 |
会社法人等番号 | 2400-05-012380 |
登記所 | 広島法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T8240005012380 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
法人種別 | その他の設立登記法人 法人格:公益財団法人 |
郵便番号 | 〒730-0041 ※地方自治体コードは 34101 |
国内所在地(都道府県)都道府県 | 広島県 ※広島県の法人数は 111,268件 |
国内所在地(市区町村)市区町村 | 広島市中区 ※広島市中区の法人数は 15,155件 |
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 | 小町4番33号 |
国内所在地(1行表示)1行表示 | 広島県広島市中区小町4番33号 |
国内所在地(読み仮名)読み仮名 | ヒロシマケンヒロシマシナカクコマチ |
代表者 | 代表理事 船木 徹 |
設立日 | 1987年12月10日 |
更新年月日更新日 | 2018年04月13日 |
変更年月日変更日 | 2018年04月02日 |
法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
管轄の労働局労働局 | 広島労働局 〒730-8538 広島県広島市中区上八丁堀6番30号広島合同庁舎第2号館(4F・5F) |
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 広島中央労働基準監督署 〒730-8528 広島県広島市中区上八丁堀6-30広島合同庁舎第2号館1F |
公益財団法人中国地域創造研究センターの場所
公益財団法人中国地域創造研究センターの登録履歴
日付 | 内容 |
---|---|
2018年04月02日 | 【吸収合併】 平成30年4月1日広島市中区小町4番33号公益社団法人中国地方総合研究センター(2240005000705)を合併 |
2018年04月02日 | 【名称変更】 名称が「公益財団法人中国地域創造研究センター」に変更されました。 |
2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「公益財団法人ちゅうごく産業創造センター」で、「広島県広島市中区小町4番33号」に新規登録されました。 |
公益財団法人中国地域創造研究センターの法人活動情報
公益財団法人中国地域創造研究センターの補助金情報(22件)
期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
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2022年08月17日 | 令和4年度地域経済産業活性化対策調査事業(中国地域における半導体関連産業サプライチェーン強化事業) 7,755,408円 |
2022年06月28日 | 令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業「光学センサによる近接計測性能と画角再現性を有したインフラ点検UAVの開発」【(株)計測リサーチコンサルタントほか】 29,465,858円 |
2022年04月01日 | 令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業「光を自在に操る「高出力光用 空間偏光・位相変調器」量産のためのミニマルファブの構築」【オオアサ電子(株)ほか】 26,761,518円 |
2021年06月29日 | 令和3年度地域新成長産業創出促進事業費補助金(地域産業デジタル化支援事業)_医療関連分野におけるデジタル技術を活用した新事業創出支援事業 13,786,224円 |
2021年06月29日 | 令和3年度地域新成長産業創出促進事業費補助金(地域産業デジタル化支援事業)_エレクトロニクス装置ビジネスのバリューチェーン高度化事業 13,780,230円 |
2021年06月29日 | 令和3年度地域新成長産業創出促進事業費補助金(地域産業デジタル化支援事業)_運動器・フィットネス領域における新事業創出支援事業 13,775,505円 |
2021年06月16日 | 令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「光学センサによる近接計測性能と画角再現性を有したインフラ点検UAVの開発」【(株)計測リサーチコンサルタントほか】 29,118,485円 |
2021年04月26日 | 令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「マイルドプラズマ処理と精密ラミネートによるフッ素樹脂と銅箔を直接接合する低損失基板製造技術の開発」【エステック(株)ほか】 23,557,491円 |
2021年04月01日 | 令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「光を自在に操る「高出力光用 空間偏光・位相変調器」量産のためのミニマルファブの構築」【オオアサ電子(株)ほか】 35,042,139円 |
2021年04月01日 | 令和3年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「深部加熱が可能で抜群の省エネルギー化を実現する革新的な磁気加熱式によるアルミ押出加工用アルミビレット加熱装置の実用化開発」【テラル(株)ほか】 24,174,483円 |
2020年10月29日 | 令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「光学センサによる近接計測性能と画角再現性を有したインフラ点検UAVの開発」【(株)計測リサーチコンサルタントほか】 28,877,267円 |
2020年09月09日 | 令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「光を自在に操る「高出力光用 空間偏光・位相変調器」量産のためのミニマルファブの構築」【オオアサ電子(株)ほか】 34,249,233円 |
2020年06月23日 | 令和2年度戦略的基盤技術高度化支援事(戦略的基盤技術高度化支援事業)「マイルドプラズマ処理と精密ラミネートによるフッ素樹脂と銅箔を直接接合する低損失基板製造技術の開発」【エステック(株)ほか】 35,644,844円 |
2020年06月09日 | 令和2年度戦略的基盤技術高度化支援事(戦略的基盤技術高度化支援事業)「深部加熱が可能で抜群の省エネルギー化を実現する革新的な磁気加熱式によるアルミ押出加工用アルミビレット加熱装置の実用化開発」【テラル(株)ほか】 34,650,839円 |
2019年08月05日 | 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「深部加熱が可能で抜群の省エネルギー化を実現する革新的な磁気加熱式によるアルミ押出加工用アルミビレット加熱装置の実用化開発」テラル(株)ほか 36,183,840円 |
2019年07月29日 | 令和元年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)「マイルドプラズマ処理と精密ラミネートによるフッ素樹脂と銅箔を直接接合する低損失基板製造技術の開発」エステック(株)ほか 37,644,091円 |
2019年04月24日 | 平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(銅ナノ粒子ペーストを用いた大型ガラス基板への高精度スクリーン印刷と多面取り加工技術を用いた次世代パワー半導体用実装基板の新製造技術の開発)(株)日本マイクロシステムほか 19,815,649円 |
2019年04月01日 | 平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業(継続分)鋳放し無チル化を可能にする金型球状黒鉛鋳鉄鋳物の大量生産技術の研究開発 17,884,907円 |
2017年10月10日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(銅ナノ粒子ペーストを用いた大型ガラス基板への高精度スクリーン印刷と多面取り加工技術を用いた次世代パワー半導体用実装基板の新製造技術の開発) 中小企業経営支援等対策費補助金 44,976,548円 |
2017年09月22日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(鋳放し無チル化を可能にする金型球状黒鉛鋳鉄鋳物の大量生産技術の研究開発) 中小企業経営支援等対策費補助金 42,842,839円 |
2017年04月03日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(高強度・軽量で低コストの炭素繊維複合体作製を可能とするプラズマ照射技術・装置の開発) 中小企業経営支援等対策費補助金 22,177,036円 |
2017年04月03日 | 平成29年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(医療・介護用サポーター等に持続的な抗菌効果を付加するための再生リチャージ可能な抗菌繊維の開発) 中小企業経営支援等対策費補助金 22,185,718円 |
公益財団法人中国地域創造研究センターの届出情報(2件)
日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
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2011年03月25日 | 公益法人Information / 公益認定 - |
- | 代表者:代表理事 船木 徹 全省庁統一資格 / - |
公益財団法人中国地域創造研究センターの商標情報(5件)
日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
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2018年11月05日 特許庁 / 商標 | HIROSHIMA\EKIMACHI 41類 |
2017年12月21日 特許庁 / 商標 | §CRI 35類, 41類, 42類 |
2017年04月10日 特許庁 / 商標 | 中国地域創造研究センター 35類, 41類, 42類 |
2017年04月10日 特許庁 / 商標 | 中国創研 35類, 41類, 42類 |
2017年04月10日 特許庁 / 商標 | CRIRC 35類, 41類, 42類 |
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