日本ポリテック株式会社とは

日本ポリテック株式会社(ニッポンポリテック)は、法人番号:9010101002935で東京都八王子市弐分方町370番地1に所在する法人として東京法務局八王子支局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。登録情報として、特許情報が14件商標情報が2件が登録されています。なお、2022年05月09日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2022年05月11日です。
インボイス番号:T9010101002935については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。八王子労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
 

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。

日本ポリテック株式会社の基本情報

項目 内容
商号又は名称 日本ポリテック株式会社
商号又は名称(読み仮名)フリガナ ニッポンポリテック
法人番号 9010101002935
会社法人等番号 0101-01-002935
登記所 東京法務局八王子支局
※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号
※2024年08月31日更新
インボイス番号
T9010101002935
※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。
(2024年08月31日現在)
法人種別 株式会社
郵便番号 〒193-0822
※地方自治体コードは 13201
国内所在地(都道府県)都道府県 東京都
※東京都の法人数は 1,313,319件
国内所在地(市区町村)市区町村 八王子市
※八王子市の法人数は 21,576件
国内所在地(丁目番地等)丁目番地 弐分方町370番地1
国内所在地(1行表示)1行表示 東京都八王子市弐分方町370番地1
国内所在地(読み仮名)読み仮名 トウキョウトハチオウジシニブカタマチ
電話番号TEL 042-652-0216
FAX番号FAX 042-652-0218
ホームページHP http://www.nptcorp.com/
更新年月日更新日 2022年05月11日
変更年月日変更日 2022年05月09日
法人番号指定年月日指定日 2015年10月05日
※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局 東京労働局
〒102-8305~〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階~14階
管轄の労働基準監督署労働基準監督署 八王子労働基準監督署
〒192-0046 東京都八王子市明神町3-8-10

日本ポリテック株式会社の場所

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日本ポリテック株式会社の登録履歴

日付 内容
2022年05月09日
【吸収合併】
令和4年5月1日東京都八王子市弐分方町370番地1SBBS株式会社(3010101013979)を合併
2015年10月05日
【新規登録】
名称が「日本ポリテック株式会社」で、「東京都八王子市弐分方町370番地1」に新規登録されました。

日本ポリテック株式会社の関連情報

項目内容
情報名日本ポリテック株式会社
情報名 読みニホンポリテツク
住所東京都八王子市弐分方町370-1
電話番号042-652-0216

日本ポリテック株式会社の法人活動情報

日本ポリテック株式会社の特許情報(14件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2019年05月27日
特許庁 / 特許
感光性樹脂組成物、有機EL素子隔壁、及び有機EL素子
FI分類-G03F 7/023, FI分類-C08L 101/00, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/038 503
2018年09月10日
特許庁 / 特許
感光性樹脂組成物、有機EL素子隔壁、及び有機EL素子
FI分類-G03F 7/023, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505
2018年09月10日
特許庁 / 特許
感光性樹脂組成物、有機EL素子隔壁、及び有機EL素子
FI分類-C08G 59/40, FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505
2018年04月06日
特許庁 / 特許
感光性樹脂組成物
FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/022 601
2018年04月06日
特許庁 / 特許
樹脂組成物
FI分類-G03F 7/033, FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/023 501, FI分類-G03F 7/032 501
2017年09月27日
特許庁 / 特許
ポジ型感光性樹脂組成物及びチタンブラック分散液
FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/10, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/004 504, FI分類-G03F 7/004 505
2017年04月10日
特許庁 / 特許
硬化性組成物、該組成物を用いる硬化膜およびオーバーコート膜
FI分類-C08K 5/00, FI分類-C08G 18/42, FI分類-C08L 75/06, FI分類-C08L 101/02, FI分類-C09D 163/00, FI分類-C09D 175/06, FI分類-C09D 201/02, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-C09D 179/08 Z, FI分類-C08G 18/34 030
2017年04月10日
特許庁 / 特許
硬化性組成物、該組成物を用いる硬化膜およびオーバーコート膜
FI分類-C08G 18/10, FI分類-C08G 59/40, FI分類-C08G 73/10, FI分類-C08L 101/02, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08G 18/32 015, FI分類-H05K 1/03 610 N
2016年12月13日
特許庁 / 特許
新規ポリウレタン、硬化性組成物、オーバーコート膜ならびにフレキシブル配線板およびその製造方法
FI分類-C08K 3/26, FI分類-C08K 3/36, FI分類-C08G 59/42, FI分類-C08L 75/06, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-C08L 63/00 A, FI分類-C08G 18/08 019, FI分類-C08G 18/32 015, FI分類-C08G 18/66 040
2016年11月17日
特許庁 / 特許
硬化性組成物、硬化物、オーバーコート膜、被覆フレキシブル配線板およびその製造方法
FI分類-C08L 75/06, FI分類-H05K 3/28 C, FI分類-C08L 63/00 Z, FI分類-C08G 18/66 059
2016年10月19日
特許庁 / 特許
ポジ型感光性樹脂組成物
FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/12 B, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/004 505, FI分類-G03F 7/023 511
2015年10月21日
特許庁 / 特許
ポジ型感光性樹脂組成物
FI分類-C08G 8/30, FI分類-C08G 59/16, FI分類-G03F 7/023, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C08F 220/20, FI分類-H05B 33/14 A, FI分類-H05B 33/22 Z, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/023 511
2015年07月16日
特許庁 / 特許
ポジ型感光性樹脂組成物
FI分類-G03F 7/023, FI分類-G03F 7/20 501, FI分類-G03F 7/20 521, FI分類-G03F 7/40 501, FI分類-G03F 7/023 511
2014年01月31日
特許庁 / 特許
感放射線組成物および放射線リソグラフィー構造物の製造方法
FI分類-G03F 7/004 501, FI分類-G03F 7/023 511, FI分類-H01L 21/30 502 R

日本ポリテック株式会社の商標情報(2件)

日付
公表組織 / 種類
活動対象 / 分類等
2020年03月19日
特許庁 / 商標
NPT
01類
2020年03月19日
特許庁 / 商標
§N
01類

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