法人番号:9012401010270
ローツェイアス株式会社
情報更新日:2025年03月13日
ローツェイアス株式会社とは
ローツェイアス株式会社（ローツェイアス）は、法人番号:9012401010270で東京都日野市日野本町2丁目2番地の1に所在する法人として東京法務局府中支局で法人登録され、2015年10月05日に法人番号が指定されました。代表者は、代表取締役川端克彦。設立日は2004年12月09日。登録情報として、補助金情報が1件、届出情報が1件、特許情報が13件、商標情報が2件が登録されています。なお、2025年03月04日に法人番号公表サイトでは登録情報が変更されています。法人番号公表サイトでの最終更新日は2025年03月13日です。
インボイス番号:T9012401010270については、2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されています。
この地域の労働局は東京労働局。八王子労働基準監督署が所轄の労働基準監督署です。
名称の「株式会社」について(β版)
株式会社は、法人格を持つ組織形態の一つであり、株主が出資することによって設立されます。株式会社は、株主の出資額に応じた株式を発行し、経営を行います。株主は株式を所有することで、会社の経営に参加する権利を持ちます。また、株式会社は独立した法的存在であり、株主の責任は出資額に限定されます。株式会社は、経営の安定性や資金調達の容易さなどの利点を持ち、多くの企業がこの形態を選択しています。
ローツェイアス株式会社の基本情報
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 商号又は名称 | ローツェイアス株式会社 |
| 商号又は名称（読み仮名）フリガナ | ローツェイアス |
| 法人番号 | 9012401010270 |
| 会社法人等番号 | 0124-01-010270 |
| 登記所 | 東京法務局府中支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。 |
| インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号 |
T9012401010270 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在) |
| 法人種別 | 株式会社 |
| 郵便番号 | 〒191-0011 ※地方自治体コードは 13212 |
| 国内所在地（都道府県）都道府県 | 東京都 ※東京都の法人数は 1,319,020件 |
| 国内所在地（市区町村）市区町村 | 日野市 ※日野市の法人数は 4,552件 |
| 国内所在地（丁目番地等）丁目番地 | 日野本町2丁目2番地の1 |
| 国内所在地（1行表示）1行表示 | 東京都日野市日野本町2丁目2番地の1 |
| 国内所在地（読み仮名）読み仮名 | トウキョウトヒノシヒノホンマチ2チョウメ |
| 代表者 | 代表取締役 川端 克彦 |
| 設立日 | 2004年12月09日 |
| 更新年月日更新日 | 2025年03月13日 |
| 変更年月日変更日 | 2025年03月04日 |
| 法人番号指定年月日指定日 | 2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。 |
| 管轄の労働局労働局 | 東京労働局 〒102-8305～〒102-8307 東京都千代田区九段南1丁目2番1号 九段第3合同庁舎12階～14階 |
| 管轄の労働基準監督署労働基準監督署 | 八王子労働基準監督署 〒192-0046 東京都八王子市明神町3-8-10 |
ローツェイアス株式会社の場所
ローツェイアス株式会社の登録履歴
| 日付 | 内容 |
|---|---|
| 2025年03月04日 | 【名称変更】 名称が「ローツェイアス株式会社」に変更されました。 |
| 2021年05月19日 | 【住所変更】 国内所在地が「東京都日野市日野本町2丁目2番地の1」に変更されました。 |
| 2015年10月05日 | 【新規登録】 名称が「株式会社イアス」で、「東京都国立市富士見台4丁目39番地の5、916」に新規登録されました。 |
ローツェイアス株式会社の法人活動情報
ローツェイアス株式会社の補助金情報(1件)
| 期間 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 / 金額 |
|---|---|
2023年06月26日 | 令和4年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(SiCおよびGaNウェーハおよび薄膜中の極微量金属不純物定量分析装置の開発) 21,239,000円 |
ローツェイアス株式会社の届出情報(1件)
| 日付 公表組織 |
活動名称 / 活動対象 |
|---|---|
- | 代表者:代表取締役 川端 克彦 全省庁統一資格 / - |
ローツェイアス株式会社の特許情報(13件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2019年08月29日 特許庁 / 特許 | 金属微粒子の分析方法および誘導結合プラズマ質量分析方法 FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-H01J 49/00 360, FI分類-H01J 49/04 450, FI分類-H01J 49/10 500 |
2018年12月26日 特許庁 / 特許 | 基板分析方法および基板分析装置 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-H01L 21/66 N |
2018年04月13日 特許庁 / 特許 | シリコン基板の分析方法 FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 V |
2017年07月18日 特許庁 / 特許 | 基板分析用ノズル及び基板分析方法 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 1/00 101 G |
2016年10月18日 特許庁 / 特許 | 基板分析用のノズル FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-H01L 21/66 L, FI分類-G01N 1/00 101 K |
2016年04月27日 特許庁 / 特許 | ガス状水銀又はスチビンの測定方法及び測定装置 FI分類-G01N 1/22 J, FI分類-G01N 31/00 T |
2015年12月22日 特許庁 / 特許 | シリコン基板用分析装置 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 1/32 B, FI分類-G01N 27/62 V |
2015年08月21日 特許庁 / 特許 | オンライン移送した分析試料の分析システム FI分類-G01N 21/73 |
2015年01月05日 特許庁 / 特許 | 元素分析方法 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 31/00 Y, FI分類-G01N 31/12 B |
2014年09月11日 特許庁 / 特許 | シリコン基板の分析方法 FI分類-G01N 1/28 N, FI分類-H01L 21/66 L |
2014年08月20日 特許庁 / 特許 | 基板局所の自動分析装置及び分析方法 FI分類-G01N 1/28 X, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-G01N 35/06 A, FI分類-G01N 1/00 101 G |
2014年08月13日 特許庁 / 特許 | レーザーアブレーションICP分析方法及び分析装置 FI分類-G01N 1/28 T, FI分類-G01N 27/62 F, FI分類-G01N 27/62 G, FI分類-G01N 27/62 V |
2014年01月21日 特許庁 / 特許 | 基板のエッチング装置及び基板のエッチング方法 FI分類-H01L 21/302 201 A |
ローツェイアス株式会社の商標情報(2件)
| 日付 公表組織 / 種類 |
活動対象 / 分類等 |
|---|---|
2018年10月24日 特許庁 / 商標 | §GED 09類 |
2015年01月26日 特許庁 / 商標 | IAS 09類 |
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