株式会社昭和真空

株式会社昭和真空とは

名称の「株式会社」について(β版)

株式会社昭和真空の基本情報

項目	内容
商号又は名称	株式会社昭和真空
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ショウワシンクウ
法人番号	9021001012619
会社法人等番号	0210-01-012619
登記所	横浜地方法務局湘南支局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T9021001012619 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒252-0244 ※地方自治体コードは 14152
国内所在地（都道府県）都道府県	神奈川県 ※神奈川県の法人数は 366,671件
国内所在地（市区町村）市区町村	相模原市中央区 ※相模原市中央区の法人数は 10,463件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	田名3062番地10
国内所在地（1行表示）1行表示	神奈川県相模原市中央区田名3062番地10
国内所在地（読み仮名）読み仮名	カナガワケンサガミハラシチュウオウクタナ
代表者	代表取締役 小俣 邦正
設立日	1958年08月26日
資本金	21億7,710万5,000円 (2024年06月28日現在)
従業員数	197人 (2024年06月28日現在)
更新年月日更新日	2018年07月05日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	神奈川労働局 〒231-8434 神奈川県横浜市中区北仲通5丁目57番地横浜第2合同庁舎
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	相模原労働基準監督署 〒252-0236 神奈川県相模原市中央区富士見6-10-10 相模原地方合同庁舎4階

株式会社昭和真空の場所

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株式会社昭和真空の補足情報

項目	内容
企業名 読み仮名	カブシキガイシャショウワシンクウ
企業名 英語	SHOWA SHINKU CO.,LTD.
上場・非上場	上場
資本金	21億7,700万円
業種	機械
証券コード	63840

株式会社昭和真空の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「株式会社昭和真空」で、「神奈川県相模原市中央区田名3062番地10」に新規登録されました。

株式会社昭和真空の関連情報

項目	内容
情報名	株式会社昭和真空 相模原工場
情報名 読み	ショウワシンクウサガミハラコウジョウ
住所	神奈川県相模原市中央区田名3062-10
電話番号	042-764-0321

株式会社昭和真空の法人活動情報

株式会社昭和真空の補助金情報(6件)

期間 公表組織	活動名称 / 活動対象 / 金額
2019年04月01日 経済産業省	平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(SAWフィルタ生産性向上に資するSiO?膜用スパッタ装置開発) 20,184,665円
2019年04月01日 経済産業省	平成31年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(SAWフィルタ生産性向上に資するSiO?膜用スパッタ装置開発) -
2011年01月01日 経済産業省	地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 本研究では、1ミリ以下の水晶振動子を微小量削る技術、計測する技術、迅速処理技術を実用化し、現在可能な周波数調整の能力月産200万個から、市場を元に次世代サイズに要求される月産400万個に対応した周波数調整方法を確立し、新型周波数調整装置を開発することを目的としている。 8,636,250円
2011年01月01日 経済産業省	地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 従来の希少元素からなるITO膜に替わる新しい高透過率透明導電膜を、フレキシブル基板上に形成する技術の開発。スパッタおよび真空処理技術を利用したMg(OH)2-C透明導電性フィルムのガラス基板上への付着膜をフレキシブル基板上に連続成膜するプロセスを開発する。 3,404,100円
2010年01月01日 経済産業省	地域イノベーション・基盤高度化促進委託費 本研究では、1ミリ以下の水晶振動子を微小量削る技術、計測する技術、迅速処理技術を実用化し、現在可能な周波数調整の能力月産200万個から、市場を元に次世代サイズに要求される月産400万個に対応した周波数調整方法を確立し、新型周波数調整装置を開発することを目的としている。 6,061,650円
2022年03月24日 経済産業省	令和2年度中小企業経営支援等対策費補助金(戦略的基盤技術高度化支援事業)(SAWフィルタ生産性向上に資するSiO?成膜用スパッタ装置開発) 15,114,665円

株式会社昭和真空の表彰情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2018年12月25日 経済産業省	地域未来牽引企業

株式会社昭和真空の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
- デジタル庁	代表者:代表取締役 小俣 邦正 全省庁統一資格 / -

株式会社昭和真空の特許情報(22件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2022年09月14日 特許庁 / 特許	水晶デバイスの製造法 FI分類-H03H 3/02 B, FI分類-H03H 9/19 C
2020年03月10日 特許庁 / 特許	蒸着源 FI分類-H01L 27/32, FI分類-H05B 33/10, FI分類-C23C 14/24 A, FI分類-H05B 33/14 A
2020年02月28日 特許庁 / 特許	リーク検査方法及びリーク検査装置 FI分類-G01M 3/40 Z, FI分類-H03H 3/02 A, FI分類-H03H 3/02 B
2020年02月19日 特許庁 / 特許	プラズマ処理装置、バイアス印加機構、および基板パレット FI分類-C23C 14/34 J, FI分類-C23C 14/50 D, FI分類-H01L 21/68 U
2019年05月09日 特許庁 / 特許	プローブピン位置合せ装置及びプローブピン位置合せ装置を使用した電子デバイスの製造方法 FI分類-G01R 31/00, FI分類-G01R 1/06 Z, FI分類-G01R 29/22 A, FI分類-G01R 29/22 Z, FI分類-G01R 31/26 J, FI分類-G01R 31/28 K
2017年10月13日 特許庁 / 特許	環状成膜方法、環状成膜具および環状成膜用マスク FI分類-G02B 5/00 B, FI分類-G02B 7/02 D, FI分類-C23C 14/04 A
2017年09月29日 特許庁 / 特許	膜厚監視装置、成膜装置及び膜厚監視方法 FI分類-C23C 14/52, FI分類-C23C 14/54 C, FI分類-G01B 17/02 A, FI分類-H01L 21/31 B
2017年07月25日 特許庁 / 特許	反応性スパッタリングの膜厚制御方法および装置 FI分類-C23C 14/34 S
2017年07月20日 特許庁 / 特許	プラズマ生成装置及びイオン源 FI分類-H01J 27/16, FI分類-H01J 37/08, FI分類-H05H 1/46 A, FI分類-H05H 1/46 L, FI分類-C23C 14/34 F, FI分類-H01L 21/302 201 B
2017年03月27日 特許庁 / 特許	電子ビーム発生装置およびコレクタ電極 FI分類-H01J 27/16
2017年03月09日 特許庁 / 特許	封止機構 FI分類-B65B 51/10 P, FI分類-H01L 23/02 C, FI分類-H01L 23/02 D
2016年10月12日 特許庁 / 特許	電子部品の製造方法および装置 FI分類-B65G 49/00 A, FI分類-H01L 21/68 A
2016年10月12日 特許庁 / 特許	電子部品の製造方法および装置 FI分類-H01L 21/68 A
2016年03月31日 特許庁 / 特許	成膜装置及び成膜方法 FI分類-C23C 16/44 J, FI分類-H01L 21/31 C
2016年03月17日 特許庁 / 特許	電子部品の移載方法および装置 FI分類-B25J 15/00 Z, FI分類-B65G 49/06 Z, FI分類-H01L 23/02 Z, FI分類-H03H 3/007 A, FI分類-H05K 13/02 Z
2016年02月16日 特許庁 / 特許	膜厚監視装置 FI分類-G01B 21/08, FI分類-C23C 14/54 C
2016年01月08日 特許庁 / 特許	成膜方法及び成膜装置 FI分類-C23C 14/04 Z, FI分類-C23C 14/50 B, FI分類-H01L 21/68 N, FI分類-H01L 21/68 U
2015年11月27日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-C23C 14/50 J, FI分類-C23C 16/44 G
2015年02月27日 特許庁 / 特許	多層膜被覆樹脂基板およびその製造方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-C23C 16/42, FI分類-G02B 1/115, FI分類-B32B 9/00 A, FI分類-C23C 16/455
2015年01月26日 特許庁 / 特許	成膜装置 FI分類-B65G 49/07 D, FI分類-C23C 14/50 J, FI分類-C23C 14/50 K, FI分類-H01L 21/68 A
2014年10月29日 特許庁 / 特許	蒸発材料補充装置及び蒸発材料補充方法 FI分類-H05H 6/00, FI分類-G21K 5/08 N, FI分類-C23C 14/24 D
2014年01月14日 特許庁 / 特許	成膜方法 FI分類-C23C 16/40, FI分類-H01L 21/316 X, FI分類-H01L 33/00 432

株式会社昭和真空の商標情報(5件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2021年09月21日 特許庁 / 商標	EPIoT 09類
2019年06月10日 特許庁 / 商標	SHOWA SHINKU 07類
2017年11月16日 特許庁 / 商標	COÅT LEADER 09類
2016年06月17日 特許庁 / 商標	§SEARCHROID 07類, 09類
2016年06月17日 特許庁 / 商標	SEARCHROID 07類, 09類

株式会社昭和真空の職場情報

項目	データ
事業概要	真空装置の製造、販売。
企業規模	196人 男性 178人 / 女性 18人

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