直江津電子工業株式会社

直江津電子工業株式会社とは

名称の「株式会社」について(β版)

直江津電子工業株式会社の基本情報

項目	内容
商号又は名称	直江津電子工業株式会社
商号又は名称（読み仮名）フリガナ	ナオエツデンシコウギョウ
法人番号	9110001019540
会社法人等番号	1100-01-019540
登記所	新潟地方法務局 ※法人設立時に登記が提出された登記所を表示しています。
インボイス登録番号 ※2024年08月31日更新 インボイス番号	T9110001019540 ※2023年10月01日に適格請求書発行事業者として登録されました。 (2024年08月31日現在)
法人種別	株式会社
郵便番号	〒942-0157 ※地方自治体コードは 15222
国内所在地（都道府県）都道府県	新潟県 ※新潟県の法人数は 75,648件
国内所在地（市区町村）市区町村	上越市 ※上越市の法人数は 6,432件
国内所在地（丁目番地等）丁目番地	頸城区城野腰596番地の2
国内所在地（1行表示）1行表示	新潟県上越市頸城区城野腰596番地の2
国内所在地（読み仮名）読み仮名	ニイガタケンジョウエツシクビキクジョウノコシ
電話番号TEL	025-530-2631
ホームページHP	https://www.naoden.co.jp/
更新年月日更新日	2018年06月05日
変更年月日変更日	2015年10月05日
法人番号指定年月日指定日	2015年10月05日 ※2015年10月05日以前に設立された法人は、全て2015年10月05日で表示されます。
管轄の労働局労働局	新潟労働局 〒950-8625 新潟県新潟市中央区美咲町1-2-1 新潟美咲合同庁舎2号館
管轄の労働基準監督署労働基準監督署	上越労働基準監督署 〒943-0803 新潟県上越市春日野1-5-22上越地方合同庁舎

直江津電子工業株式会社の場所

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直江津電子工業株式会社の登録履歴

日付	内容
2015年10月05日	【新規登録】 名称が「直江津電子工業株式会社」で、「新潟県上越市頸城区城野腰596番地の2」に新規登録されました。

直江津電子工業株式会社の関連情報

項目	内容
情報名	直江津電子工業株式会社
情報名 読み	ナオエツデンシコウギョウ
住所	新潟県上越市頸城区城野腰596-2
電話番号	025-530-2631

直江津電子工業株式会社の法人活動情報

直江津電子工業株式会社の表彰情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2014年01月01日 経済産業省	関東地区省エネルギー月間表彰

直江津電子工業株式会社の届出情報(1件)

日付 公表組織	活動名称 / 活動対象
2017年11月29日 経済産業省	支店:直江津電子工業株式会社 直江津電子工業株式会社 PRTR届出データ / PRTR - 電気機械器具製造業(経済産業大臣)

直江津電子工業株式会社の特許情報(24件)

日付 公表組織 / 種類	活動対象 / 分類等
2023年01月12日 特許庁 / 特許	拡散ウエハの製造方法および拡散ウエハの製造システム FI分類-H01L 21/22 P, FI分類-H01L 21/22 Y, FI分類-H01L 21/66 P, FI分類-H01L 21/304 611 Z
2022年01月31日 特許庁 / 特許	排ガス処理システムおよび排ガス処理方法 FI分類-B01D 53/56 200, FI分類-B01D 53/78 ZAB
2022年01月31日 特許庁 / 特許	排ガス処理システムおよび排ガス処理方法 FI分類-B01D 53/56 200, FI分類-B01D 53/78 ZAB
2021年08月30日 特許庁 / 特許	ワーク研磨装置、研磨補助装置およびワーク製造方法 FI分類-B24B 37/10, FI分類-B24B 37/30 Z, FI分類-B24B 41/06 L, FI分類-H01L 21/304 622 R
2021年08月30日 特許庁 / 特許	ワーク研磨装置および研磨補助装置 FI分類-B24B 37/10, FI分類-B24B 47/12, FI分類-H01L 21/304 621 B, FI分類-H01L 21/304 622 G, FI分類-H01L 21/304 622 R
2021年03月30日 特許庁 / 特許	半導体ウエハの評価方法、半導体ウエハの評価システム、プログラム、半導体ウエハの検査方法および半導体ウエハの検査システム FI分類-H01L 21/66 J, FI分類-G01N 21/956 A
2020年12月07日 特許庁 / 特許	投入ロット編成装置、投入ロットの編成方法および投入ロット編成用プログラム FI分類-G06Q 50/04, FI分類-G05B 19/418 Z
2019年08月27日 特許庁 / 特許	半導体ウエハ製造方法、半導体ウエハ製造システム、および、半導体ウエハ製造用のコンピュータープログラム FI分類-H01L 21/22 Z
2019年03月01日 特許庁 / 特許	ワークの切断加工方法及びワークの切断加工装置 FI分類-B28D 7/04, FI分類-B28D 5/04 C, FI分類-B24B 27/06 D, FI分類-H01L 21/304 611 W
2019年02月13日 特許庁 / 特許	ワークの切断方法及びワークの切断装置 FI分類-B28D 5/04 C, FI分類-B28D 5/04 Z, FI分類-B24B 27/06 Q, FI分類-H01L 21/304 611 W
2018年02月02日 特許庁 / 特許	厚さ測定装置、制御装置および厚さ測定方法 FI分類-G01B 11/06 G, FI分類-H01L 21/66 P
2018年01月10日 特許庁 / 特許	半導体ウエハ及びその製造方法 FI分類-C30B 33/00, FI分類-H01L 21/22 P
2017年10月04日 特許庁 / 特許	熱電変換素子及びその製造方法並びに熱電変換モジュール FI分類-H01L 35/08, FI分類-H01L 35/14, FI分類-H01L 35/34
2017年06月12日 特許庁 / 特許	研磨方法及び研磨装置 FI分類-B24B 37/005 A, FI分類-H01L 21/304 622 K
2017年02月08日 特許庁 / 特許	乾式研磨方法及び乾式研磨装置 FI分類-B24B 37/10, FI分類-H01L 21/304 621 Z
2016年07月06日 特許庁 / 特許	拡散ウエハの製造方法 FI分類-H01L 21/22 P
2016年04月11日 特許庁 / 特許	導電膜付き柱状インゴット基板及びその製造方法、シリサイド系熱電変換素子及びその製造方法、熱電変換モジュール、並びにシリサイド系熱電変換素子の電極層形成用組成物 FI分類-H01L 35/14, FI分類-H01L 35/34, FI分類-C22C 1/04 B, FI分類-C22C 1/05 N, FI分類-C22C 19/03 M, FI分類-C04B 35/58 106 Z
2015年09月03日 特許庁 / 特許	単結晶ウェーハの表裏判定方法 FI分類-G01N 23/207
2015年08月11日 特許庁 / 特許	拡散ウエハ及びその製造方法 FI分類-C30B 31/02, FI分類-H01L 21/22 P, FI分類-H01L 21/225 Q
2015年07月27日 特許庁 / 特許	ワークホルダー及びワークの切断方法 FI分類-B28D 7/04, FI分類-B28D 5/04 C, FI分類-B24B 27/06 D, FI分類-H01L 21/304 611 W
2014年03月05日 特許庁 / 特許	半導体エピタキシャルウェーハの製造方法 FI分類-C23C 16/34, FI分類-C23C 16/56, FI分類-H01L 21/20, FI分類-H01L 21/205
2014年03月04日 特許庁 / 特許	エピタキシャルウェーハの製造方法及びエピタキシャルウェーハ FI分類-C23C 16/02, FI分類-C23C 16/34, FI分類-H01L 21/205
2014年02月24日 特許庁 / 特許	電極印刷装置及び電極印刷方法 FI分類-B41F 15/26 A, FI分類-H05K 3/12 610 N, FI分類-B41F 15/08 303 E
2014年02月24日 特許庁 / 特許	熱電変換材料の製造装置及び製造方法 FI分類-H01L 35/34, FI分類-B22F 3/14 101 B

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